一種大型高精度防輻射隧道屏蔽鐵結(jié)構(gòu)的施工方法
【專利說明】一種大型高精度防輻射隧道屏蔽鐵結(jié)構(gòu)的施工方法
[0001]
技術(shù)領(lǐng)域
[0002]本發(fā)明涉及建筑施工技術(shù)領(lǐng)域,更具體的涉及一種大型高精度防輻射隧道屏蔽鐵結(jié)構(gòu)的施工方法。
【背景技術(shù)】
[0003]隨著科學(xué)技術(shù)的迅猛發(fā)展,輻射廣泛應(yīng)用于工業(yè)、科研、醫(yī)療、通信、廣播等諸多領(lǐng)域,使人類生產(chǎn)和生活方式發(fā)生了革命性變化。盡管輻射對人類而言是極其有用的資源,但它也會對人體產(chǎn)生巨大傷害,必須研宄出一種結(jié)構(gòu)能很好地屏蔽輻射,而專利ZL201520046428.X公開了一種大型的福射屏蔽結(jié)構(gòu),然而針對大型的福射屏蔽結(jié)構(gòu)由于其結(jié)構(gòu)龐大,且其所施用的領(lǐng)域存在特殊性,故施工難度高,現(xiàn)有技術(shù)中一般的安裝方法難以保證其安裝精度,較低的安裝精度容易導(dǎo)致其防輻射效果降低,且一般的安裝方法施工周期長,成本高。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]本發(fā)明為克服上述現(xiàn)有技術(shù)所述的至少一種缺陷(不足),提供一種大型高精度防輻射隧道屏蔽鐵結(jié)構(gòu)的施工方法。
[0005]本發(fā)明旨在至少在一定程度上解決上述技術(shù)問題。
[0006]為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
一種大型高精度防輻射隧道屏蔽鐵結(jié)構(gòu)的施工方法,所述大型高精度防輻射隧道屏蔽鐵結(jié)構(gòu)由左側(cè)屏蔽層、右側(cè)屏蔽層和屏蔽頂層組合而成,左側(cè)屏蔽層和右側(cè)屏蔽層分立左右兩側(cè),屏蔽頂層位于左側(cè)屏蔽層和右側(cè)屏蔽層的頂部;其中左側(cè)屏蔽層包括四層,從內(nèi)到外依次為第一層左側(cè)屏蔽層、第二層左側(cè)屏蔽層、第三層左側(cè)屏蔽層、第四層左側(cè)屏蔽層;右側(cè)屏蔽層包括七層,從內(nèi)到外依次為第一層右側(cè)屏蔽層、第二層右側(cè)屏蔽層、第三層右側(cè)屏蔽層、第四層右側(cè)屏蔽層、第五層右側(cè)屏蔽層、第六層右側(cè)屏蔽層、第七層右側(cè)屏蔽層;所述屏蔽頂層包括八層,從下向上依次為第一層屏蔽頂層、第二層屏蔽頂層、第三層屏蔽頂層、第四層屏蔽頂層、第五層屏蔽頂層、第六層屏蔽頂層、第七層屏蔽頂層、第八層屏蔽頂層;每層所述左側(cè)屏蔽層、右側(cè)屏蔽層和屏蔽頂層均有多塊屏蔽塊構(gòu)成;其中,左側(cè)屏蔽層呈直線分布,右側(cè)屏蔽層部分與左側(cè)屏蔽層平行、部分與左側(cè)屏蔽層呈一夾角分布;所述施工方法包括以下步驟:
a.鋼筋綁扎:在預(yù)先放樣好的施工位置綁扎底板鋼筋、側(cè)墻鋼筋和凸塊鋼筋;在凸塊鋼筋上沿凸塊鋼筋長度方向間隔預(yù)埋若干立筋;在綁扎凸塊鋼筋的同時沿凸塊鋼筋長度方向間隔預(yù)埋若干門式鋼支托,門式鋼支托的支腿中間用水平固定鋼筋連接;
b.鋼板安裝:將鋼板固定安裝在門式鋼支托上;
c.混凝土饒筑:饒筑底板混凝土和凸塊混凝土; d.水平固定鋼筋安裝:待底板混凝土和凸塊混凝土終凝后拆模,然后在立筋之間沿凸塊鋼筋長度方向焊接水平固定鋼筋;
e.屏蔽立塊槽鋼支架安裝:在凸塊混凝土上安裝槽鋼支架,所述槽鋼支架的寬度與凸塊混凝土的寬度一致,所述槽鋼支架的頂部高度與第一層左側(cè)屏蔽層和第一層右側(cè)屏蔽層的標(biāo)尚相同;
f.左側(cè)屏蔽層和右側(cè)屏蔽層吊裝前準(zhǔn)備:打磨底板混凝土,并在底板混凝土上測量,放樣出左側(cè)屏蔽層和右側(cè)屏蔽層的屏蔽塊的安裝位置;
g.左側(cè)屏蔽層和右側(cè)屏蔽層吊裝:吊裝左側(cè)屏蔽層和右側(cè)屏蔽層;
h.澆筑混凝土側(cè)墻:預(yù)先在側(cè)墻鋼筋上放樣出安放屏蔽頂層的階梯,并在放樣出的階梯位置預(yù)埋護(hù)邊角鐵,所述護(hù)邊角鐵根據(jù)階梯的長度通長設(shè)置,然后澆筑混凝土側(cè)墻,混凝土終凝后進(jìn)行養(yǎng)護(hù);
1.澆筑混凝土隔墻:拆除槽鋼支架,然后澆筑混凝土隔墻;
j.噴涂防銹漆:在左側(cè)屏蔽層和右側(cè)屏蔽層的頂部全部噴涂耐輻射防銹漆; k.頂層屏蔽層吊裝:吊裝各頂層屏蔽層;
1.噴涂防銹漆:在第一層左側(cè)屏蔽層的內(nèi)表面、第一層右側(cè)屏蔽層的內(nèi)表面和第一層屏蔽頂層的下表面整體噴涂耐輻射防銹漆。
[0007]進(jìn)一步的,所述槽鋼支架由槽鋼橫梁、槽鋼立柱和槽鋼斜支撐焊接構(gòu)成,其中槽鋼橫梁與槽鋼立柱相互焊接構(gòu)成槽鋼支架的外部框架,所述槽鋼斜支撐焊接在槽鋼立柱之間。
[0008]進(jìn)一步的,在所述步驟c中,澆筑底板混凝土?xí)r,實際澆筑的高度比設(shè)計標(biāo)高底10-30mmo
[0009]進(jìn)一步的,在所述步驟g中,每一屏蔽塊吊裝完成前,在屏蔽塊的底部塞墊鋼板墊塊,以調(diào)整屏蔽塊的高度至設(shè)計標(biāo)高;并檢測和調(diào)整鋼屏蔽的垂直度,使其位于設(shè)計允許的偏差范圍之內(nèi)。
[0010]進(jìn)一步的,在所述步驟g中,在第一層左側(cè)屏蔽層和第一層右側(cè)屏蔽層的屏蔽塊吊裝時,屏蔽塊的內(nèi)側(cè)需緊貼凸塊混凝土的側(cè)壁和槽鋼支架;在第一層左側(cè)屏蔽層和第一層右側(cè)屏蔽層的屏蔽塊吊裝到位后,在屏蔽塊的兩側(cè)分別固定內(nèi)側(cè)拉接槽鋼和外側(cè)支撐槽鋼;所述內(nèi)側(cè)拉接槽鋼的一端固定在屏蔽塊內(nèi)側(cè),另一端固定在水平固定鋼筋上;所述外側(cè)支撐槽鋼的一端固定在屏蔽塊外側(cè),另一端固定在底板混凝土上。
[0011]進(jìn)一步的,在所述步驟g中,第一層左側(cè)屏蔽層和第一層右側(cè)屏蔽層的屏蔽塊之間,相鄰屏蔽塊的內(nèi)側(cè)接觸處為連續(xù)焊接,外側(cè)及頂面接觸處為斷續(xù)焊接。
[0012]進(jìn)一步的,在焊接前在焊接處對屏蔽塊進(jìn)行倒角切割。
[0013]進(jìn)一步的,所述斷續(xù)焊接的焊縫長度為150±20mm,相鄰焊縫之間的間距為300±20 mm。
[0014]進(jìn)一步的,第一層左側(cè)屏蔽層和第一層右側(cè)屏蔽層的屏蔽塊安裝到位后,在屏蔽塊與凸塊混凝土之間的的間隔處填充水泥漿密封。
[0015]進(jìn)一步的,在每層左側(cè)屏蔽層和右側(cè)屏蔽層安裝到位后;在每層左側(cè)屏蔽層和右側(cè)屏蔽層與底板混凝土接觸處的縫隙內(nèi)填充混凝土密封;在相鄰兩層屏蔽層之間縫隙較大處填滿細(xì)鐵砂。
[0016]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明技術(shù)方案的有益效果是:
采用一種大型高精度防輻射隧道屏蔽鐵結(jié)構(gòu)的施工方法,使屏蔽鐵結(jié)構(gòu)達(dá)到內(nèi)表面大面不平度小于10mm、相鄰兩立塊頂部端面高度公差小于3mm、全部立塊頂部端面高度公差±5mm的高精度要求,能夠?qū)崿F(xiàn)防高劑量輻射的目的,同時采用該方法有利于縮短工期,節(jié)省時間,降低施工成本。
【附圖說明】
[0017]圖1為左右兩側(cè)屏蔽鐵立體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018]圖2為左右兩側(cè)屏蔽鐵俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0019]圖3為頂層屏蔽鐵剖視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0020]圖4為混凝土鋼筋綁扎示意圖。
[0021 ] 圖5為門式鋼支托及鋼板設(shè)置結(jié)構(gòu)示意圖。
[0022]圖6為混凝土澆筑示意圖。
[0023]圖7為水平固定鋼筋安裝示意圖。
[0024]圖8為槽鋼支架安裝示意圖。
[0025]圖9為左右兩側(cè)屏蔽鐵安裝結(jié)構(gòu)示意圖。
[0026]圖10為側(cè)墻混凝土示意圖。
[0027]圖11為側(cè)墻混凝土分層澆筑示意圖。
[0028]圖12為左右兩側(cè)屏蔽鐵安裝順序不意圖及隔墻饒筑不意圖。
[0029]圖13為第一層左右兩側(cè)屏蔽鐵固定示意圖(省略槽鋼支架)。
[0030]附圖僅用于示例性說明,不能理解為對本專利的限制;為了更好說明本實施例,附圖某些部件會有省略、放大或縮小,并不代表實際產(chǎn)品的尺寸;對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說,附圖中某些公知結(jié)構(gòu)及其說明可能省略是可以理解的;相同或相似的標(biāo)號對應(yīng)相同或相似的部件;附圖中描述位置關(guān)系的用語僅用于示例性說明,不能理解為對本專利的限制。
【具體實施方式】
[0031]下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明的技術(shù)方案做進(jìn)一步的說明。
具體實施例
[0032]一種大型高精度防輻射隧道屏蔽鐵結(jié)構(gòu)的施工方法,如圖1、圖2和圖3所示,所述大型高精度防輻射隧道屏蔽鐵結(jié)構(gòu)由左側(cè)屏蔽層、右側(cè)屏蔽層和屏蔽頂層組合而成,左側(cè)屏蔽層和右側(cè)屏蔽層分立左右兩側(cè),屏蔽頂層位于左側(cè)屏蔽層和右側(cè)屏蔽層的頂部;其中左側(cè)屏蔽層包括四層,從內(nèi)到外依次為第一層左側(cè)屏蔽層L-1、第二層左側(cè)屏蔽層L-2、第三層左側(cè)屏蔽層L-3、第四層左側(cè)屏蔽層L-4 ;右側(cè)屏蔽層包括七層,從內(nèi)到外依次為第一層右側(cè)屏蔽層R-1、第二層