本實(shí)用新型涉及一種反應(yīng)釜機(jī)械密封冷卻液，具體講是一種反應(yīng)釜機(jī)械密封EG密封冷卻液的循環(huán)裝置。

背景技術(shù)：
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目前生產(chǎn)PET的反應(yīng)釜機(jī)械密封的冷卻腔中使用的冷卻液為冷卻循環(huán)水，由于反應(yīng)釜中的生產(chǎn)原料為PTA和EG混合料，反應(yīng)釜壓力為75kPa，溫度達(dá)到200℃，為了給機(jī)械密封進(jìn)行降溫，機(jī)械密封的密封腔內(nèi)充滿密封冷卻液,密封冷卻液為EG，如果機(jī)械密封的冷卻腔體腐蝕穿孔內(nèi)漏后會有部分冷卻循環(huán)水進(jìn)入到密封腔中，從而污染密封冷卻液，該密封冷卻液在反應(yīng)釜機(jī)封運(yùn)行中的作用十分關(guān)鍵，如機(jī)械密封沒有密封冷卻液的潤滑機(jī)械密封將會因摩擦高溫?zé)龤?，造成混合有冷卻循環(huán)水的密封冷卻液進(jìn)入反應(yīng)釜中，從而引起生產(chǎn)線停產(chǎn)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
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本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是，提供一種可有效解決機(jī)械密封冷卻液泄漏問題，從而延長反應(yīng)釜使用壽命，提高產(chǎn)品質(zhì)量的反應(yīng)釜機(jī)械密封EG密封冷卻液的循環(huán)裝置。

本實(shí)用新型的技術(shù)解決方案是，提供一種反應(yīng)釜機(jī)械密封EG密封冷卻液的循環(huán)裝置，包括反應(yīng)釜和原料調(diào)配槽，反應(yīng)釜上設(shè)有機(jī)械密封，機(jī)械密封上設(shè)有冷卻腔和密封腔，密封腔內(nèi)充滿EG密封冷卻液，還包括EG密封冷卻液槽，EG密封冷卻液槽位于反應(yīng)釜上方6.5-7.7m處，機(jī)械密封的冷卻腔和EG密封冷卻液槽通過管路形成循環(huán)回路，循環(huán)回路內(nèi)充滿EG,冷卻腔還設(shè)有EG補(bǔ)償管路，用于外接EG存儲罐以補(bǔ)充EG,EG密封冷卻液槽還設(shè)有溢流孔，溢流孔與原料調(diào)配槽之間通過管路連接。

采用以上結(jié)構(gòu)后與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn)：將原來的冷卻水循環(huán)管路加以改進(jìn)，將冷卻循環(huán)水改進(jìn)為EG，使得冷卻循環(huán)液和密封液均為EG,保證機(jī)械密封的安全，即使密封有輕微泄漏到反應(yīng)釜中也不影響生產(chǎn)，因?yàn)镋G是產(chǎn)品的原料之一，增加一個(gè)EG密封冷卻液槽作為液位壓力平衡槽，杜絕了機(jī)械密封外漏的可能，壓力平衡槽的高度所產(chǎn)生的靜壓，略微超過了反 應(yīng)釜內(nèi)的壓力，即使泄漏也是內(nèi)漏，不可能外漏，而且，用于冷卻的EG循環(huán)后進(jìn)入裝置反應(yīng)系統(tǒng)中，不存在任何浪費(fèi)現(xiàn)象。

作為優(yōu)選，EG密封冷卻液槽位于反應(yīng)釜上方6.75m處。

附圖說明：

附圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式：

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明：

如圖所示，一種反應(yīng)釜機(jī)械密封EG密封冷卻液的循環(huán)裝置，包括反應(yīng)釜1和原料調(diào)配槽2，反應(yīng)釜1上設(shè)有機(jī)械密封3，機(jī)械密封3上設(shè)有冷卻腔和密封腔，密封腔內(nèi)充滿EG密封冷卻液，還包括EG密封冷卻液槽4，EG密封冷卻液槽4位于反應(yīng)釜上方6.75m處，機(jī)械密封的冷卻腔和EG密封冷卻液槽通過管路形成循環(huán)回路，循環(huán)回路內(nèi)充滿EG,冷卻腔還設(shè)有EG補(bǔ)償管路5，用于外接EG存儲罐以補(bǔ)充EG,EG密封冷卻液槽4還設(shè)有溢流孔6，溢流孔6與原料調(diào)配槽2之間通過管路連接。EG密封冷卻液槽4與機(jī)械密封的高度為6.75米，產(chǎn)生靜壓為75kPa，配合作為壓力平衡槽的EG密封冷卻液槽的液位高度，以確保壓力能滿足使用要求，使之壓力略大于反應(yīng)釜內(nèi)部壓力，起到密封作用。本實(shí)用新型，使得密封液和冷卻液使用同一種EG液體，潤滑冷卻二種效果兼能達(dá)到，且EG密封冷卻液槽既能有效確保密封冷卻液的壓力，并且在EG密封冷卻液槽內(nèi)開有溢流孔，免除了因波動(dòng)造成EG溢槽的危險(xiǎn)，由溢流孔外接一管子直接引入原料調(diào)配槽中，循環(huán)利用不浪費(fèi)。

以上僅就本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例作了說明，但不能理解為是對權(quán)利要求的限制。凡是利用本實(shí)用新型說明書及附圖內(nèi)容所做的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，均包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍之內(nèi)。