65]本實施例的所述偏心體6的設(shè)置方式，能夠使所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)工作時，所述偏心軸的受力平衡。
[0066]實施例6
[0067]如圖6所示的軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)，包括偏心軸1、動盤2和靜盤3，在所述靜盤3上設(shè)置靜盤渦旋結(jié)構(gòu)4，在所述動盤2的兩側(cè)上分別設(shè)置動盤渦旋結(jié)構(gòu)5，至少兩個所述動盤2設(shè)置在所述偏心軸I的偏心體6上，在相鄰的兩個所述動盤2之間設(shè)置附屬靜盤31，在所述附屬靜盤31的兩側(cè)上設(shè)置靜盤渦旋結(jié)構(gòu)4，對于不與所述附屬靜盤31上的所述靜盤渦旋結(jié)構(gòu)4相對應(yīng)的所述動盤2上的所述動盤渦旋結(jié)構(gòu)5設(shè)置所述靜盤3，相對應(yīng)的所述靜盤渦旋結(jié)構(gòu)4和所述動盤渦旋結(jié)構(gòu)5相配合。
[0068]本實施例中，具體地設(shè)置兩個所述動盤2，兩個所述動盤2均設(shè)置在一個所述偏心體6上。
[0069]實施例7
[0070]如圖7所示的軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)，其在實施例6的基礎(chǔ)上:所述附屬靜盤31兩側(cè)的所述動盤2相互固連。
[0071]實施例6和實施例7中，所述動盤2可以設(shè)為3個以上，至少一個所述附屬靜盤31兩側(cè)的所述動盤2相互固連。
[0072]實施例8
[0073]如圖8所示的軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)，包括偏心軸1、動盤2和靜盤3，在所述靜盤3的兩側(cè)上分別設(shè)置靜盤渦旋結(jié)構(gòu)4，在所述動盤2上設(shè)置動盤渦旋結(jié)構(gòu)5，兩個所述動盤2面對面設(shè)置在所述偏心軸I的偏心體6上，在面對面設(shè)置的兩個所述動盤2之間設(shè)置所述靜盤3，相對應(yīng)的所述靜盤渦旋結(jié)構(gòu)4和所述動盤渦旋結(jié)構(gòu)5相配合。
[0074]本實施例中兩個所述動盤2 —體化設(shè)置。
[0075]實施例9
[0076]如圖9所示的軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)，其與實施例8的區(qū)別在于:兩個所述動盤2通過螺栓相互固連。
[0077]實施例10
[0078]如圖10所示的軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)，其與實施例1的區(qū)別在于:將所述動盤渦旋結(jié)構(gòu)5設(shè)為3D動盤渦旋結(jié)構(gòu)，與所述3D動盤渦旋結(jié)構(gòu)相對應(yīng)的所述靜盤渦旋結(jié)構(gòu)4設(shè)為3D靜盤渦旋結(jié)構(gòu)。所述偏心軸I設(shè)為曲軸8。
[0079]實施例11
[0080]如圖11所示的軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)，其在實施例2的基礎(chǔ)上:所述偏心軸I設(shè)置兩個偏心體6，對應(yīng)每個所述偏心體6設(shè)置一組所述動盤2和所述靜盤3結(jié)構(gòu)，兩組所述動盤2之間的所述靜盤3背靠背設(shè)置(即兩個所述靜盤3的未設(shè)置所述動盤渦旋結(jié)構(gòu)的一面相對設(shè)置)，兩個偏心體6的相位相差180度。
[0081]本實施例的所述偏心體6的設(shè)置方式，能夠使所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)工作時，所述偏心軸I的受力平衡。
[0082]實施例12
[0083]如圖12所示的軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)，其在實施例11的基礎(chǔ)上:兩組所述動盤2之間的所述靜盤3 —體化設(shè)置。
[0084]實施例13
[0085]如圖13所示的包括實施例1所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)的發(fā)動機，所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)的近心通道口與工質(zhì)源9連通。
[0086]作為可以變換的實施方式，可選擇地，所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)的近心通道口與燃燒室連通。
[0087]實施例14
[0088]如圖14所示的包括實施例1所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)的發(fā)動機，在所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)的近心通道口處設(shè)置燃燒室7。
[0089]實施例15
[0090]如圖15所示的軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)，其與實施例1的區(qū)別為:所述偏心軸I為半軸。
[0091]實施例16
[0092]如圖16所示的軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)，其與實施例6的區(qū)別為:在所述偏心軸I上對應(yīng)每個動盤2設(shè)置一個偏心體6，每個所述動盤2設(shè)置在與其對應(yīng)的所述偏心體6上，兩個所述偏心體6的相位相差180度。
[0093]本實施例的所述偏心體6的設(shè)置方式，能夠使所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)工作時，所述偏心軸I的受力平衡。
[0094]實施例17
[0095]如圖17所示的軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)，其在實施例16的基礎(chǔ)上:增設(shè)一個動盤2，并對應(yīng)所述動盤2在所述偏心軸I上增設(shè)一個偏心體6，每個所述動盤2設(shè)置在與其對應(yīng)的所述偏心體6上，三個所述偏心體6的相位兩兩相差120度。
[0096]本實施例的所述偏心體6的設(shè)置方式，能夠使所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)工作時，所述偏心軸I的受力平衡。
[0097]本發(fā)明中所有的所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)的實施方式，均可以替換實施例13至實施例14中的所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)。
[0098]本發(fā)明中所有的所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)的實施方式，均可將所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)的近心通道口設(shè)為工質(zhì)入口，將其作為發(fā)動機中的結(jié)構(gòu)。
[0099]本發(fā)明中所有的所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)的實施方式，均可所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)的近心通道口與燃燒室7連通。
[0100]本發(fā)明所有的實施方式，均可以選擇性地參照實施例3將所述偏心軸I設(shè)為曲軸8。
[0101]本發(fā)明所有的實施方式，均可以選擇性地參照實施例10將所有所述動盤渦旋結(jié)構(gòu)5中至少一部分設(shè)為3D動盤渦旋結(jié)構(gòu)，與所述3D動盤渦旋結(jié)構(gòu)相對應(yīng)的所述靜盤渦旋結(jié)構(gòu)4設(shè)為3D靜盤渦旋結(jié)構(gòu)。
[0102]本發(fā)明所有的實施方式，均可以選擇性地使所述動盤渦旋結(jié)構(gòu)5和與其相對應(yīng)的所述靜盤渦旋結(jié)構(gòu)4形成流道，至少兩個所述流道串聯(lián)。
[0103]本發(fā)明中所有的所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)的實施方式，均可將所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)的遠心通道口設(shè)為氣體入口，將其作為壓氣機中的結(jié)構(gòu)。
[0104]顯然，本發(fā)明不限于以上實施例，根據(jù)本領(lǐng)域的公知技術(shù)和本發(fā)明所公開的技術(shù)方案，可以推導(dǎo)出或聯(lián)想出許多變型方案，所有這些變型方案，也應(yīng)認為是本發(fā)明的保護范圍。
【主權(quán)項】
1.一種軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)，包括偏心軸(1)、動盤(2)和靜盤(3)，其特征在于:在所述靜盤(3)上設(shè)置靜盤渦旋結(jié)構(gòu)(4)，在所述動盤(2)的兩側(cè)上分別設(shè)置動盤渦旋結(jié)構(gòu)(5)，所述動盤(2)設(shè)置在所述偏心軸(I)的偏心體(6)上，在所述動盤(2)的兩側(cè)設(shè)置所述靜盤(3)，相對應(yīng)的所述靜盤渦旋結(jié)構(gòu)(4)和所述動盤渦旋結(jié)構(gòu)(5)相配合。
2.—種軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)，包括偏心軸(I)、動盤(2)和靜盤(3)，其特征在于:在所述靜盤(3)上設(shè)置靜盤渦旋結(jié)構(gòu)(4)，在所述動盤(2)的側(cè)面上設(shè)置動盤渦旋結(jié)構(gòu)(5)，兩個所述動盤(2)背靠背設(shè)置在所述偏心軸(I)的偏心體(6)上，對于每個所述動盤(2)的所述動盤渦旋結(jié)構(gòu)(5)對應(yīng)設(shè)置所述靜盤(3)，相對應(yīng)的所述靜盤渦旋結(jié)構(gòu)(4)和所述動盤渦旋結(jié)構(gòu)(5)相配合。
3.一種軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)，包括偏心軸A(1l)、偏心軸B (102)、動盤A (201)、動盤B (202)和靜盤(3)，其特征在于:在所述靜盤(3)上設(shè)置靜盤渦旋結(jié)構(gòu)(4)，在所述動盤A (201)上設(shè)置動盤渦旋結(jié)構(gòu)(5)，在所述動盤B (202)上設(shè)置動盤渦旋結(jié)構(gòu)(5)，所述動盤A (201)和所述動盤B (202)背靠背設(shè)置，所述動盤A (201)設(shè)置在所述偏心軸A (101)的偏心體(6)上，所述動盤B (202)設(shè)置在所述偏心軸B (102)的偏心體(6)上，對應(yīng)所述動盤A (201)上的所述動盤渦旋結(jié)構(gòu)(5)設(shè)置所述靜盤(3)，對應(yīng)所述動盤B (202)上的所述動盤渦旋結(jié)構(gòu)(5)設(shè)置所述靜盤(3)，相對應(yīng)的所述靜盤渦旋結(jié)構(gòu)(4)和所述動盤渦旋結(jié)構(gòu)(5)相配合。
4.一種軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)，包括偏心軸(1)、動盤(2)和靜盤(3)，其特征在于:在所述靜盤(3)上設(shè)置靜盤渦旋結(jié)構(gòu)(4)，在所述動盤(2)的兩側(cè)上分別設(shè)置動盤渦旋結(jié)構(gòu)(5)，至少兩個所述動盤(2)設(shè)置在所述偏心軸(I)的偏心體(6)上，在相鄰的兩個所述動盤(2)之間設(shè)置附屬靜盤(31)，在所述附屬靜盤(31)的兩側(cè)上設(shè)置靜盤渦旋結(jié)構(gòu)(4)，對于不與所述附屬靜盤(31)上的所述靜盤渦旋結(jié)構(gòu)(4)相對應(yīng)的所述動盤(2)上的所述動盤渦旋結(jié)構(gòu)(5)設(shè)置所述靜盤(3)，相對應(yīng)的所述靜盤渦旋結(jié)構(gòu)(4)和所述動盤渦旋結(jié)構(gòu)(5)相配合。
5.一種軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)，包括偏心軸(1)、動盤(2)和靜盤(3)，其特征在于:在所述靜盤(3)的兩側(cè)上分別設(shè)置靜盤渦旋結(jié)構(gòu)(4)，在所述動盤(2)上設(shè)置動盤渦旋結(jié)構(gòu)(5)，兩個所述動盤(2)面對面設(shè)置在所述偏心軸(I)的偏心體(6)上，在面對面設(shè)置的兩個所述動盤(2)之間設(shè)置所述靜盤(3)，相對應(yīng)的所述靜盤渦旋結(jié)構(gòu)(4)和所述動盤渦旋結(jié)構(gòu)(5)相配合。
6.一種包括權(quán)利要求1至5中任一項所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)的壓氣機，其特征在于:所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)的遠心通道口設(shè)為氣體入口。
7.一種包括權(quán)利要求1至5中任一項所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)的發(fā)動機，其特征在于:所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)的近心通道口設(shè)為工質(zhì)入口。
8.如權(quán)利要求7所述發(fā)動機，其特征在于:所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)的所述近心通道口與工質(zhì)源(9)連通。
9.如權(quán)利要求7所述發(fā)動機，其特征在于:所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)的所述近心通道口與燃燒室(7)連通。
10.一種包括權(quán)利要求1至5中任一項所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)的發(fā)動機，其特征在于:在所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)的近心通道口處設(shè)置燃燒室(7)。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)及包括其的裝置，所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)包括偏心軸、動盤和靜盤，在所述靜盤上設(shè)置靜盤渦旋結(jié)構(gòu)，在所述動盤的兩側(cè)上分別設(shè)置動盤渦旋結(jié)構(gòu)，所述動盤設(shè)置在所述偏心軸的偏心體上，在所述動盤的兩側(cè)設(shè)置所述靜盤，相對應(yīng)的所述靜盤渦旋結(jié)構(gòu)和所述動盤渦旋結(jié)構(gòu)相配合。本發(fā)明的所述軸向力平衡渦旋流體機構(gòu)的軸向力小、摩擦損失小，工作效率高。
【IPC分類】F04C29-00, F04C18-02, F01C21-00, F01C1-02
【公開號】CN104728105
【申請?zhí)枴緾N201510024261
【發(fā)明人】靳北彪
【申請人】摩爾動力(北京)技術(shù)股份有限公司
【公開日】2015年6月24日
【申請日】2015年1月16日