本發(fā)明涉及壓力/差壓變送器系列產(chǎn)品，具體說是一種保護壓力/差壓變送器的硅傳感元件免受高過載壓力破壞的結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)：
隨著科技的進步使用新技術(shù)新材料制造的工業(yè)自動化產(chǎn)品的大量涌現(xiàn)，利用單晶硅的壓阻效應(yīng)制作的壓力/差壓變送器就是其中之一。該壓力/差壓變送器采用了單晶硅的壓阻轉(zhuǎn)換電信號的檢測方式，將作用在硅傳感元件正壓腔和負壓腔的壓力變化，使設(shè)置在單晶硅表層的橋臂電阻發(fā)生變化量，經(jīng)壓力/差壓變送器上的低功耗電子電路轉(zhuǎn)換成與被測壓力/差壓量相對應(yīng)的4-20mA電流信號及數(shù)字顯示。由于工業(yè)場合使用的壓力/差壓變送器的測量介質(zhì)本身的靜態(tài)壓力或過載壓力，有可能大大超過單晶硅本身所能承受的壓力，造成單晶硅的損壞。因此要提供一種既能真實傳導(dǎo)檢測介質(zhì)的壓力又要保護壓力/差壓變送器的硅傳感元件免受高過載壓力破壞的結(jié)構(gòu)，已成為當(dāng)務(wù)之亟

技術(shù)實現(xiàn)要素：
為了克服現(xiàn)有產(chǎn)品的缺陷，本發(fā)明的目的是要提出結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，工作安全和穩(wěn)定的一種保護壓力/差壓變送器的硅傳感元件免受高過載壓力破壞的結(jié)構(gòu)。本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：一種保護壓力/差壓變送器的耐高過載結(jié)構(gòu)，其特征是：有一對排列在一起的正壓側(cè)基座和負壓側(cè)基座，正壓側(cè)基座與負壓側(cè)基座的內(nèi)端波紋面之間設(shè)置有中心膜片，中心膜片與正壓側(cè)基座及負壓側(cè)基座的內(nèi)端波紋面外周界固定在一起，正壓側(cè)基座和負壓側(cè)基座的上端固定有連接件，正壓側(cè)基座和負壓側(cè)基座的中間上端設(shè)置有墊塊，墊塊上端固定有硅傳感器，硅傳感器下端中心設(shè)置有硅片；墊塊中設(shè)置有墊塊正壓腔引壓孔，正壓側(cè)基座中設(shè)置有上正壓腔引壓孔、中上正壓腔引壓孔、中正壓腔引壓孔、下正壓腔引壓孔及正壓腔灌油孔，上正壓腔引壓孔一端通墊塊正壓腔引壓孔、另一端與中上正壓腔引壓孔一端相通，中上正壓腔引壓孔另一端通向正壓側(cè)基座的內(nèi)端波紋面，中正壓腔引壓孔一端通向正壓側(cè)基座的內(nèi)端波紋面、另一端通向正壓側(cè)基座的外端波紋面，下正壓腔引壓孔一端通向正壓側(cè)基座的內(nèi)端波紋面、另一端通向正壓側(cè)基座的外端波紋面，正壓腔灌油孔一端通向下正壓腔引壓孔、另一端通向正壓側(cè)基座的下端；負壓側(cè)基座的中間設(shè)置有負壓腔灌油孔、下負壓腔引壓孔、中負壓腔引壓孔、中上負壓腔引壓孔及上負壓腔引壓孔，負壓腔灌油孔一端通向下負壓腔引壓孔、另一端通向負壓側(cè)基座的下端，下負壓腔引壓孔一端通向負壓側(cè)基座的內(nèi)端波紋面、另一端通向負壓側(cè)基座的外端波紋面，中負壓腔引壓孔一端通向負壓側(cè)基座的內(nèi)端波紋面、另一端通向負壓側(cè)基座的外端波紋面，中上負壓腔引壓孔一端通向負壓側(cè)基座的內(nèi)端波紋面、另一端與上負壓腔引壓孔的一端相通，上負壓腔引壓孔的另一端通向硅傳感器與連接件縫隙；硅傳感器內(nèi)設(shè)置有上端負壓腔引壓孔及中端負壓腔引壓孔，上端負壓腔引壓孔一端通向硅傳感器與連接件縫隙、另一端與中端負壓腔引壓孔的一端相通，中端負壓腔引壓孔另一端通向硅片的負壓側(cè)受壓面；正壓腔引壓孔、正壓腔灌油孔和負壓腔引壓孔、負壓腔灌油孔中間設(shè)置有硅油；正壓側(cè)基座和負壓側(cè)基座的外端波紋面外固定有隔離膜片；正壓側(cè)基座和負壓側(cè)基座的下端設(shè)置有緊定螺釘，緊定螺釘中心上端設(shè)置有密封鋼球。所述的正壓側(cè)基座與負壓側(cè)基座的內(nèi)端波紋面外周界相互固定，且正壓側(cè)基座和負壓側(cè)基座內(nèi)與隔離膜片軸向垂直的引壓孔方向一致及緊定螺釘方向一致。所述的硅片的正壓受壓面與墊塊正壓腔引壓孔相通，硅片的負壓受壓面與硅傳感器內(nèi)設(shè)置的中端負壓腔引壓孔相通。所述的正壓側(cè)基座與負壓側(cè)基座的基座外端波紋面與隔離膜片之間、引壓孔內(nèi)、兩基座內(nèi)端波紋面與中心膜片之間及硅傳感器與連接件縫隙之間設(shè)置有硅油。本發(fā)明在正壓側(cè)基座中心及內(nèi)部設(shè)置有正壓側(cè)引壓孔的基座外端波紋面外固定有隔離膜片；負壓側(cè)基座中心及內(nèi)部設(shè)置有負壓側(cè)引壓孔的基座外端波紋面外固定有隔離膜片；兩基座內(nèi)與隔離膜片軸向垂直的引壓孔上方的基座外周固定有連接件；兩基座上方的基座內(nèi)周固定有墊塊，且墊塊正壓腔引壓孔與上正壓腔引壓孔相通；墊塊上面固定有硅傳感器；硅傳感器內(nèi)與墊塊之間固定有硅片；硅傳感器上面外周界固定在螺紋連接件上。本發(fā)明的基座、隔離膜片、中心膜片、墊塊、硅傳感器、連接件為金屬材料。本發(fā)明的所有正壓腔引壓孔、負壓腔引壓孔、波紋面是由機械加工完成的。本發(fā)明的硅油是經(jīng)高溫高真空下處理過的硅油灌注的。本發(fā)明的固定方法是由焊接固定的。本發(fā)明的有益效果是：由于本發(fā)明解決了壓力/差壓變送器的硅傳感元件免受高過載壓力破壞的結(jié)構(gòu)。當(dāng)正常待測介質(zhì)的壓力作用于兩邊隔離膜片上，一邊經(jīng)正壓側(cè)基座內(nèi)的硅油傳遞到硅片的正壓受壓面，另一邊經(jīng)負壓側(cè)基座內(nèi)的硅油傳遞到硅片的負壓受壓面。當(dāng)待測介質(zhì)的壓力超出壓力/差壓變送器正常測量的壓力時，正壓側(cè)基座、負壓側(cè)基座兩邊的隔離膜片會貼住正壓側(cè)基座、負壓側(cè)基座中心的引壓孔，這樣就阻隔了壓力的傳遞，也就實現(xiàn)了壓力/差壓變送器的硅傳感元件免受高過載壓力破壞的結(jié)構(gòu)。附圖說明以下結(jié)合附圖及實施例對本發(fā)明進行進一步的描述。圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)視圖。圖中：1連接件，2、6、8、9、10、20、21焊道，3硅傳感器，4硅片，5墊塊正壓腔引壓孔、32上正壓腔引壓孔、11中上正壓腔引壓孔、15中正壓腔引壓孔、17下正壓腔引壓孔、33正壓腔灌油孔、7墊塊，12正壓側(cè)基座，13中心膜片，14、28硅油，16、25隔離膜片，18、23密封鋼球，19、22緊定螺釘，24下負壓腔引壓孔、26中負壓腔引壓孔、29中上負壓腔引壓孔、30上負壓腔引壓孔、31上端負壓腔引壓孔、34負壓腔灌油孔、35中端負壓腔引壓孔、27負壓側(cè)基座。實施例1：有一對排列在一起的正壓側(cè)基座12和負壓側(cè)基座27，正壓側(cè)基座與負壓側(cè)基座的內(nèi)端波紋面之間設(shè)置有中心膜片13，中心膜片與正壓側(cè)基座及負壓側(cè)基座的內(nèi)端上、下的波紋面外周界固定在一起，正壓側(cè)基座和負壓側(cè)基座的上端固定有連接件1，正壓側(cè)基座和負壓側(cè)基座的中間上端設(shè)置有墊塊7，墊塊上端固定有硅傳感器3，硅傳感器下端中心設(shè)置有硅片4；墊塊中間設(shè)置有墊塊正壓腔引壓孔5，正壓側(cè)基座中間設(shè)置有上正壓腔引壓孔32、中上正壓腔引壓孔11、中正壓腔引壓孔15、下正壓腔引壓孔17；負壓側(cè)基座的中間設(shè)置有下負壓腔引壓孔24、中負壓腔引壓孔26、中上負壓腔引壓孔29、上負壓腔引壓孔30；硅傳感器中間設(shè)置有上端負壓腔引壓孔31、中端負壓腔引壓孔35；正壓側(cè)引壓孔中間設(shè)置有硅油14，負壓側(cè)引壓孔中間設(shè)置有硅油28；正壓側(cè)基座的外端波紋面外固定有隔離膜片16，負壓側(cè)基座的外端波紋面外固定有隔離膜片25；正壓側(cè)基座的下端設(shè)置有正壓腔灌油孔33、緊定螺釘19，負壓側(cè)基座的下端設(shè)置有負壓腔灌油孔34、緊定螺釘22，緊定螺釘中心上端設(shè)置有密封鋼球18和23。本實施例附圖中加黑部分為焊道分別為2、6、8、9、10、20、21。