本發(fā)明涉及一種光學(xué)水準(zhǔn)儀，屬于測(cè)繪技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
.光學(xué)水準(zhǔn)儀是用來(lái)測(cè)量標(biāo)高和高程，光學(xué)水準(zhǔn)儀主要用于建筑工程測(cè)量控制網(wǎng)標(biāo)高基準(zhǔn)點(diǎn)的測(cè)設(shè)及廠(chǎng)房、大型設(shè)備基礎(chǔ)沉降觀(guān)察的測(cè)量。在設(shè)備的安裝工程項(xiàng)目實(shí)施中用于連續(xù)生產(chǎn)線(xiàn)設(shè)備測(cè)量控制網(wǎng)標(biāo)高基準(zhǔn)點(diǎn)的測(cè)設(shè)及安裝過(guò)程中對(duì)設(shè)備安裝標(biāo)高的控制測(cè)量。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種操作簡(jiǎn)單，可用于距離測(cè)量和角度測(cè)量的光學(xué)水準(zhǔn)儀。
為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供一種光學(xué)水準(zhǔn)儀，包括底座和由物鏡、目鏡、粗瞄裝置構(gòu)成的水準(zhǔn)儀本體；所述底座和水準(zhǔn)儀本體之間設(shè)有水平圓盤(pán)，水平圓盤(pán)上設(shè)角度刻度，在水平圓盤(pán)的側(cè)面設(shè)圓盤(pán)旋鈕；所述底座和水平圓盤(pán)之間設(shè)腳螺旋；所述水平圓盤(pán)上表面設(shè)圓形水準(zhǔn)器，在圓形水準(zhǔn)器的正上方，與圓形水準(zhǔn)器垂直的位置設(shè)圓形水準(zhǔn)器反射鏡；所述水準(zhǔn)儀本體的一端為物鏡，另一端為目鏡，物鏡和目鏡之間為粗瞄裝置，在粗瞄裝置的側(cè)面設(shè)調(diào)焦旋鈕。
前述的水平圓盤(pán)上的最小刻度為1°。
前述的圓盤(pán)旋鈕可兩個(gè)方向旋轉(zhuǎn)。
前述的腳螺旋有3個(gè)。
前述的底座的底部中心位置設(shè)有螺孔。
前述的目鏡和物鏡上均設(shè)有一蓋帽。
本發(fā)明所達(dá)到的有益效果：
本發(fā)明的光學(xué)水準(zhǔn)儀操作簡(jiǎn)單，可用于距離測(cè)量和角度測(cè)量，且測(cè)量精度高。
附圖說(shuō)明
圖1是本發(fā)明的光學(xué)水準(zhǔn)儀的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步描述。以下實(shí)施例僅用于更加清楚地說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案，而不能以此來(lái)限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。
如圖1所示，本發(fā)明的光學(xué)水準(zhǔn)儀包括底座6和由物鏡1、目鏡5、粗瞄裝置3構(gòu)成的水準(zhǔn)儀本體，具體的，底座6和水準(zhǔn)儀本體之間設(shè)有水平圓盤(pán)7，水平圓盤(pán)7上設(shè)角度刻度，最小刻度為1°，用于測(cè)量?jī)牲c(diǎn)之間的角度。在水平圓盤(pán)7的側(cè)面設(shè)圓盤(pán)旋鈕10，可兩個(gè)方向旋轉(zhuǎn)，精確定位角度。
底座6和水平圓盤(pán)7之間設(shè)腳螺旋8，用于調(diào)節(jié)水準(zhǔn)儀本體的水平。具體的，腳螺旋有3個(gè)。
水平圓盤(pán)7上表面設(shè)圓形水準(zhǔn)器9，用于檢測(cè)水準(zhǔn)儀本體是否水平，具體的，在圓形水準(zhǔn)器9的正上方，與圓形水準(zhǔn)器9垂直的位置設(shè)圓形水準(zhǔn)器反射鏡2，通過(guò)鏡子反射，方便觀(guān)測(cè)圓形水準(zhǔn)器9的圓水泡是否居中。圓形水準(zhǔn)器反射鏡2固定在水準(zhǔn)儀本體的側(cè)壁上。
水準(zhǔn)儀本體的一端為物鏡1，另一端為目鏡5，物鏡1和目鏡5之間為粗瞄裝置3，在粗瞄裝置3的側(cè)面設(shè)調(diào)焦旋鈕4，旋轉(zhuǎn)調(diào)焦旋鈕4用于實(shí)現(xiàn)目標(biāo)的精確定位。
在底座6的底部中心位置還設(shè)有螺孔，通過(guò)和螺栓匹配將水準(zhǔn)儀緊固在三腳架上。
優(yōu)選的，目鏡和物鏡上均設(shè)有一蓋帽，可以實(shí)現(xiàn)防塵的效果。
以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和變形，這些改進(jìn)和變形也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。