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      一種測(cè)量空間距離的方法及裝置與流程

      文檔序號(hào):11132260閱讀:879來(lái)源:國(guó)知局
      一種測(cè)量空間距離的方法及裝置與制造工藝

      本發(fā)明屬于測(cè)距領(lǐng)域,尤其涉及一種測(cè)量空間距離的方法及裝置。



      背景技術(shù):

      隨著科技的不斷進(jìn)步,各種測(cè)距方法層出不窮,目前主要的測(cè)距方法有激光測(cè)距和超聲波測(cè)距,為測(cè)量空間物體之間的距離提供了方便。

      然而,現(xiàn)有的激光測(cè)距和超聲波測(cè)距均是通過(guò)檢測(cè)發(fā)射信號(hào)和反射信號(hào)之間的時(shí)間差來(lái)計(jì)算距離,距離的測(cè)量精度與時(shí)間差的檢測(cè)精度有關(guān),誤差較大,尤其不適用于測(cè)量較近的空間距離。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      本發(fā)明的目的在于提供一種測(cè)量空間距離的方法及裝置,旨在解決現(xiàn)有的激光測(cè)距和超聲波測(cè)距均是通過(guò)檢測(cè)發(fā)射信號(hào)和反射信號(hào)之間的時(shí)間差來(lái)計(jì)算距離,距離的測(cè)量精度與時(shí)間差的檢測(cè)精度有關(guān),誤差較大,尤其不適用于測(cè)量較近的空間距離的問(wèn)題。

      本發(fā)明是這樣實(shí)現(xiàn)的,一種測(cè)量空間距離的方法,所述方法基于可發(fā)射可見(jiàn)光束的第一光發(fā)射模塊和第二光發(fā)射模塊實(shí)現(xiàn),所述方法包括:

      控制所述第一光發(fā)射模塊向空間第一點(diǎn)發(fā)射第一光束,所述第一光束垂直于所述第一光發(fā)射模塊和所述第二光發(fā)射模塊之間的連線;

      控制所述第二光發(fā)射模塊向所述第一點(diǎn)發(fā)射第二光束,使所述第一光束和所述第二光束相交于所述第一點(diǎn);

      獲取所述第二光束與所述連線之間的第一夾角,根據(jù)所述連線的長(zhǎng)度和所述第一夾角,計(jì)算所述第一點(diǎn)與所述第一光發(fā)射模塊之間的距離。

      本發(fā)明還提供一種測(cè)量空間距離的裝置,所述裝置包括可發(fā)射可見(jiàn)光束的第一光發(fā)射模塊和第二光發(fā)射模塊,所述裝置還包括:

      第一控制模塊,用于控制所述第一光發(fā)射模塊向空間第一點(diǎn)發(fā)射第一光束,所述第一光束垂直于所述第一光發(fā)射模塊和所述第二光發(fā)射模塊之間的連線;

      第一控制模塊,用于控制所述第二光發(fā)射模塊向所述第一點(diǎn)發(fā)射第二光束,使所述第一光束和所述第二光束相交于所述第一點(diǎn);

      計(jì)算模塊,用于獲取所述第二光束與所述連線之間的第一夾角,根據(jù)所述連線的長(zhǎng)度和所述第一夾角,計(jì)算所述第一點(diǎn)與所述第一光發(fā)射模塊之間的距離。

      本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比,其有益效果在于:

      本發(fā)明通過(guò)向空間第一點(diǎn)發(fā)射兩條光束,并根據(jù)這兩條光束的發(fā)射角度和兩條光束之間的直線距離,計(jì)算空間一點(diǎn)與光束發(fā)射源之間的距離,測(cè)量精度高,尤其適用于測(cè)量距離較近的空間物體,操作簡(jiǎn)單、易于實(shí)現(xiàn),適于廣泛推廣;

      本發(fā)明還通過(guò)分別向空間兩點(diǎn)發(fā)射兩條光束,并改變所發(fā)射的兩條光束的角度,使兩條光束相交于空間兩點(diǎn)連線所在的平面上的一點(diǎn),并根據(jù)這兩條光束的發(fā)射角度和兩條光束之間的直線距離,計(jì)算空間兩點(diǎn)之間的距離,測(cè)量精度高,可有效解決現(xiàn)有的激光測(cè)距和超聲波測(cè)距無(wú)法測(cè)量空間兩點(diǎn)之間距離的問(wèn)題。

      附圖說(shuō)明

      為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見(jiàn)地,下面描述中的附圖是本發(fā)明的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

      圖1是本發(fā)明實(shí)施例提供的測(cè)量空間距離的方法的流程框圖;

      圖2是本發(fā)明實(shí)施例提供的測(cè)量空間一點(diǎn)與光束發(fā)射源之間距離的原理圖;

      圖3是本發(fā)明另一實(shí)施例提供的測(cè)量空間距離的方法的流程框圖;

      圖4是本發(fā)明實(shí)施例提供的測(cè)量空間兩點(diǎn)之間距離的原理圖;

      圖5是本發(fā)明實(shí)施例提供的測(cè)量空間距離的裝置的基本結(jié)構(gòu)框圖。

      具體實(shí)施方式

      為了使本技術(shù)領(lǐng)域的人員更好地理解本發(fā)明方案,下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖,對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚地描述,顯然,所描述的實(shí)施例是本發(fā)明一部分的實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒景l(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都應(yīng)當(dāng)屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

      本發(fā)明的說(shuō)明書和權(quán)利要求書及上述附圖中的術(shù)語(yǔ)“包括”以及它們?nèi)魏巫冃?,意圖在于覆蓋不排他的包含。例如包含一系列步驟或單元的過(guò)程、方法或系統(tǒng)、產(chǎn)品或設(shè)備沒(méi)有限定于已列出的步驟或單元,而是可選地還包括沒(méi)有列出的步驟或單元,或可選地還包括對(duì)于這些過(guò)程、方法、產(chǎn)品或設(shè)備固有的其它步驟或單元。此外,術(shù)語(yǔ)“第一”、“第二”和“第三”等是用于區(qū)別不同對(duì)象,而非用于描述特定順序。

      如圖1所示,本實(shí)施例提供的測(cè)量空間距離的方法,其基于可發(fā)射可見(jiàn)光束的第一光發(fā)射模塊和第二光發(fā)射模塊實(shí)現(xiàn),所述方法包括:

      步驟S101:控制所述第一光發(fā)射模塊向空間第一點(diǎn)發(fā)射第一光束,所述第一光束垂直于所述第一光發(fā)射模塊和所述第二光發(fā)射模塊之間的連線。

      在具體應(yīng)用中,第一光發(fā)射模塊和第二光發(fā)射模塊均可以選用激光器,也可以選用能夠發(fā)射匯聚光束的任意發(fā)光設(shè)備。

      步驟S102:控制所述第二光發(fā)射模塊向所述第一點(diǎn)發(fā)射第二光束,使所述第一光束和所述第二光束相交于所述第一點(diǎn);

      步驟S103:獲取所述第二光束與所述連線之間的第一夾角,根據(jù)所述連線的長(zhǎng)度和所述第一夾角,計(jì)算所述第一點(diǎn)與所述第一光發(fā)射模塊之間的距離。

      如圖2所示,圖中(1)為第一光發(fā)射模塊,(2)為第二光發(fā)射模塊,(3)為空間第一點(diǎn),計(jì)算所述第一點(diǎn)與所述第一光發(fā)射模塊之間的距離的原理為:

      根據(jù)公式C=a*tanα,計(jì)算所述第一點(diǎn)與所述第一光發(fā)射模塊之間的距離C,其中,a為所述連線的長(zhǎng)度(即所述第一光發(fā)射模塊與所述第二光發(fā)射模塊之間的距離),α為所述第二光束與所述連線的夾角。

      本實(shí)施例通過(guò)向空間第一點(diǎn)發(fā)射兩條光束,并根據(jù)這兩條光束的發(fā)射角度和兩條光束之間的直線距離,計(jì)算空間一點(diǎn)與光束發(fā)射源之間的距離,測(cè)量精度高,尤其適用于測(cè)量距離較近的空間物體,操作簡(jiǎn)單、易于實(shí)現(xiàn),適于廣泛推廣。

      如圖3所示,本實(shí)施所提供的測(cè)量空間距離的方法,在步驟S101~S103的基礎(chǔ)上還包括:

      步驟S201:調(diào)整所述第二光束的角度,使所述第二光束垂直于所述連線照射在空間第二點(diǎn);

      步驟S202:調(diào)整所述第一光束的角度,使所述第一光束與所述連線之間的夾角等于所述第一夾角,所述第一光束照射在空間第三點(diǎn);

      步驟S203:若所述第三點(diǎn)與所述第二點(diǎn)重合,則調(diào)整所述第二光束的角度,使所述第二光束照射在空間第四點(diǎn);若所述第三點(diǎn)與所述第二點(diǎn)不重合,則保持所述第一點(diǎn)與所述第一光發(fā)射模塊之間的距離不變,調(diào)整所述第二光發(fā)射模塊與所述第二點(diǎn)之間的距離,直到所述第三點(diǎn)與所述第二點(diǎn)重合。

      在具體應(yīng)用中,通過(guò)判斷所述第三點(diǎn)與所述第二點(diǎn)是否重合可以判斷所述連線與所述第一點(diǎn)和所述第二點(diǎn)所在平面是否平行,若所述第三點(diǎn)與所述第二點(diǎn)重合,則所述連線與所述第一點(diǎn)和所述第二點(diǎn)所在平面平行,否則,所述連線與所述第一點(diǎn)和所述第二點(diǎn)所在平面不平行。

      在一實(shí)施例中,所述調(diào)整所述第二光發(fā)射模塊與所述第二點(diǎn)之間的距離包括:

      若所述第三點(diǎn)在所述第一點(diǎn)與所述第二點(diǎn)之間的連線上,則增加所述第二光發(fā)射模塊與所述第二點(diǎn)之間的距離;

      若所述第三點(diǎn)在所述第一點(diǎn)與所述第二點(diǎn)之間連線的延長(zhǎng)線上,則縮短所述第二光發(fā)射模塊與所述第二點(diǎn)之間的距離。

      在具體應(yīng)用中,若所述第三點(diǎn)在所述第一點(diǎn)與所述第二點(diǎn)之間的連線上,則說(shuō)明所述第一點(diǎn)與所述第一光發(fā)射模塊之間的距離小于所述第二點(diǎn)與所述第二光模塊之間的距離,因此需要增加所述第二光發(fā)射模塊與所述第二點(diǎn)之間的距離,以使所述連線與所述第一點(diǎn)和所述第二點(diǎn)所在平面平行。

      步驟S204:獲取所述第二光束照射在所述第四點(diǎn)時(shí),所述第二光束與所述連線之間的第二夾角,根據(jù)所述連線的長(zhǎng)度、所述第一夾角和所述第二夾角計(jì)算所述第一點(diǎn)與所述第四點(diǎn)之間的距離。

      如圖4所示,圖中(1)為第一光發(fā)射模塊,(2)為第二光發(fā)射模塊,(3)為空間第一點(diǎn),(4)為空間第二點(diǎn),(5)為空間第三點(diǎn)(圖中空間第二點(diǎn)和第三點(diǎn)重合),(6)為空間第四點(diǎn),計(jì)算所述第一點(diǎn)與所述第一光發(fā)射模塊之間的距離的原理為:

      根據(jù)公式計(jì)算所述第一點(diǎn)與所述第二點(diǎn)之間的距離L=a-a*tanα*cotβ,其中,β為所述第二光束與所述連線的夾角,e為所述第一點(diǎn)與所述第二點(diǎn)之間的距離,f為所述第二點(diǎn)與所述第四點(diǎn)之間的距離。

      本實(shí)施例通過(guò)分別向空間兩點(diǎn)發(fā)射兩條光束,并改變所發(fā)射的兩條光束的角度,使兩條光束相交于空間兩點(diǎn)連線所在的平面上的第一點(diǎn),并根據(jù)這兩條光束的發(fā)射角度和兩條光束之間的直線距離,計(jì)算空間兩點(diǎn)之間的距離,測(cè)量精度高,可有效解決現(xiàn)有的激光測(cè)距和超聲波測(cè)距無(wú)法測(cè)量空間兩點(diǎn)之間距離的問(wèn)題。

      如圖5所示,本實(shí)施例提供的測(cè)量空間距離的裝置100,其包括可發(fā)射可見(jiàn)光束的第一光發(fā)射模塊10和第二光發(fā)射模塊20,還包括:

      第一控制模塊30,用于控制所述第一光發(fā)射模塊向空間第一點(diǎn)發(fā)射第一光束,所述第一光束垂直于所述第一光發(fā)射模塊和所述第二光發(fā)射模塊之間的連線;

      第一控制模塊40,用于控制所述第二光發(fā)射模塊向所述第一點(diǎn)發(fā)射第二光束,使所述第一光束和所述第二光束相交于所述第一點(diǎn);

      計(jì)算模塊50,用于獲取所述第二光束與所述連線之間的第一夾角,根據(jù)所述連線的長(zhǎng)度和所述第一夾角,計(jì)算所述第一點(diǎn)與所述第一光發(fā)射模塊之間的距離。

      在一實(shí)施例中,第二控制模塊40還用于調(diào)整所述第二光束的角度,使所述第二光束垂直于所述連線照射在空間第二點(diǎn);

      第一控制模塊30還用于調(diào)整所述第一光束的角度,使所述第一光束與所述連線之間的夾角等于所述第一夾角,所述第一光束照射在空間第三點(diǎn);

      所述裝置100還包括調(diào)整模塊,用于若所述第三點(diǎn)與所述第二點(diǎn)重合,則調(diào)整所述第二光束的角度,使所述第二光束照射在空間第四點(diǎn);

      計(jì)算模塊50還用于獲取所述第二光束照射在所述第四點(diǎn)時(shí),所述第二光束與所述連線之間的第二夾角,根據(jù)所述連線的長(zhǎng)度、所述第一夾角和所述第二夾角計(jì)算所述第一點(diǎn)與所述第四點(diǎn)之間的距離。

      在一實(shí)施例中,所述調(diào)整模塊還用于:

      若所述第三點(diǎn)與所述第二點(diǎn)不重合,則保持所述第一點(diǎn)與所述第一光發(fā)射模塊之間的距離不變,調(diào)整所述第二光發(fā)射模塊與所述第二點(diǎn)之間的距離,直到所述第三點(diǎn)與所述第二點(diǎn)重合。

      在一實(shí)施例中,所述調(diào)整模塊包括:

      第一調(diào)整單元,用于若所述第三點(diǎn)在所述第一點(diǎn)與所述第二點(diǎn)之間的連線上,則增加所述第二光發(fā)射模塊與所述第二點(diǎn)之間的距離;

      第二調(diào)整單元,用于若所述第三點(diǎn)在所述第一點(diǎn)與所述第二點(diǎn)之間連線的延長(zhǎng)線上,則縮短所述第二光發(fā)射模塊與所述第二點(diǎn)之間的距離。

      在具體應(yīng)用中,第一光發(fā)射模塊10和第二光發(fā)射模塊20可以為激光器。

      在具體應(yīng)用中,測(cè)量空間距離的裝置100可以為手機(jī)、平板電腦、智能手環(huán)等移動(dòng)終端,當(dāng)測(cè)量空間距離的裝置100可以為手機(jī)時(shí),第一控制模塊30和第二控制模塊40可以為手機(jī)的基帶控制模塊。

      本發(fā)明所有實(shí)施例中的模塊或單元,可以通過(guò)通用集成電路,例如CPU(Central Processing Unit,中央處理器),或通過(guò)ASIC(Application Specific Integrated Circuit,專用集成電路)來(lái)實(shí)現(xiàn)。

      本發(fā)明實(shí)施例方法中的步驟可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行順序調(diào)整、合并和刪減。

      本發(fā)明實(shí)施例裝置中的模塊或單元可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行合并、劃分和刪減。

      本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例方法中的全部或部分流程,是可以通過(guò)計(jì)算機(jī)程序來(lái)指令相關(guān)的硬件來(lái)完成,所述的程序可存儲(chǔ)于一計(jì)算機(jī)可讀取存儲(chǔ)介質(zhì)中,該程序在執(zhí)行時(shí),可包括如上述各方法的實(shí)施例的流程。其中,所述的存儲(chǔ)介質(zhì)可為磁碟、光盤、只讀存儲(chǔ)記憶體(Read-Only Memory,ROM)或隨機(jī)存儲(chǔ)記憶體(Random Access Memory,RAM)等。

      以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已,并不用以限制本發(fā)明,凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。

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