1.一種反應(yīng)腔真空度控制微調(diào)裝置，其特征在于：包括水環(huán)真空泵（1），所述的水環(huán)真空泵（1）通過控制組件控制，所述的水環(huán)真空泵（1）中設(shè)有泵進(jìn)氣組件和泵排氣組件；
所述的控制組件包括控制器（2），所述的控制器（2）分別與真空度監(jiān)測(cè)模塊（3）、真空度微量調(diào)節(jié)模塊（4）和溫度監(jiān)測(cè)模塊（5）；
所述的泵進(jìn)氣組件包括泵進(jìn)氣口（6），所述的泵進(jìn)氣口（6）與水環(huán)真空泵（1）相連通，所述的泵進(jìn)氣口（6）的上部設(shè)有吸入管進(jìn)氣口（7）；
所述的泵排氣組件包括泵排氣口（8），所述的泵排氣口（8）與水環(huán)真空泵（1）相連通，所述的泵排氣口（8）的上部設(shè)有分離器排氣口（9）；
所述的泵進(jìn)氣組件與泵排氣組件呈間隔狀分布；
所述的水環(huán)真空泵（1）的外壁設(shè)有水平液面安裝觀察口（10）。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)腔真空度控制微調(diào)裝置，其特征在于：所述的水環(huán)真空泵（1）的底部設(shè)有若干緊固件（11）。