帶有屏蔽裝置的電鍍槽的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及電鍍領(lǐng)域，尤其是一種帶有屏蔽裝置的電鍍槽。
【背景技術(shù)】
[0002]在電鍍工藝中，以待鍍物體作為陰極，以目標(biāo)鍍層金屬或不溶性材料作為陽(yáng)極。陰極和陽(yáng)極保持相對(duì)位置和距離，共同浸在含有目標(biāo)鍍層離子的電鍍液中，并且分別連接電源的負(fù)極和正極。在接通電源時(shí)，電流就會(huì)通過(guò)電源正極一陽(yáng)極一電鍍液一陰極一一電源負(fù)極形成回路，并完成電化學(xué)過(guò)程。在這個(gè)電化學(xué)過(guò)程中，電鍍液中的金屬離子在陰極表面獲得電子后成為金屬原子沉積在陰極表面，并因此形成目標(biāo)鍍層。在帶材的電鍍工藝中，鍍層的均勻性、致密性和附著力是非常重要的。
[0003]對(duì)于帶材的鍍層的均勻性，邊緣效應(yīng)是主要的影響因素。邊緣效應(yīng)主要表現(xiàn)為:在電鍍過(guò)程中，由于在帶材的邊緣區(qū)域內(nèi)有較大的電流密度，導(dǎo)致在帶材的邊緣區(qū)域中比在帶材的中間區(qū)域中產(chǎn)生明顯較厚的鍍層。邊緣效應(yīng)在帶材的電鍍領(lǐng)域是普遍存在的現(xiàn)象，這是電場(chǎng)中電力線分布規(guī)律所導(dǎo)致的。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題在于，提供一種帶有屏蔽裝置的電鍍槽。
[0005]本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:構(gòu)造一種帶有屏蔽裝置的電鍍槽，包括用于容納電鍍液的槽體，以及與電源相連的電極結(jié)構(gòu)；
[0006]所述電鍍槽還包括設(shè)置在所述槽體內(nèi)的一對(duì)屏蔽件，所述電極結(jié)構(gòu)包括分別設(shè)置在所述一對(duì)屏蔽件的外側(cè)的一對(duì)電極板；
[0007]且所述一對(duì)屏蔽件在所述槽體內(nèi)沿水平方向間隔布置，所述一對(duì)屏蔽件的相對(duì)側(cè)分別形成有開(kāi)口，所述兩個(gè)開(kāi)口之間形成有一料帶通路空間。
[0008]本實(shí)用新型的帶有屏蔽裝置的電鍍槽中，所述屏蔽件是由絕緣材料制成的V形槽。
[0009]本實(shí)用新型的帶有屏蔽裝置的電鍍槽中，所述一對(duì)V形槽的相對(duì)開(kāi)口之間的距離為所述料帶通路空間的寬度的三分之二。
[0010]本實(shí)用新型的帶有屏蔽裝置的電鍍槽中，每個(gè)所述V形槽的上屏蔽板和下屏蔽板之間的夾角為30°?70°。
[0011]本實(shí)用新型的帶有屏蔽裝置的電鍍槽中，所述電鍍槽還包括用于調(diào)節(jié)所述屏蔽件的空間位置的絕緣調(diào)節(jié)架，所述絕緣調(diào)節(jié)架安裝在所述槽體內(nèi)。
[0012]本實(shí)用新型的帶有屏蔽裝置的電鍍槽中，所述絕緣調(diào)節(jié)架包括設(shè)置在所述料帶通路空間的上方或下方的橫梁，以及活動(dòng)連接在所述橫梁上的一對(duì)調(diào)節(jié)桿，每個(gè)所述調(diào)節(jié)桿的自由端沿垂直方向延伸并設(shè)置有一安裝件，每個(gè)所述安裝件上對(duì)應(yīng)安裝有一個(gè)所述屏蔽件。
[0013]本實(shí)用新型的帶有屏蔽裝置的電鍍槽中，所述橫梁上對(duì)應(yīng)每個(gè)所述調(diào)節(jié)桿設(shè)置有一調(diào)節(jié)槽，所述調(diào)節(jié)槽的延伸方向與所述橫梁的延伸方向保持一致。
[0014]本實(shí)用新型的帶有屏蔽裝置的電鍍槽中，所述電極結(jié)構(gòu)還包括電極立柱，所述電極立柱固定在所述槽體的底板上；
[0015]一對(duì)所述電極立柱的相對(duì)面上均形成有用于安裝所述電極板的安裝槽，所述一對(duì)電極板通過(guò)至少兩對(duì)所述電極立柱進(jìn)行安裝固定。
[0016]本實(shí)用新型的帶有屏蔽裝置的電鍍槽中，每個(gè)所述電極板的外側(cè)面還通過(guò)至少三塊連接板與所述槽體相對(duì)較長(zhǎng)的立壁的內(nèi)側(cè)面連接。
[0017]本實(shí)用新型的帶有屏蔽裝置的電鍍槽中，所述電鍍槽還包括分別設(shè)置在所述槽體的前后兩端的一對(duì)傳動(dòng)裝置；每個(gè)傳動(dòng)裝置包括上下兩排引導(dǎo)輥。
[0018]實(shí)施本實(shí)用新型的技術(shù)方案，至少具有以下的有益效果:該電鍍槽的槽體內(nèi)沿水平方向間隔布置有一對(duì)屏蔽件，該屏蔽件使得電極板到料帶通路空間中的料帶上的每個(gè)位置的導(dǎo)電路徑更加均勻。
【附圖說(shuō)明】
[0019]下面將結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明，附圖中:
[0020]圖1是本實(shí)用新型的一實(shí)施例中的電鍍槽的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021]圖2是圖1所示電鍍槽A-A向剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]其中，1、槽體；2、屏蔽件；3、電極板；4、料帶通路空間；5、橫梁；6、調(diào)節(jié)桿；7、安裝件；8、調(diào)節(jié)槽；9、電極立柱；10、連接板；11、料帶。
【具體實(shí)施方式】
[0023]為了對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)特征、目的和效果有更加清楚的理解，現(xiàn)對(duì)照附圖詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】。
[0024]圖1至圖2示出了本實(shí)用新型中的一種帶有屏蔽裝置的電鍍槽，該電鍍槽可用于對(duì)料帶進(jìn)行電鍍，例如進(jìn)行鍍銅。具體的，該電鍍槽可用于半導(dǎo)體引線框架帶料的電鍍。
[0025]圖1是本實(shí)用新型的一實(shí)施例中的電鍍槽的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是圖1所示電鍍槽A-A向剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0026]如圖1至圖2所示，該電鍍槽包括用于容納電鍍液的槽體1，以及與電源相連的電極結(jié)構(gòu)。一般情況下，與該電鍍槽配合使用的還包括整流器和導(dǎo)電裝置。整流器的負(fù)極與導(dǎo)電裝置相連接，導(dǎo)電裝置再與基材11相接觸，使基材11帶電，形成陰極。整流器的陽(yáng)極與電鍍槽相連接，使電鍍槽內(nèi)電解質(zhì)的金屬離子帶正電荷，形成陽(yáng)極。金屬離子在電鍍槽內(nèi)吸附在基材11上，使基材11電鍍成功。
[0027]該電鍍槽還包括設(shè)置在槽體I內(nèi)的一對(duì)屏蔽件2，上述電極結(jié)構(gòu)包括分別設(shè)置在該一對(duì)屏蔽件2的外側(cè)的一對(duì)電極板3，電鍍時(shí)，整流器的陽(yáng)極與該一對(duì)電極板3連接。參閱圖1至圖2，一對(duì)屏蔽件2在槽體I內(nèi)沿水平方向間隔布置，一對(duì)屏蔽件2的相對(duì)側(cè)分別形成有開(kāi)口，兩個(gè)開(kāi)口之間形成有一料帶通路空間4。
[0028]電鍍時(shí)，進(jìn)入槽體I內(nèi)的板型的基材11可沿著該料帶通路空間4的路徑行進(jìn)。且因?yàn)榱蠋?1的兩側(cè)設(shè)置有進(jìn)行屏蔽的絕緣的屏蔽件2，該屏蔽件2的主要作用是干預(yù)該料帶11兩側(cè)的電場(chǎng)，使得電極板3到料帶11上每個(gè)位置的導(dǎo)電路徑更加均勻，從而料帶11的邊緣區(qū)域的鍍層的厚度與料帶11的中間區(qū)域的鍍層的厚度能基本保持一致。
[0029]再參閱圖1至圖2，該屏蔽件2是由絕緣材料制成的V形槽。當(dāng)然，該屏蔽件2還可以是由絕緣材料制成的U形槽或C形槽等，即只能起到干預(yù)料帶11兩側(cè)的電場(chǎng)的任意形狀的屏蔽件2均在本實(shí)用新型的保護(hù)