1.一種在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一光離子化偵測(cè)器(PID)的清除與清洗功能，該P(yáng)ID具有一第一導(dǎo)管(20)，用以在一量測(cè)周期內(nèi)將端口(16)的周圍氣體導(dǎo)入用以在該P(yáng)ID的一電離室(10)內(nèi)量測(cè)，一泵(48)，一第二導(dǎo)管(22)用以流通埠(18)的周圍空氣，以及該P(yáng)ID的一清洗室(12)，其移除在周圍空氣內(nèi)的污染物與雜質(zhì)，以及一第一閥(30A)用以將埠(16)的周圍氣體或埠(18)的周圍空氣引導(dǎo)流入該電離室(10)，而一第二閥(30B)用以將埠(16)的清洗與過(guò)濾后的周圍氣體和埠(18)的周圍空氣排出，電離室(10)內(nèi)殘留的空氣中污染物與雜質(zhì)在該量測(cè)周期后會(huì)被端口(16)的周圍氣體排出，其特征在于該第一閥(30A)系被放置為，該第一導(dǎo)管(20)與該第二導(dǎo)管(22)進(jìn)入該第一閥(30A)，而一出口從該第一閥(30A)連至該電離室 (10)，通到該泵(48)，以及該第二閥 (30B)系被設(shè)置為連接該泵 (48)，并連至一進(jìn)入空氣中的流出導(dǎo)管，以及連至該第一導(dǎo)管(20)；在該第一周期的一量測(cè)周期中，在端口(16)的周圍氣體會(huì)因?yàn)樵摫?48)的操作被抽至該電離室(10)，而在一清洗與清除周期的第二周期，端口(18)的周圍空氣會(huì)在該清洗室 (12)內(nèi)被清洗并抽出，以排出在量測(cè)周期內(nèi)因?yàn)槎丝?16)的周圍氣體離子化而在該電離室(10)的空氣中所產(chǎn)生的雜質(zhì)和污染物，并經(jīng)由該流出導(dǎo)管(26)排出埠(16)。
2.如申請(qǐng)專利范圍第1項(xiàng)所述之在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一PID的清除與清洗功能，其特征在于該第一閥(30A)系一3:2閥，其引導(dǎo)埠(16)的周圍氣體或埠(18)的周圍空氣流進(jìn)該電離室(10)。
3.如申請(qǐng)專利范圍第1項(xiàng)所述之在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一PID的清除與清洗功能，其特征在于該第二閥(30B)系一3:2閥，其引導(dǎo)該電離室(10)排出的空氣中雜質(zhì)與污染物流至該流出導(dǎo)管(26)或該第一導(dǎo)管(20)。
4.如申請(qǐng)專利范圍第1項(xiàng)所述之在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一PID的清除與清洗功能，其特征在于該清洗端口(18)的周圍空氣與清除該電離室(10)是在該P(yáng)ID的操作的第二周期完成。
5.如申請(qǐng)專利范圍第3項(xiàng)所述之在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一PID的清除與清洗功能，其特征在于該清洗端口(18)的周圍空氣是在該P(yáng)ID 的該清洗室(12)完成清洗。
6.一種在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一光離子化偵測(cè)器(PID)的清除與清洗功能，該P(yáng)ID具有一第一導(dǎo)管(20)，用以在一量測(cè)周期內(nèi)將端口(16)的周圍氣體導(dǎo)入用以在該P(yáng)ID的一電離室(10)內(nèi)量測(cè)，一泵(48)，一第二導(dǎo)管(22)用以流通埠(18)的周圍空氣，以及該P(yáng)ID的一清洗室(10)，其移除在周圍空氣內(nèi)的污染物與雜質(zhì)，以及一第一閥(30A)用以將埠(16)的周圍氣體或埠(18)的周圍空氣引導(dǎo)流入該電離室(10)，而一第二閥(30B)用以將埠(16)的清洗與過(guò)濾后的周圍氣體和埠(18)的周圍空氣排出，電離室(10)內(nèi)殘留的空氣中污染物與雜質(zhì)在該量測(cè)周期后會(huì)被端口(16)的周圍氣體排出。
7.如申請(qǐng)專利范圍第1項(xiàng)所述之在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一PID的清除與清洗功能，其特征在于在該第一周期時(shí)，該第一閥(30A)系開(kāi)啟的以引導(dǎo)埠(16)的周圍氣體流至該電離室(10)，而該第二閥(30 B)系開(kāi)啟的以連至該流出導(dǎo)管(26)而通至空氣中。
8.如申請(qǐng)專利范圍第1項(xiàng)所述之在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一PID的清除與清洗功能，其特征在于在該第二周期經(jīng)由該清洗室(12)抽出埠(18)的周圍空氣時(shí)，該第二閥(30A)系開(kāi)啟的以引導(dǎo)該被清除的包含雜質(zhì)之空氣經(jīng)由該流出導(dǎo)管(26)流至空氣中。
9.一種在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一光離子化偵測(cè)器(PID)的清除與清洗功能，該P(yáng)ID具有一第一導(dǎo)管(20)，用以在一量測(cè)周期內(nèi)將端口(16)的周圍氣體導(dǎo)入用以在該P(yáng)ID的一電離室(10)內(nèi)量測(cè)，一流出導(dǎo)管(26)透過(guò)氣體埠(16B)連接至一周圍氣體環(huán)境，一泵(48)，以及一第一閥(30A)用以讓埠(16A)的周圍氣體直接流動(dòng)，而一第二閥(30B)系與該泵(48)連接，以及一出口系連接至該第一導(dǎo)管(20)而通至該氣體埠(16A)與連接該該流出導(dǎo)管(26)而通至該周圍氣體(16B)，其特征在于該第一閥(30A)系被放置為，該第一導(dǎo)管(20)與該流出導(dǎo)管(26)進(jìn)入該第一閥(30A)，而出口連至該電離室 (10)，以及該第二閥 (30B)系被設(shè)置于連接該電離室(10)的該泵 (48)，而出口系連至該第一導(dǎo)管(20)，并連接至通往空氣的流出導(dǎo)管(26)；在該第一周期的一量測(cè)與清除周期中，在端口(16A)的周圍氣體會(huì)因?yàn)樵摫?48)的操作被抽至該電離室(10)以經(jīng)由氣體導(dǎo)管(26)在氣體埠(16B)進(jìn)行量測(cè)，而在另一清洗與清除周期的第二周期，端口(16B)的周圍空氣會(huì)被泵(48)抽至電離室(10)，并經(jīng)由該流出導(dǎo)管(26)透過(guò)埠(16A)清除。
10.如申請(qǐng)專利范圍第9項(xiàng)所述之在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一PID的清除與清洗功能，其特征在于該第一閥(30A)系一3:2閥，其引導(dǎo)埠(16A)或埠(16B)的周圍氣體流進(jìn)該電離室(10) 而進(jìn)至該泵(48)。
11.如申請(qǐng)專利范圍第9項(xiàng)所述之在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一PID的清除與清洗功能，其特征在于該第二閥(30B)系一3:2閥，其引導(dǎo)其引導(dǎo)該電離室(10)排出的空氣中雜質(zhì)與污染物流至該流出導(dǎo)管(26)或該第一導(dǎo)管(20)。
12.一種在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一光離子化偵測(cè)器(PID)的清除與清洗功能，該P(yáng)ID具有一第一導(dǎo)管(20)，用以在一量測(cè)周期內(nèi)將端口(16A)的周圍氣體導(dǎo)入用以在該P(yáng)ID的一電離室(10)內(nèi)量測(cè)，一泵(48)，一第二導(dǎo)管(22)用以流通周圍空氣(18)，以及該P(yáng)ID的一清洗室(12)，其移除在該周圍空氣內(nèi)，以及流入埠(16B)的另一股周圍氣體的污染物與雜質(zhì)，以及一第一閥(30A)，用以讓埠(16A)的周圍氣體或埠(18)的周圍空氣引導(dǎo)流入并進(jìn)至一第二閥(30B)，以及該第二閥 (30B)系與該第三閥 (30C)連接，而出口連接至該電離室(10)，以及該第三閥(30C) 系連接至該流出導(dǎo)管(26)與該第二導(dǎo)管(22)，用以流通埠(18)的周圍空氣，以及一第四閥(30D)用以導(dǎo)引流動(dòng)從該泵(48)經(jīng)由空氣出口埠16A或埠16B排出至空氣中，其特征在于該第一閥(30A)系被放置為，該第一導(dǎo)管(20)與該第二導(dǎo)管(22)進(jìn)入該第一閥(30A)，而一出口系連至該第二閥(30B)，該第二閥 (30B)系被設(shè)置為一端連接該第一閥(30A)，另一端連接該第三閥(30C)，而又另一端連接至該電離室(10)，以及該第三閥(30C)系連接至該流出導(dǎo)管(26) 與該第二導(dǎo)管(22)，而出口系連接至該第二閥(30B)，以及該第四閥(30D) 系被設(shè)置為一端連接該泵(48)，而出口的一端連接至該第一導(dǎo)管(20)，而另一端連接至該流出導(dǎo)管(26)而通至空氣中；在該第一周期，系執(zhí)行量測(cè)與清除，而在該第二周期，系執(zhí)行清洗與清除，在該第三周期，系執(zhí)行量測(cè)與清除，而在該第四周期，系執(zhí)行清洗與清除。
13.如申請(qǐng)專利范圍第12項(xiàng)所述之在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一PID的清除與清洗功能，其特征在于該第一閥(30A)系一3:2閥，其引導(dǎo)埠(16A) 的周圍氣體或來(lái)自該第二導(dǎo)管的埠(18)的周圍空氣通過(guò)該P(yáng)ID的一清洗室(12)，其移除該埠(18)的周圍空氣中的污染物與雜質(zhì)，而排出至該第二閥 (30B)。
14.如申請(qǐng)專利范圍第12項(xiàng)所述之在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一PID的清除與清洗功能，其特征在于該第二閥(30B)系一3:2閥，其引導(dǎo)來(lái)自該第一閥(30A)或者該第三閥(30C) 的周圍氣體，排至該電離室(10)，并引導(dǎo)至該泵(48)。
15.如申請(qǐng)專利范圍第12項(xiàng)所述之在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一PID的清除與清洗功能，其特征在于該第三閥(30C)系一3:2閥，其引導(dǎo)氣體流動(dòng)至該流出導(dǎo)管(26)與該第二導(dǎo)管(22)，并連接至該第二閥(30B)而排出。
16.如申請(qǐng)專利范圍第12項(xiàng)所述之在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一PID的清除與清洗功能，其特征在于該第四閥(30D)系一3:2閥，其被設(shè)置為一端連接該泵(48)，另一端出口連接該第一導(dǎo)管(20)，而又另一端連接該流出導(dǎo)管(26)而導(dǎo)至空氣中。
17.如申請(qǐng)專利范圍第12項(xiàng)所述之在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一PID的清除與清洗功能，其特征在于經(jīng)由該端口(16A)與(16B)量測(cè)周圍氣體，以及清除該電離室(10)與該氣體埠(16B)和(16A)系于該P(yáng)ID的第一與第三周期完成。
18.如申請(qǐng)專利范圍第12項(xiàng)所述之在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一PID的清除與清洗功能，其特征在于透過(guò)該清洗室(12)清洗該埠(18)的周圍空氣，以及清除該電離室(10)與氣體埠(16B)和(16A)系于該P(yáng)ID的第二與第四周期完成。
19.如申請(qǐng)專利范圍第12項(xiàng)所述之在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一PID的清除與清洗功能，其特征在于清洗該端口(18)的周圍空氣系于該P(yáng)ID的該清洗室(12)內(nèi)完成。
20.如申請(qǐng)專利范圍第1項(xiàng)所述之在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一PID的清除與清洗功能，更包含一流出導(dǎo)管(26)以將埠(16)的周圍氣體從該電離室(10)流出至環(huán)境中。
21.如申請(qǐng)專利范圍第1項(xiàng)所述之在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一PID的清除與清洗功能，其中于該第二周期內(nèi)的該清除步驟，在埠(18)的周圍空氣由該第一閥(30A)引導(dǎo)通過(guò)該清洗室(12) 至該電離室(10)，以及接著流動(dòng)至該第一導(dǎo)管(20)，經(jīng)由該第二閥(30B)引導(dǎo)由該氣體埠(16)清除排至環(huán)境中。
22.一種在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一光離子化偵測(cè)器(PID)的清除與清洗功能，該P(yáng)ID具有一第一導(dǎo)管(20)，用以在一量測(cè)周期內(nèi)將端口(16A)的周圍氣體導(dǎo)入用以在該P(yáng)ID的一電離室(10)內(nèi)量測(cè)，一泵(48)，一第二導(dǎo)管(22)用以流通埠(18)的周圍空氣，以及該P(yáng)ID的一清洗室(12)，其移除在該周圍空氣內(nèi)，以及流入埠(16B)的另一股周圍氣體的污染物與雜質(zhì)，以及一第一閥(30A)，用以讓埠(16)的周圍氣體流入一第二閥(30B)，以及一第三閥(30C)，而該第二閥(30B)系連接至該電離室(10)，該第二閥(30B)的一個(gè)埠系連接至該第一閥(30A)，以及該第三閥(30C)系連接至一流出導(dǎo)管(26)，該第三閥(30C) 的一個(gè)埠系連接至該第一導(dǎo)管(20)，埠(18)的周圍空氣系用來(lái)在該量測(cè)周期后該周圍氣體(16)排出遺留在該電離室(10)的空氣中的污染物與雜質(zhì)，其特征在于該第一閥(30A)系一3:2閥被連接至該第一導(dǎo)管(20)，該第二閥(30B)與該流出導(dǎo)管(26)連接至該周圍氣體埠(16B)，其中該第二閥(30B)系連結(jié)至該第二導(dǎo)管(22)而連接至該清洗室(12)以通至該氣體埠(18)，以及該第一閥(30A)的出口，而其出口連接至該電離室(10)，與該泵(48)連結(jié)，以及該第三閥(30C)系被設(shè)置為一個(gè)埠系連接至該流出導(dǎo)管(26)而連結(jié)至該埠(16B)以進(jìn)入空氣中；以及下一埠系連接至該第一導(dǎo)管(20)而連結(jié)該埠(16A)，在該第一周期與第二周期，系執(zhí)行量測(cè)與清除，而在該第三與第四周期，系執(zhí)行清洗與清除流程，端口(18)的周圍空氣會(huì)在該清洗室(12)內(nèi)并清洗并抽出以排出在該電離室(10)內(nèi)于該量測(cè)周期中端口(16A, 16B)的周圍氣體離子化以產(chǎn)生的雜質(zhì)與污染物。
23.一種在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一光離子化偵測(cè)器(PID)的清除與清洗功能，該P(yáng)ID具有一第一導(dǎo)管(20)，用以在一量測(cè)周期內(nèi)將端口(16A)的周圍氣體導(dǎo)入用以在該P(yáng)ID的一電離室(10)內(nèi)量測(cè)，一泵(48)，一第二導(dǎo)管(22)用以流通埠(18)的周圍空氣，以及該P(yáng)ID的一清洗室(12)，其移除在該周圍空氣內(nèi)，以及流入埠(16B)的另一股周圍氣體的污染物與雜質(zhì)，以及一第一閥(30A)，用以讓埠(16A)的周圍氣體或埠(18)的周圍空氣經(jīng)由該清洗室(12)連結(jié)該埠(18)的該第二導(dǎo)管(22)，或連結(jié)至埠(16B)的該流出導(dǎo)管(26)，排出至該電離室(10)，而該第二閥(30B)用以引導(dǎo)來(lái)自該泵(48)的氣體并經(jīng)由該第一導(dǎo)管(20)從埠(16A)或經(jīng)由該流出導(dǎo)管(26)從埠(16B)排出至空氣中，其特征在于該第一閥(30A)系被設(shè)置為該第一導(dǎo)管(20)、該第二導(dǎo)管(22)以及該流出導(dǎo)管(26)進(jìn)入該第一閥(30A)，其出口連結(jié)至該電離室(10)，并導(dǎo)至該泵(48)，以及該第二閥(30B)系被設(shè)置為其一端為該泵(48)，一端出口連接至該第一導(dǎo)管(20)，而該流出導(dǎo)管(26)連接至另一端而通至空氣中；在該第一周期，系執(zhí)行量測(cè)與清除，而在該第二周期，系執(zhí)行量測(cè)與清除，而在該第三周期，系執(zhí)行清洗與清除，在該第四周期，系執(zhí)行清洗與清除。
24.如申請(qǐng)專利范圍第23項(xiàng)所述之在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一PID的清除與清洗功能，其特征在于該第一閥(30A)系一4:3閥。
25.如申請(qǐng)專利范圍第23項(xiàng)所述之在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一PID的清除與清洗功能，其特征在于經(jīng)由該端口(16A)與(16B)量測(cè)周圍氣體，以及清除該電離室(10)與該氣體埠(16B)和(16A)系于該P(yáng)ID的第一與第二周期完成。
26.如申請(qǐng)專利范圍第23項(xiàng)所述之在一量測(cè)系統(tǒng)中用于一PID的清除與清洗功能，其特征在于透過(guò)該清洗室(12)清洗該埠(18)的周圍空氣，以及清除該電離室(10)與氣體埠(16B)和(16A)系于該P(yáng)ID的第三與第四周期完成。