排321上，第二掛鉤322可以部分浸入電解液?？蛇x地，第二掛鉤322可以為鈦合金件以防止第二掛鉤322被電解液腐蝕。
[0098]可選地，第二陰極板320可以為鉛板或碳板。
[0099]在本實用新型的一個具體示例中，如圖1和圖2所示，正方形的氧化槽100的底壁的中心上可以設(shè)有向上凸出的套筒，銅質(zhì)的陽極柱210可以設(shè)在套筒內(nèi)，陽極柱210可以與電機的輸出軸相連且可選擇性地順時針或逆時針轉(zhuǎn)動，陽極柱210的頂端通過螺紋連接件固定支撐有條狀的導(dǎo)電梁220，導(dǎo)電梁220的兩端可以設(shè)有用于放置待處理部件的掛具。四個第二陰極板320和八個第一陰極板310可以分別沿陽極柱210的周向均勻間隔布置，且第二陰極板320鄰近陽極柱210布置，第一陰極板310遠離陽極柱210布置，待處理部件可以在第一陰極板310與第二陰極板320限定出的容納空間內(nèi)轉(zhuǎn)動。氧化槽100內(nèi)鄰近底壁的位置可以設(shè)有正八邊形的第一輸氣管412、正方形的第二輸氣管422和正方形的第三輸氣管432，八個第一排氣管413可以均勻間隔開設(shè)在第一輸氣管412上且向上延伸，四個第二排氣管423可以均勻間隔開設(shè)在第二輸氣管422上且向上延伸，每個第一排氣管413上每間隔1cm可以設(shè)有一個第一氣孔，每個第二排氣管423上每間隔1cm可以設(shè)有一個第二氣孔，每個第三輸氣管432上每間隔1cm可以設(shè)有一個第三氣孔434，第一氣孔可以朝內(nèi)排放氣體，第二氣孔可以朝外排放氣體，第三氣孔434可以朝上排放氣體，且第一排氣管413、第二排氣管423和第三輸氣管432的排氣壓力可以單獨控制。在水平面上投影，從內(nèi)向外依次為陽極柱210、第二陰極板320、第二輸氣管422、第三輸氣管432、第一輸氣管412和第一陰極板310。
[0100]綜上所述，根據(jù)本實用新型實施例的陽極氧化裝置10，在氧化槽100內(nèi)設(shè)置有可以朝多個方向排放氣體的氣管組件400，將陰極組件300設(shè)為內(nèi)外兩圈，使待處理部件在第一陰極板310與第二陰極板320之間旋轉(zhuǎn)，有助于帶走待處理部件表面的熱量，特別是對于尺寸大或者帶有較深凹槽的待處理部件，可以有效地防止待處理部件被燒壞，且電解液的溶質(zhì)混合的更均勻，待處理部件不斷在電場內(nèi)循環(huán)轉(zhuǎn)動，有利于氧化膜快速且均勻地生成。
[0101]在本說明書的描述中，參考術(shù)語“一個實施例”、“一些實施例”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”等的描述意指結(jié)合該實施例或示例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點包含于本實用新型的至少一個實施例或示例中。在本說明書中，對上述術(shù)語的示意性表述不必須針對的是相同的實施例或示例。而且，描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點可以在任一個或多個實施例或示例中以合適的方式結(jié)合。此外，在不相互矛盾的情況下，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以將本說明書中描述的不同實施例或示例以及不同實施例或示例的特征進行結(jié)合和組合。
[0102]盡管上面已經(jīng)示出和描述了本實用新型的實施例，可以理解的是，上述實施例是示例性的，不能理解為對本實用新型的限制，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員在本實用新型的范圍內(nèi)可以對上述實施例進行變化、修改、替換和變型。
【主權(quán)項】
1.一種陽極氧化裝置，其特征在于，包括: 氧化槽，所述氧化槽適于盛放用于浸沒待處理部件的電解液； 陽極組件，所述待處理部件適于與所述陽極組件相連，所述陽極組件包括陽極柱和電機，所述電機的輸出軸設(shè)在所述氧化槽的底壁的中心，所述陽極柱與所述輸出軸相連以可選擇性地順時針或逆時針轉(zhuǎn)動； 陰極組件，所述陰極組件的至少部分適于浸入所述電解液。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陽極氧化裝置，其特征在于，還包括氣管組件，所述氣管組件的至少部分浸在所述電解液中，所述氣管組件上設(shè)有多組氣孔，其中至少兩組所述氣孔朝不同方向向所述待處理部件排放氣體。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陽極氧化裝置，其特征在于，至少一組所述氣孔朝內(nèi)側(cè)或外側(cè)向所述待處理部件排放氣體，至少一組所述氣孔朝上向所述待處理部件排放氣體。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的陽極氧化裝置，其特征在于，所述氣管組件包括: 設(shè)有第一組氣孔的第一氣管，在所述氧化槽的徑向上所述第一組氣孔適于位于所述待處理部件的外側(cè)且朝內(nèi)排放氣體； 設(shè)有第二組氣孔的第二氣管，在所述氧化槽的徑向上所述第二組氣孔適于位于所述待處理部件的內(nèi)側(cè)且朝外排放氣體。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的陽極氧化裝置，其特征在于，所述氣管組件還包括: 設(shè)有第三組氣孔的第三氣管，所述第三組氣孔適于位于所述待處理部件的下方且朝上排放氣體。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陽極氧化裝置，其特征在于，所述第一氣管包括:第一進氣管、第一輸氣管和多個第一排氣管，所述第一輸氣管與所述第一進氣管相連，所述第一輸氣管沿所述氧化槽的周向布置，多個所述第一排氣管沿所述周向相互間隔開設(shè)在所述第一輸氣管上，每個所述第一排氣管均沿上下方向延伸，每個所述第一排氣管上均設(shè)有多個第一氣孔，多個所述第一氣孔沿上下方向相互間隔開設(shè)置，所述第一組氣孔包括多個所述第一氣孔； 所述第二氣管包括:第二進氣管、第二輸氣管和多個第二排氣管，所述第二輸氣管與所述第二進氣管相連，所述第二輸氣管周向布置在所述氧化槽內(nèi)，多個所述第二排氣管沿所述周向相互間隔開設(shè)在所述第二輸氣管上，每個所述第二排氣管均沿上下方向延伸，每個所述第二排氣管上均設(shè)有多個所述第二氣孔，多個所述第二氣孔沿上下方向相互間隔開設(shè)置，所述第二組氣孔包括多個所述第二氣孔； 所述第三氣管包括:第三進氣管和第三輸氣管，所述第三輸氣管與所述第三進氣管相連且周向布置在所述氧化槽的底部，且在所述氧化槽的徑向上所述第三輸氣管位于所述第一輸氣管與所述第二輸氣管之間，所述第三輸氣管上設(shè)有多個所述第三氣孔，多個所述第三氣孔沿所述周向相互間隔開設(shè)置，所述第三組氣孔包括多個所述第三氣孔。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陽極氧化裝置，其特征在于，所述第一進氣管、所述第二進氣管和所述第三進氣管上分別設(shè)有壓力閥。8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陽極氧化裝置，其特征在于，所述第一輸氣管構(gòu)造為圓形或正八邊形，所述第二輸氣管構(gòu)造為圓形或正方形。9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陽極氧化裝置，其特征在于，每個所述第一排氣管上相鄰設(shè)置的兩個所述第一氣孔間隔10cm，每個所述第二排氣管上相鄰設(shè)置的兩個所述第二氣孔間隔1cm，相鄰設(shè)置的兩個所述第三氣孔間隔1cm010.根據(jù)權(quán)利要求5-9中任一項所述的陽極氧化裝置，其特征在于，所述陽極柱繞所述陽極柱的軸向可轉(zhuǎn)動地設(shè)在所述氧化槽的底部且向上延伸，所述陽極組件包括: 導(dǎo)電梁，所述導(dǎo)電梁連接所述陽極柱的上端且沿水平方向延伸，所述待處理部件適于與所述導(dǎo)電梁相連。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的陽極氧化裝置，其特征在于，所述陰極組件包括: 多個第一陰極板，所述多個第一陰極板繞所述陽極柱的周向相互間隔開設(shè)在所述氧化槽內(nèi)且遠離所述陽極柱設(shè)置； 多個第二陰極板，所述多個第二陰極板繞所述陽極柱的周向相互間隔開設(shè)在所述氧化槽內(nèi)且鄰近所述陽極柱； 所述待處理部件適于放置在多個所述第一陰極板和多個所述第二陰極板限定出的容納空間內(nèi)。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的陽極氧化裝置，其特征在于，在水平面上的投影，從內(nèi)向外依次為所述陽極柱、所述第二陰極板、所述第二氣管、所述第三氣管、所述第一氣管和所述第一陰極板。13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的陽極氧化裝置，其特征在于，所述第一陰極板為八個，八個所述第一陰極板均勻間隔開設(shè)置； 所述第二陰極板為四個，四個所述第二陰極板均勻間隔開設(shè)置。
【專利摘要】本實用新型公開了一種陽極氧化裝置，所述陽極氧化裝置包括：氧化槽，所述氧化槽適于盛放用于浸沒待處理部件的電解液；陽極組件，所述待處理部件適于與所述陽極組件相連，所述陽極組件包括陽極柱和電機，所述電機的輸出軸設(shè)在所述氧化槽的底壁的中心，所述陽極柱與所述輸出軸相連以可選擇性地順時針或逆時針轉(zhuǎn)動；陰極組件，所述陰極組件的至少部分適于浸入所述電解液。本實用新型的陽極氧化裝置，可以有效地防止部件被燒壞，且電解液的溶質(zhì)混合的更均勻，有利于氧化膜快速且均勻地生成。
【IPC分類】C25D11/02
【公開號】CN205223385
【申請?zhí)枴緾N201520935168
【發(fā)明人】廖重重, 陳梁, 熊雄
【申請人】惠州比亞迪電子有限公司
【公開日】2016年5月11日
【申請日】2015年11月20日