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      用于小顆粒尺寸物料的滑閥的制作方法_2

      文檔序號:8560503閱讀:來源:國知局
      部抵靠上述橫向板條11 ;圖1),所述水平板具有設置有向下延伸的豎直鄰接部50B的端部。
      [0051]在水平板50A的上表面上設置有縱向凹槽60,所述縱向凹槽能夠容納突出元件30A*,所述突出元件從密封元件30的上部30A突出。
      [0052]突出部分30A*與縱向凹槽60之間的耦接部表示第一錨固區(qū)域AZl,以便將密封元件30錨固于上述的支撐元件50。
      [0053]用于將密封元件30也錨固于支撐元件50的第二錨固區(qū)域AZ2存在于將密封元件30的彎曲部30B*耦接于豎直鄰接部50B的耦接部中。
      [0054]參見圖3、4、5,可以看到,在豎直鄰接部50B與下部30B之間限定有腔體25,在使用時,所述腔體容納調節(jié)裝置20。應當指出的是,腔體25有利地、但不是必須地具有長方體的形狀。
      [0055]更詳細地說,如圖3中所示,腔體25由下述壁限定:
      [0056]-第一豎直面25A,形成于豎直鄰接部50B上;
      [0057]-第二豎直面30C,形成于密封元件30的下部30B上;
      [0058]-第一水平面25B,形成于豎直鄰接部50B上;以及
      [0059]-第二水平面30D,形成于密封元件30的下部30B上。
      [0060]還應當指出的是,豎直鄰接部50B的下表面還靠置在第二水平面30D上。
      [0061]在下部30B的下面80 (在使用時,所述下面位于開閉器40的上面40A上)上,存在兩個接觸點81、82。
      [0062]順便地,應該指出的是,即使在本文中我們談的是“接觸點”,但是我們顯然不涉及幾何學意義中的實際“點”,而是具有橫向于軸線X延伸的基本上矩形的區(qū)域。當然,每個橫向區(qū)域的寬度取決于制成密封元件30的物料的類型(所述物料可能或多或少地可變形)、以及取決于該密封元件30被按壓抵靠于開閉器40的上面40A上的強度。
      [0063]如圖3、4、5中所示,另一下部密封元件90 (其可以有利地、但不是必須地類似于上面所描述的上部密封元件30而成形、或者可以與上部密封元件相似)可作用于開閉器40的下表面40B上。
      [0064]對應于兩個點81、82,如果由于下部30B的下面80抵靠開閉器40的上面40A之間的周期性摩擦,則接觸點81、82受到磨損,在這種情況下發(fā)生的這種情形下基本上是圖4中所示的情形。
      [0065]為了恢復密封元件30與開閉器40的上面40A之間的所損失的密封能力,用戶僅需簡單地根據(jù)箭頭F3 (圖2)移動第一板條21,從而使得第一系列的傾斜部23A相對于第二系列的傾斜部23B的相對滑動產生第二板條22的根據(jù)箭頭F4的向下運動,所述第二板條的下表面22A(圖2、3)按壓抵靠密封元件30的第二水平面30D。
      [0066]換句話說,由于制成密封元件30的材料的可變形性,第二板條22的下表面22A在水平面30D上的作用轉變成密封元件30的下面80在開閉器40的上面40A上的后續(xù)作用,因而恢復了密封能力。
      [0067]現(xiàn)在,該情況是圖5中所示的情況,其中,即,由于下面80對應于調節(jié)裝置20而引起的局部變形,鄰近于上述接觸點81、82形成有第三觸點83。
      [0068]應當指出的是,三個接觸點81、82、83基本上對齊、并且均位于下面80上。
      [0069]即使密封點81、82、83中的單個接觸開閉器40的上面40A,本實用新型的滑閥100也能正確地工作。
      [0070]因此,正確的密封能力的恢復可在密封元件30與上面40A之間產生之前不存在的干涉部(接觸點83)、并且/或者可恢復先前受到磨損的干涉點(接觸點81、82中的至少一個)。
      [0071]有利地但不是必須地,第一板條21相對于固定框架10的運動可以通過使用者旋擰螺紋件(未示出)來操作,其自由端被彎曲(參見圖1、2)并且設置有容納螺紋件的孔眼15。因此,如果用戶旋擰該螺紋件,則螺紋件的自由端通過按壓抵靠固定框架10而導致第一板條21根據(jù)箭頭F3的直線運動。
      [0072]因此,第二板條22的向下運動(箭頭F4)轉變成下面80在開閉器40的上面40A上所施加的更大壓力,結果提高了密封能力。
      [0073]此外,應該指出的是,由于調節(jié)裝置20被構思的方式,無論如何,筆直的密封元件沿其整個縱向延伸范圍總是受到相同的壓力,并且這允許每個接觸點81、82 (83,如果設置有的話)以相同的方式經(jīng)受磨損、并且被磨損達到相同的程度。
      [0074]還應當指出的是,箭頭F3(具有垂直于前述軸線X的軸線Y)橫向于(transversalto,垂直于)箭頭F1、F2且橫向于所述軸線X。此外,箭頭F4—方面橫向于箭頭F1、F2、且另一方面橫向于箭頭F3。
      [0075]還應當指出的是,第一板條21的水平運動由腔體25的面25A、25B、30C引導。
      [0076]在未示出的另一實施例中,下板條橫向地且豎直地移動,而上板條保持靜止。為了使說明更加容易,參照最常見的布置對根據(jù)本實用新型的閥進行了描述且要求了保護,所述最常見的布置即為這樣的布置,在該布置中,開閉器水平地設置、并且待攔截的物料布置在閥上方。顯然,閥可具有不同的布置,例如,它可以相對于附圖中所示的圖旋轉。
      [0077]顯然,根據(jù)本實用新型的滑閥可以對實際應用特性進行變化和改變,但是不能因此而脫離下面所要求保護的本實用新型的保護范圍。
      [0078]根據(jù)本實用新型的滑閥的主要優(yōu)點在于,能夠以簡單且直觀的方式調節(jié)密封元件的下唇部,該唇部始終以均勻的方式保持被按壓抵靠開閉器的上面,以便避免粉末物料朝向閥的致動器機構的危險泄漏。
      【主權項】
      1.一種用于小顆粒尺寸物料的滑閥,所述滑閥包括:剛性框架(10),所述剛性框架限定排放嘴(OP)以排放所述物料;以及開閉器(40),所述開閉器由相應的移動機構(45)致動,所述開閉器(40)能夠移動并且具有延伸部,所述延伸部形成為當在俯視視角觀察時關閉所述排放嘴(OP); 其特征在于,所述滑閥進一步包括用于密封元件(30)的高度調節(jié)裝置(20),所述高度調節(jié)裝置(20)適于補償所述密封元件(30)的下面(80)與所述開閉器(40)的上面(40A)之間的密封效果損失,所述密封效果損失是由于所述密封元件(30)的所述下面(80)與所述開閉器(40)的所述上面(40A)之間的相對摩擦產生的磨損而引起的。
      2.根據(jù)權利要求1所述的滑閥,其特征在于,所述高度調節(jié)裝置(20)包括第一元件(21 ;22),所述第一元件被耦接于第二元件(22 ;21);所述第一元件(21 ;22)的水平移動轉變成所述第二元件(22;21)的豎直移動,所述第二元件進而作用于所述密封元件(30)上,以便恢復期望的密封效果。
      3.根據(jù)權利要求1或2所述的滑閥,其特征在于,在所述密封元件(30)的所述下面(80)上,存在位于所述下面(80)與所述開閉器(40)的所述上面(40A)之間的至少一個接觸點,所述至少一個接觸點(83)是由于所述下面(80)對應于所述高度調節(jié)裝置(20)所引起的局部變形而產生的。
      4.根據(jù)權利要求3所述的滑閥,其特征在于,在所述下面(80)與所述開閉器(40)的所述上面(40A)之間存在有兩個其他接觸點(81、82)。
      5.根據(jù)權利要求1或2所述的滑閥,其特征在于,所述高度調節(jié)裝置(20)包括第一板條(21),所述第一板條借助于鋸齒耦接部(23)而位于第二板條(22)上。
      6.根據(jù)權利要求1或2所述的滑閥,其特征在于,所述密封元件(30)包括:上部(30A),所述上部位于所述高度調節(jié)裝置(20)上方;以及下部(30B),所述下部鄰近于所述高度調節(jié)裝置(20)并且設置在所述高度調節(jié)裝置下方。
      7.根據(jù)權利要求6所述的滑閥,其特征在于,所述密封元件(30)的所述上部(30A)位于支撐元件(50)上,所述支撐元件進而包括水平板(50A),所述水平板具有一端部,所述端部設置有向下延伸的豎直鄰接部(50B);在所述水平板(50A)的上表面上設置有縱向凹槽(60),所述縱向凹槽定位成容納突出元件(30A*),所述突出元件從所述密封元件(30)的所述上部(30A)突出;所述突出元件(30A*)與所述縱向凹槽(60)之間的耦接部表示第一錨固區(qū)域(AZl),以將所述密封元件(30)錨固于所述支撐元件(50)。
      8.根據(jù)權利要求7所述的滑閥,其特征在于,用于將所述密封元件(30)錨固于所述支撐元件(50)的第二錨固區(qū)域(AZ2)存在于將所述密封元件(30)的彎曲部(30B*)耦接于所述豎直鄰接部(50B)的耦接部中。
      9.根據(jù)權利要求7或8所述的滑閥,其特征在于,在所述豎直鄰接部(50B)與所述密封元件(30)的所述下部(30B)之間限定有腔體(25),所述腔體容納所述高度調節(jié)裝置(20)。
      10.根據(jù)權利要求9所述的滑閥,其特征在于,另一下密封元件(90)作用在所述開閉器(40)的下表面(40B)上,所述另一下密封元件被成形為類似于所述密封元件(30)。
      【專利摘要】本實用新型公開了一種用于小顆粒尺寸物料的滑閥。所述滑閥(100)包括:剛性框架(10),其限定排放嘴(OP)以排放物料;以及開閉器(40),由相應的移動機構(45)致動,開閉器(40)能夠移動并且具有延伸部,延伸部形成為當在俯視視角觀察時關閉排放嘴(OP)?;y進一步包括用于密封元件(30)的高度調節(jié)裝置(20),高度調節(jié)裝置(20)適于補償密封元件(30)的下面(80)與開閉器(40)的上面(40A)之間的密封效果損失。根據(jù)本實用新型的滑閥能夠以簡單且直觀的方式調節(jié)密封元件的下唇部,以便避免粉末物料朝向閥的致動器機構的危險泄漏。
      【IPC分類】F16K3-30
      【公開號】CN204267773
      【申請?zhí)枴緾N201420578232
      【發(fā)明人】萬納·馬切西尼
      【申請人】威埃姆集團股份有限公司
      【公開日】2015年4月15日
      【申請日】2014年10月8日
      【公告號】WO2015049622A1
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