多層涂層包含多個(gè)交替的鎳或含鎳合金的第一層和包含鎳和鈷的合金的第二層； 其中所述一個(gè)或多個(gè)多層涂層包含約50至約100、約100至約1，000、約1,000至約2，000、約2，000至約4，000、約4，000至約8，000個(gè)或大于8，000個(gè)的交替的第一層和第二層，所述第一層和第二層對(duì)于每個(gè)多層涂層被獨(dú)立地選擇； 其中每個(gè)所述第一層和每個(gè)所述第二層具有在獨(dú)立地選自約5nm至約200nm、約5nm至約25nm、約10nm至約30nm、約30nm至約60nm、約40nm至約80nm、約75nm至約lOOnm、約lOOnm 至約 120nm、約 120nm 至約 140nm、約 140nm 至約 180nm、約 180nm 至約 200nm 或約 200至約250nm的范圍內(nèi)的厚度；并且 其中所述涂覆制品的破裂壓力和坍塌壓力相對(duì)于具有相同的外形尺寸和組成但未涂覆的所述制品或基本上相同的制品得以增加。2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述表面是內(nèi)表面或外表面，并且其中對(duì)于至少一個(gè)多層涂層，所述第一層與所述內(nèi)表面或外表面相接觸。3.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述表面是內(nèi)表面或外表面，并且其中對(duì)于至少一個(gè)多層涂層，所述第二層與所述內(nèi)表面或外表面相接觸。4.如權(quán)利要求1所述的方法，其中每個(gè)所述第一層包含大于約50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、92%、93%、94%、95%、96%、97%、98%或 99%鎳。5.如權(quán)利要求1所述的方法，其中每個(gè)第二層包含在獨(dú)立地選自5%-35%、5% -10%Α0% ~15%Λ5% -20%,20% -25%,25% -30%或 30% -35%的范圍內(nèi)的鈷。6.如權(quán)利要求4所述的方法，其中每個(gè)第一層包含在獨(dú)立地選自50% -55 %、55 % -60 %、60 % -65 %、65 % -70 %、70 % -75 %、75 % -80 %、80 % -85 %、85 % -90%,90% -92%,92% -93%,93% -94%,94% -95%,95% -96%,96% -97%,97% -98 % 或98% -99%的范圍內(nèi)的鎳并且所述層的其余成分為鈷。7.如權(quán)利要求5所述的方法，其中每個(gè)第二層包含在獨(dú)立地選自5%-35%,5% -10%、10% -15%、15% -20%,20% -25%,25% -30%或 30% -35%的范圍內(nèi)的鈷并且所述層的其余成分為鎳。8.如權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的方法，其中一個(gè)或多個(gè)所述第一層和/或第二層包含一種或多種、兩種或更多種、三種或更多種或四種或更多種元素，所述元素對(duì)于每個(gè)涂層的每個(gè)層獨(dú)立地選自由以下組成的組:Ag、Al、Au、Be、C、Cr、Cu、Fe、Hg、In、Mg、Mn、Mo、Nb、Nd、Pd、Pt、Re、Rh、Sb、S1、Sn、Pb、Ta、T1、W、V、Zn 和 Zr。9.如權(quán)利要求8所述的方法，其中每種所述元素以0.01%或更大的濃度存在。10.如權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述一個(gè)或多個(gè)電沉積的涂層中的每一個(gè)具有在獨(dú)立地選自1微米至5cm、1微米至50微米、50微米至100微米、100微米至200微米、200微米至500微米、500微米至800微米、800微米至1.2mm、500微米至1mm、1mm至1.5mm、1.2mm 至 2mm、1.8mm 至 2.5mm、2mm 至 3mm、2.5mm 至 5mm、1mm 至 5mm、5mm 至 1cm、lcm至2cm或2cm至5cm的范圍內(nèi)的厚度。11.如權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述制品由包含:碳和鐵；碳、鐵、鉬；或碳、鐵、鉬和鈷的鋼合金形成。12.如權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述制品為具有組成，包括壁、內(nèi)表面和限定外徑的外表面，并且具有外徑/壁厚(D/T)比率的管或管子； 所述方法還包括將所述多層涂層施加于內(nèi)表面和/或外表面中的至少一個(gè)以形成涂覆管； 其中當(dāng)D/T比率為約14至約15時(shí)，所述涂覆管的破裂壓力和/或坍塌壓力相對(duì)于具有所述組成和與所述涂覆管基本上相同的D/T比率的未涂覆管增加約5 %至約22 %、約5 %至約10%、約10%至約15%或約15%至約22% ;并且 其中當(dāng)D/T比率為約15至約21時(shí)，所述涂覆管的破裂壓力和/或坍塌壓力相對(duì)于具有所述組成和與所述涂覆管基本上相同的D/T比率的未涂覆管增加約10%至約36%、約10%至約15%、約15%至約20%、約20%至約25%、約25%至約30%或約30%至約36%。13.如權(quán)利要求12所述的方法，其中所述涂覆管具有約15的D/T比率，并且所述坍塌壓力大于約13，000psi。14.如權(quán)利要求12所述的方法，其中所述涂覆管具有約16的D/T比率并且所述坍塌壓力大于約ll，000psi。15.如權(quán)利要求12所述的方法，其中所述涂覆管具有約17的D/T比率并且所述坍塌壓力大于約10, 500psi ο16.如權(quán)利要求12所述的方法，其中所述涂覆管具有約18的D/T比率并且所述坍塌壓力大于約9，750psi。17.如權(quán)利要求12所述的方法，其中所述涂覆管具有約19的D/T比率并且所述坍塌壓力大于約9，OOOpsi。18.如權(quán)利要求12所述的方法，其中所述涂覆管具有約20的D/T比率并且所述坍塌壓力大于約8，600psi。19.如權(quán)利要求12所述的方法，其中所述涂覆管具有約21的D/T比率并且所述坍塌壓力大于約8，OOOpsi。20.一種制品，其通過(guò)權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的方法來(lái)制備。21.一種具有大致上圓柱形的管，其包括: 由具有組成、內(nèi)表面和外表面的材料組成的壁； 所述管具有包括壁厚、由所述內(nèi)表面限定的內(nèi)徑和由所述外表面限定的外徑的尺寸； 其中所述內(nèi)表面和所述外表面中的至少一個(gè)包含電沉積的多層涂層； 所述管具有破裂壓力和坍塌壓力，其中所述管的所述破裂壓力和/或坍塌壓力大于在其內(nèi)表面或外表面上的涂層不存在下具有基本上相同的組成和尺寸的管的坍塌壓力和/或破裂壓力。22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的管，其中所述多層涂層包含多個(gè)交替的鎳或含鎳合金的第一層和包含鎳和鈷的合金的第二層。23.如權(quán)利要求21所述的管，其中所述多層涂層包含約二至約50、約50至約100、約100至約1，000、約1，000至約2，000、約2，000至約4，000、約4，000至約8，000個(gè)或大于8，000個(gè)的交替的第一層和第二層，所述第一層和第二層對(duì)于每個(gè)多層涂層被獨(dú)立地選擇。24.如權(quán)利要求21所述的管，其中所述第一層各自具有在獨(dú)立地選自約5nm至約200nm、約 5nm 至約 25nm、約 10nm 至約 30nm、約 30nm 至約 60nm、約 40nm 至約 80nm、約 75nm至約 lOOnm、約 lOOnm 至約 120nm、約 120nm 至約 140nm、約 140nm 至約 180nm、約 180nm 至約200nm或約200nm至約250nm的范圍內(nèi)的厚度。25.如權(quán)利要求21所述的管，其中所述第二層各自具有在獨(dú)立地選自約5nm至約200nm、約 5nm 至約 25nm、約 10nm 至約 30nm、約 30nm 至約 60nm、約 40nm 至約 80nm、約 75nm至約 lOOnm、約 lOOnm 至約 120nm、約 120nm 至約 140nm、約 140nm 至約 180nm、約 180nm 至約200nm或約200nm至約250nm的范圍內(nèi)的厚度。26.如權(quán)利要求21所述的管，其中對(duì)于所述電沉積的多層涂層中的至少一個(gè)，所述第一層與所述內(nèi)表面或所述外表面相接觸。27.如權(quán)利要求21所述的管，其中對(duì)于所述電沉積的多層涂層中的至少一個(gè)，所述第二層與所述內(nèi)表面或所述外表面相接觸。28.如權(quán)利要求21所述的管，其中每個(gè)第一層包含在獨(dú)立地選自:50%-55%,55 % -60 %、60 % -65 %、65 % -70 %、70 % -75 %、75 % -80 %、80 % -85 %、85 % -90%,90% -92%,92% -93%,93% -94%,94% -95%,95% -96%,96% -97%,97% -98 % 和98% -99%的范圍內(nèi)的鎳。29.如權(quán)利要求21所述的管，其中每個(gè)第二層包含在獨(dú)立地選自:5%-35%,5% ~10%,10% ~15%,15% -20%,20% -25%,25% -30%和 30% -35%鈷的范圍內(nèi)的鈷。30.如權(quán)利要求28所述的管，其中每個(gè)第一層包含在獨(dú)立地選自:50%-55%,55 % -60 %、60 % -65 %、65 % -70 %、70 % -75 %、75 % -80 %、80 % -85 %、85 % -90%,90% -92%,92% -93%,93% -94%,94% -95%,95% -96%,96% -97%,97% -98 % 和98% -99%的范圍內(nèi)的鎳；并且其中所述第二層的其余成分為鈷。31.如權(quán)利要求29所述的管，其中每個(gè)第二層包含在獨(dú)立地選自:5%-35%,5% ~10%,10% ~15%,15% -20%,20% -25%,25% -30%或 30% -35%的范圍內(nèi)的鈷；并且其中所述層的其余成分為鎳。32.如權(quán)利要求21-29中任一項(xiàng)所述的管，其中一個(gè)或多個(gè)所述第一層和/或第二層包含一種或多種、兩種或更多種、三種或更多種或四種或更多種元素，所述元素對(duì)于每個(gè)層獨(dú)立地選自由以下組成的組:Ag、Al、Au、Be、C、Cr、Cu、Fe、Hg、In、Mg、Mn、Mo、Nb、Nd、Pd、Pt、Re、Rh、Sb、S1、Sn、Pb、Ta、T1、W、V、Zn 和 Zr。33.如權(quán)利要求32所述的管，其中每種所述元素以0.01%或更大的濃度存在。34.如權(quán)利要求21-29中任一項(xiàng)所述的管，其包含約50至約100、約100至約1，000、約 1，000 至約 2，000、約 2，000 至約 4，000、約 4，000 至約 8，000、約 8，000 至約 10，000 或10，000個(gè)或更多的交替的第一層和/或第二層。35.如權(quán)利要求21-29中任一項(xiàng)所述的管，其中在所述內(nèi)表面和/或外表面上的每個(gè)所述電沉積的涂層具有在獨(dú)立地選自1微米至5cm、1微米至50微米、50微米至100微米、100微米至200微米、200微米至500微米、500微米至800微米、800微米至1.2mm、500微米至1mm.1mm 至 1.5mm、1.2mm 至 2mm、1.8mm 至 2.5mm、2mm 至 3mm、2.5mm 至 5mm、1mm 至 5mm、5mm至lcm、lcm至2cm或from 2cm至5cm的范圍內(nèi)的厚度。
【專利摘要】本公開包括用于提高制品，例如管狀金屬制品諸如石油和天然氣產(chǎn)業(yè)中發(fā)現(xiàn)的那些，的物理和/或化學(xué)性質(zhì)的涂層，以及用于制備此類涂層工藝和包含此類涂層的制品。
【IPC分類】C25D5/10
【公開號(hào)】CN105283587
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201480013236
【發(fā)明人】巴特瑞克·羅瑪瑟尼, 克里斯蒂娜·A·羅瑪瑟尼
【申請(qǐng)人】莫杜美拓有限公司
【公開日】2016年1月27日
【申請(qǐng)日】2014年3月18日
【公告號(hào)】CA2905548A1, EP2971264A1, US20160002806, WO2014146114A1