的多個間隔區(qū)域66，儲存器矩陣在該處與儲存器罩殼間隔開，以用于接收由儲存器矩陣中的潤滑劑中的脫氣引起的潤滑劑泡沫。在改變的裝置中，儲存器罩殼30、54可包括定位器件，其從罩殼壁徑向向內(nèi)地突出，以接觸和定位儲存器矩陣。在該裝置中，間隔區(qū)域可圍繞矩陣的外周基本連續(xù)。
[0033]間隔區(qū)域66提供圍繞矩陣的外周且在矩陣開孔44的遠側(cè)的散逸或膨脹容積，捕集的氣體可膨脹或轉(zhuǎn)移到該容積中。在矩陣最初充有油時，捕集在儲存器矩陣中的氣體可散逸到由間隔區(qū)域66產(chǎn)生的外周容積中，且在栗送期間生成的氣泡可膨脹到容積中，這提供了矩陣的外周處的連續(xù)栗送傳導，這緩和了起泡效果。由于儲存器矩陣不再由殼體部分30完全約束，矩陣中的潤滑劑上的力如由圖6中的水平箭頭所示徑向地向內(nèi)和向外分布。因此，當氣體從矩陣散逸時，其載有較少潤滑劑伴隨它，且因此，潤滑劑起泡減少，特別是在開孔44處。在此方面，矩陣中的氣體必須沿其行進以便散逸的散逸通路的平均長度縮短，且因此沿該較短通路行進的氣體累積較少潤滑劑。提供附加的散逸通路的效果將呈現(xiàn)為與直觀相反，因為其將提供通過其潤滑劑可傳送出矩陣的附加手段。然而，相反的是，散逸通路的平均長度的縮短減少了起泡，這在圖7中所示，其示出了使用中的潤滑劑供應系統(tǒng)60。
[0034]在儲存器的半徑連同散逸通路的長度一起增大時，特別是在半徑與長度的縱橫比增大的情況下，與現(xiàn)有技術的潤滑劑供應系統(tǒng)40相關聯(lián)的問題變得更壞。因此，本發(fā)明在這些類型的儲存器中具有特別功用。
[0035]更詳細參看圖5至11，在該實例中為供油螺母的潤滑劑轉(zhuǎn)移裝置48定位在開孔44中的儲存器矩陣62徑向內(nèi)側(cè)，且具有旋轉(zhuǎn)軸線22。儲存器罩殼30定位在儲存器矩陣62的徑向外側(cè)。間隔區(qū)域66圍繞矩陣的外周定位在儲存器矩陣的徑向外側(cè)。間隔區(qū)域圍繞圓周通過接觸區(qū)域64與彼此分開，接觸區(qū)域64各自定位于圍繞圓周的相鄰間隔區(qū)域之間。間隔區(qū)域和接觸區(qū)域可圍繞圓周均勻分布，或可不規(guī)則分布。然而，均勻間隔是優(yōu)選的，因為其允許氣體從矩陣的所有區(qū)域相對一致地散逸。
[0036]間隔區(qū)域形成在儲存器罩殼的內(nèi)表面70與儲存器矩陣的外表面72之間。在圖3中所示的已知裝置中，儲存器罩殼的內(nèi)表面和外表面兩者為圓柱形，且具有圓形截面。該裝置并未提供氣體可從矩陣散逸到其中的容積，因為矩陣圍繞其圓周與罩殼緊密接觸。在圖5、10和11中特別示出的本實例中，儲存器罩殼的截面保持相同，但矩陣的截面為六邊形，以提供六個接觸區(qū)域和接觸區(qū)域之間的六個間隔區(qū)域。盡管圖5、10和11中示出了六邊形截面，其它多邊形或無規(guī)則截面也可用于提供用于氣體膨脹的所需的間隔區(qū)域。
[0037]在備選裝置中，儲存器罩殼的內(nèi)表面可具有多邊形或無規(guī)則截面，同時矩陣的外表面可具有圓柱形截面，如在圖9中示出。
[0038]在另一些實例中，儲存器罩殼的內(nèi)表面或儲存器的外表面中的一個可包括用于空氣通過的通道或凸脊來限定其間的間隔區(qū)域，如在圖8與圖12a及12b中示出。在這些實例中，儲存器罩殼30、54的內(nèi)表面70或儲存器矩陣62的外表面72中的至少一個包括分別用于形成至少一些間隔區(qū)域的凹槽67、80。
[0039]如圖8和9中所示，在儲存器罩殼30的內(nèi)表面70上形成凹槽67或在所述內(nèi)表面70上使用多邊形或無規(guī)則截面仍提供了有利的間隔區(qū)域，但如果儲存器矩陣材料很難以任何其它形式形成，則允許使用現(xiàn)有的儲存器矩陣形成。
[0040]在圖12a/b中所示的實例中(示出儲存器罩殼30、54)，凹槽80形成在儲存器矩陣62的外表面72中，以提供由接觸區(qū)域64分離的間隔區(qū)域66，其在使用中接觸儲存器罩殼30的內(nèi)表面70。在圖12a中所示的實例中，垂直地延伸的軸向凹槽80形成在矩陣62中。在圖12b中所示的實例中，形成了螺旋凹槽80，其提供了大的表面面積來用于空氣散逸出矩陣62。
[0041]在圖12a和12b中所示的實例中，儲存器矩陣由三層形成，但可使用更多或更少的層，包括由單件材料形成矩陣62。然而，當矩陣62由至少兩層形成時，凹槽80的寬度W優(yōu)選為足夠?qū)?，使得如果一層旋轉(zhuǎn)(例如，由于與軸承供油螺母48接觸)，則連續(xù)傳導在層之間沿凹槽80實現(xiàn)。
[0042]還有利的是提供軸向地背離軸承裝置(S卩，朝殼體部分54)的儲存器矩陣62的表面78中的凹槽78。如圖11中所示，增加凹槽78允許捕集空氣遠離儲存器矩陣62向下散逸，且當渦輪分子栗水平定向(其中栗入口面向上)時，允許了油從儲存器被向外推動來捕集在儲存器罩殼30、54的底座中。凹槽78還可形成在殼體部分54的面向內(nèi)的表面中。
[0043]儲存器矩陣62還可包括形成在其內(nèi)表面44與外表面50之間的多個內(nèi)開孔74，所述開孔74在矩陣62的軸向向上的軸承面對表面與其軸向向下的面對表面78之間軸向地延伸，如圖10中所示。在此意義上，內(nèi)開孔74認作是不同于儲存器矩陣的多孔結(jié)構(gòu)，且認作是表示從儲存器矩陣材料42切出的有目的形成的開孔74 (圓柱形、多邊形或長形孔)。
[0044]內(nèi)開孔74提供了用于容納在儲存器矩陣中的空氣散逸的附加空間，因此減少了達到軸承的油泡沫的量。還有可能使用具有內(nèi)開孔74的儲存器矩陣62來替代間隔區(qū)域64和接觸區(qū)域66，但開孔74和間隔區(qū)域64/接觸區(qū)域66的組合由于其累積的有利效果而優(yōu)選使用。
[0045]當矩陣62由至少兩層形成時，各個層上的開孔74的尺寸(直徑、寬度等)優(yōu)選足夠?qū)?，使得如果一層旋轉(zhuǎn)(例如，由于與軸承供油螺母48接觸)，則連續(xù)傳導在層之間沿各個層中的開孔74實現(xiàn)。
[0046]如圖6中所示，間隔區(qū)域66在儲存器矩陣62的長度上軸向地延伸。在該實例中，矩陣的截面沿軸向范圍一致，盡管在其它實例中，截面可變化。間隔區(qū)域在矩陣的上方的軸向端部處打開，以允許氣體傳導離開間隔區(qū)域。如果間隔區(qū)域并未在至少一個軸向端部處打開，則它們將形成凹穴，凹穴捕集氣體，而非將其傳導離開矩陣。提供與遠離矩陣的容積氣體連通的間隔區(qū)域允許氣體容易傳導，且減少潤滑劑起泡。
[0047]在真空栗10和潤滑劑供應系統(tǒng)60的使用中，儲存器矩陣62最初充有潤滑劑(如，油)。除矩陣的開孔44之外，在填充矩陣期間捕集的任何氣體都可容易地散逸到間隔區(qū)域66中，從而減小了栗在使用時潤滑劑起泡的傾向性。在操作中，電機24引起渦輪分子栗送機構(gòu)14和分子拖曳栗送機構(gòu)16圍繞旋轉(zhuǎn)軸線22旋轉(zhuǎn)。在具有這些類型的栗送機構(gòu)的真空栗的實例中，可獲得大約10 3和10 7mbar之間的壓力，且取決于低至10 1Vbar的栗壓力公差。
[0048]傳動軸12由電機旋轉(zhuǎn)引起潤滑劑轉(zhuǎn)移裝置或供油螺母48的旋轉(zhuǎn)。潤滑劑從存儲器矩陣62沿指狀凸起46芯吸至轉(zhuǎn)移裝置且轉(zhuǎn)移至軸承26。主要由于由主栗抽空引起栗中生成真空壓力生成穿過儲存器矩陣的壓差，其引起氣泡成核及矩陣中的脫氣。氣泡成核可通過由栗操作引起的振動來增強。氣體的氣泡在圍繞成核部位的矩陣中生成，其在尺寸上增大。位于矩陣的外周處的間隔區(qū)域66允許氣泡分散，以減少不利于栗和軸承操作的潤滑劑起泡的發(fā)生。
【主權項】
1.一種真空栗，包括: 軸承和用于潤滑所述軸承的潤滑劑供應系統(tǒng)； 所述潤滑劑供應系統(tǒng)包括: 包括用于接收潤滑劑的儲存器矩陣的潤滑劑儲存器； 與所述儲存器矩陣接觸來將潤滑劑從所述儲存器矩陣轉(zhuǎn)移至所述軸承的潤滑劑轉(zhuǎn)移裝置，所述儲存器包括儲存器罩殼，其用于將所述儲存器矩陣相對所述潤滑劑轉(zhuǎn)移裝置定位在適當位置； 其中所述儲存器包括多個接觸區(qū)域，所述儲存器矩陣在該處與所述儲存器罩殼接觸來用于將儲存器矩陣相對所述潤滑劑轉(zhuǎn)移裝置定位在適當位置，以及各個接觸區(qū)域之間的多個間隔區(qū)域，所述儲存器矩陣在該處與所述儲存器罩殼間隔開，以用于接收由所述儲存器矩陣中的潤滑劑中脫氣引起的氣體和潤滑劑泡沫。2.根據(jù)權利要求1所述的真空栗，其特征在于，所述真空栗具有旋轉(zhuǎn)軸線，且其中所述潤滑劑轉(zhuǎn)移裝置位于所述儲存器矩陣的徑向內(nèi)側(cè)，且所述儲存器罩殼位于所述儲存器矩陣的徑向外側(cè)，且所述間隔區(qū)域位于所述儲存器矩陣的徑向外側(cè)。3.根據(jù)權利要求2所述的真空栗，其特征在于，所述間隔區(qū)域形成在所述儲存器罩殼的內(nèi)表面與所述儲存器矩陣的外表面之間。4.根據(jù)權利要求2或權利要求3所述的真空栗，其特征在于，所述間隔區(qū)域圍繞所述儲存器矩陣的圓周定位，且相鄰的間隔區(qū)域由各個接觸區(qū)域分離。5.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的真空栗，其特征在于，所述間隔區(qū)域在所述儲存器矩陣的長度上軸向地延伸。6.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的真空栗，其特征在于，所述儲存器罩殼的內(nèi)表面或所述儲存器矩陣的外表面中的一個具有多邊形或無規(guī)則截面。7.根據(jù)權利要求6所述的真空栗，其特征在于，所述外表面或所述內(nèi)表面中的另一個具有圓形截面。8.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的真空栗，其特征在于，所述儲存器罩殼的內(nèi)表面或所述儲存器矩陣的外表面中至少一個包括用于形成至少一些間隔區(qū)域的凹槽。9.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的真空栗，其特征在于，所述儲存器矩陣包括多個內(nèi)開孔，其形成在其內(nèi)表面與外表面之間，且在所述矩陣的軸向面向上的表面與所述矩陣的軸向面向下的表面之間軸向地延伸。10.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的真空栗，其特征在于，儲存器矩陣的軸向地背離所述軸承裝置的表面包括凹槽。11.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的真空栗，其特征在于，所述儲存器矩陣由至少兩層形成。12.一種用于根據(jù)前述權利要求中任一項所述的真空栗的潤滑劑供應系統(tǒng)。13.一種用于具有如本文所述和所示的多邊形或無規(guī)則截面的渦輪分子栗的儲存器矩陣。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種包括軸承(26)和用于潤滑軸承的潤滑劑供應系統(tǒng)(60)的真空泵(10)。潤滑劑供應系統(tǒng)包括：包括用于接收潤滑劑的儲存器矩陣(62)的潤滑劑儲存器；用于與儲存器矩陣接觸來將潤滑劑從儲存器矩陣轉(zhuǎn)移至軸承的潤滑劑轉(zhuǎn)移裝置(48)，儲存器包括用于使儲存器矩陣相對潤滑劑轉(zhuǎn)移裝置定位在適當位置的儲存器罩殼(30)；其中儲存器包括多個接觸區(qū)域(64)，在該處儲存器矩陣與儲存器罩殼接觸來使儲存器矩陣相對潤滑劑轉(zhuǎn)移裝置定位在適當位置，以及各個接觸區(qū)域之間的多個間隔區(qū)域(66)，儲存器矩陣在該處與儲存器罩殼間隔開以用于接收由儲存器矩陣中的潤滑劑中的脫氣引起的氣體和潤滑劑泡沫。
【IPC分類】F04D19/04, F04D29/063, F04D29/059
【公開號】CN105143682
【申請?zhí)枴緾N201480022752
【發(fā)明人】A.韋, E.盧切塔
【申請人】愛德華茲有限公司
【公開日】2015年12月9日
【申請日】2014年4月22日
【公告號】CA2902049A1, WO2014174273A1