1.一種減振器，包括：
限定了一個(gè)流體室的一個(gè)壓力管；
布置在所述壓力管內(nèi)的一個(gè)活塞組件，所述活塞組件將所述流體室分成一個(gè)上工作室和一個(gè)下工作室；
突出到所述壓力管之外的一個(gè)活塞桿，所述活塞組件被附接到所述活塞桿上；
被附接到所述活塞桿上的一個(gè)依賴(lài)頻率的閥組件，所述依賴(lài)頻率的閥組件包括：
被附接到所述活塞桿上的一個(gè)殼體，所述殼體限定一個(gè)流體空腔；
被布置在所述流體空腔內(nèi)的一個(gè)第一滑閥組件，所述第一滑閥組件包括一個(gè)第一滑閥和一個(gè)第一旁通閥組件；
被布置在所述流體空腔內(nèi)的一個(gè)第二滑閥組件，所述第二滑閥組件包括一個(gè)第二滑閥和一個(gè)第二旁通閥組件；其中
所述第一滑閥和第二滑閥在所述流體空腔內(nèi)的運(yùn)動(dòng)對(duì)應(yīng)地控制打開(kāi)所述第一旁通閥組件和第二旁通閥組件所需的流體壓力的量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減振器，其中，所述依賴(lài)頻率的閥組件控制從所述上工作室至所述下工作室的流體流動(dòng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的減振器，其中，所述依賴(lài)頻率的閥組件控制從所述下工作室至所述上工作室的流體流動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減振器，其中，所述依賴(lài)頻率的閥組件控制從所述下工作室至所述上工作室的流體流動(dòng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減振器，其中，所述殼體附接至活塞柱，該活塞柱限定了在所述下工作室與所述流體空腔之間延伸的一個(gè)流體通道。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減振器，其中，所述第一滑閥限定與所述上工作室直接處于流體連通的一個(gè)流體通道。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的減振器，其中，所述第二滑閥限定與所述下工作室直接處于流體連通的一個(gè)流體通道。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減振器，其中，所述第二滑閥限定與所述下工作室直接處于流體連通的一個(gè)流體通道。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減振器，其中，所述第一旁通閥組件包括一個(gè)第一界面和一個(gè)第一閥座板，所述依賴(lài)頻率的閥組件進(jìn)一步包括將所述界面偏置成與所述第一閥座板接合的一個(gè)第一偏置構(gòu)件，所述第一界面和所述第一閥座板限定一個(gè)第一旁通室。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的減振器，其中，所述第二旁通閥組件包括一個(gè)第二界面和一個(gè)第二閥座板，所述依賴(lài)頻率的閥組件進(jìn)一步包括將所述界面偏置成與所述第二閥座板接合的一個(gè)第二偏置構(gòu)件，所述第二界面和所述第二閥座板限定一個(gè)第二旁通室。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的減振器，其中，所述第二滑閥限定與所述第二旁通室處于流體連通的一個(gè)第二流體通道。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的減振器，其中，由所述第二滑閥限定的一個(gè)流體通道與所述下工作室直接處于流體連通。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的減振器，其中，所述第一滑閥限定與所述第一旁通室處于流體連通的一個(gè)第一流體通道。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的減振器，其中，由所述第一滑閥限定的所述第一流體通道與所述上工作室直接處于流體連通。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減振器，其中，所述第一滑閥限定與所述第一旁通閥組件處于直接流體連通的一個(gè)流體通道。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的減振器，其中，所述第二滑閥限定與所述第二旁通閥組件處于直接流體連通的一個(gè)流體通道。