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      一種同位素譜線掃描探頭的制作方法

      文檔序號(hào):12747085閱讀:289來源:國知局
      一種同位素譜線掃描探頭的制作方法與工藝

      本發(fā)明屬于同位素電磁分離器技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種同位素譜線掃描探頭。



      背景技術(shù):

      電磁分離方法在同位素分離領(lǐng)域具有不可或缺的地位,電磁分離法是利用能量相同、質(zhì)量不同的離子在橫向磁場中旋轉(zhuǎn)半徑不同實(shí)現(xiàn)同位素分離的。同位素電磁分離器就是采用電磁分離方法分離得到同位素的設(shè)備。待分離的離子束從同位素電磁分離器的離子源中射出,經(jīng)同位素電磁分離器中的磁場分離,再被接收裝置接收,完成同位素的分離工作。

      同位素電磁分離器分離后的同位素的離子束要全部收集起來,就需要對(duì)離子束的聚焦平面上的束流密度的橫向分布進(jìn)行測量,以便接收器(接收分離后的同位素的離子束的裝置)能夠?qū)?zhǔn)最佳的聚焦面。同位素電磁分離器中的離子源通過三電極引出系統(tǒng)引出離子束后,經(jīng)過磁場偏轉(zhuǎn),不同質(zhì)量的同位素會(huì)匯聚在聚焦面的不同空間位置而實(shí)現(xiàn)分離,該現(xiàn)象稱為色散。色散距離越大,越有利于同位素的分離。譜線掃描裝置用于測量離子束在經(jīng)過分離磁鐵后的分離與聚焦?fàn)顩r,并用于尋找最佳的聚焦面。從而實(shí)現(xiàn)接收器在進(jìn)行接收之前,離子束的位置與接收器上相應(yīng)的接收口袋位置對(duì)準(zhǔn),保證同位素豐度。

      目前,對(duì)離子束的束流進(jìn)行測量的探頭(及方法)有許多種,有束流變壓器(BCT)、直流流強(qiáng)變壓器(DCCT)、壁電流探頭(WCM)、法拉第筒等。除了法拉第筒以外,其他的測量方法是通過離子束的束流產(chǎn)生的磁通量來獲得束流的大小,可以避免探頭與束流的直接接觸,在加速器領(lǐng)域都有較多的應(yīng)用。然而,譜線掃描儀需要測量束流密度的空間分布,在這些探測裝置中,只有法拉第筒能夠掃描束流獲得束流密度的分布。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      本發(fā)明是同位素譜線掃描裝置上的探頭,用于實(shí)現(xiàn)同位素譜線掃描裝置對(duì)聚焦平面上離子束內(nèi)束流密度的橫向分布的測量,采用法拉第筒測量離子束的束流密度分布。

      為達(dá)到以上目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是一種同位素譜線掃描探頭,設(shè)置在同位素譜線掃描裝置上,所述同位素譜線掃描裝置設(shè)置在同位素電磁分離器的接收器上,包括設(shè)置有探頭的探頭板,連接所述探頭和所述同位素譜線掃描裝置的連接線路;所述探頭為法拉第筒,用于探測所述同位素電磁分離器分離后的離子束的電流信號(hào);其中,所述探頭為若干個(gè),以相同間距直線排列在所述探頭板上。

      進(jìn)一步,所述探頭為7個(gè)。

      進(jìn)一步,所述間距為20mm。

      進(jìn)一步,所述法拉第筒豎直設(shè)置在所述探頭板上,開口方向一致。

      進(jìn)一步,所述法拉第筒的直徑為1mm。

      更進(jìn)一步,所述法拉第筒為不銹鋼材質(zhì)。

      進(jìn)一步,所述探頭板采用高純石墨制作。

      進(jìn)一步,所述探頭和所述探頭板之間設(shè)有絕緣層。

      更進(jìn)一步,所述絕緣層采用氮化硼制作。

      本發(fā)明的有益效果在于:

      1.可同時(shí)在線測量多組數(shù)據(jù),解決了由于離子束束流不穩(wěn)定性導(dǎo)致的測量結(jié)果的不確定性。

      2.探頭的法拉第筒尺寸為1mm,提高了測量準(zhǔn)確性。

      附圖說明

      圖1是本發(fā)明具體實(shí)施方式中所述銣元素同位素譜線掃描方法示意圖;

      圖2是本發(fā)明具體實(shí)施方式中所述銣元素同位素的離子束所產(chǎn)生的電流信號(hào)示意圖(即束流密度分布示意圖);

      圖3是本發(fā)明具體實(shí)施方式中設(shè)置有所述同位素譜線掃描裝置的接收器的示意圖;

      圖4是本發(fā)明具體實(shí)施方式中所述同位素譜線掃描裝置在接收器上的安裝示意圖;

      圖5是本發(fā)明具體實(shí)施方式中所述同位素譜線掃描探頭的后視圖;

      圖6是本發(fā)明具體實(shí)施方式中所述同位素譜線掃描探頭的俯視圖;

      圖中:1-掃描探頭驅(qū)動(dòng)步進(jìn)電機(jī),2-皮帶輪傳動(dòng)結(jié)構(gòu),3-探頭掃描運(yùn)動(dòng)絲杠,4-滑動(dòng)軸,5-前后運(yùn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)電機(jī),6-前后運(yùn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)絲杠,7-連接法蘭,8-框架,9-傳動(dòng)桿,10-探頭板,11-探頭,12-固定螺釘,13-真空室壁,14-絕緣層,15-螺母。

      具體實(shí)施方式

      下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步描述。

      首先介紹同位素譜線掃描裝置的工作原理(如圖1所示),以銣(Rb)元素為例。由于銣元素有兩個(gè)同位素(85Rb、87Rb),在分離過程中會(huì)產(chǎn)生兩條離子束。首先選取z=0的中間平面,在接收器附近有85Rb,87Rb兩條離子束,如圖1所示,P為測量的探頭,初始位置A點(diǎn)的坐標(biāo)為(XA,YA),它將沿與x軸成45°角的方向移動(dòng)到B(XB,YB),并隨時(shí)輸出探頭的空間位置信號(hào)(包括位置坐標(biāo)),在移動(dòng)過程中探頭依次掃過85Rb,87Rb離子束,并有電流的信號(hào)輸出(電流信號(hào)示意見圖2所示)。探頭的空間位置信號(hào)與接收的電流信號(hào)可以繪成電流密度分布圖,并記錄儲(chǔ)存。完成了一次掃面后,將探頭的位置調(diào)到A1,A2,.....An,完成一系列的掃面測量,在完成了Z=0中間平面的測量后,再按同樣的方法完成Z=-100mm~+100mm不同平面的上述測量。這樣就完成了85Rb和87Rb離子束的空間分布的測量,根據(jù)束的空間分布可以獲得像寬、高、形狀、兩像之間距離等數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)處理采用通常的方法,取峰高的1/2處為束的寬度(見圖1,圖中J1、J2分別為85Rb和87Rb離子束的束流密度分布峰高),b1為85Rb像寬,b2為87Rb像寬,d為銣同位素的色散,當(dāng)b1,b2的值為最小時(shí)此處就是聚焦點(diǎn)。

      本發(fā)明提供的一種同位素譜線掃描探頭(如圖5、圖6所示),設(shè)置在同位素譜線掃描裝置上,同位素譜線掃描裝置設(shè)置在同位素電磁分離器的接收器上(接收器處于同位素電磁分離器的真空環(huán)境內(nèi),如圖3所示,真空室壁13之內(nèi)的框架8及其上面安裝的其他部件處于真空環(huán)境中)。包括設(shè)置有探頭11的探頭板10,連接探頭11和同位素譜線掃描裝置的連接線路,探頭板10安裝在接收器的框架8上(如圖4所示)。

      同位素譜線掃描探頭為分布式,探頭11為若干個(gè),以相同間距直線排列在探頭板10上;探頭11為法拉第筒,用于探測所述同位素電磁分離器分離后的離子束的電流信號(hào)。

      如圖5、圖6所示,探頭板10上設(shè)置的探頭11為7個(gè),相互之間的間距為20mm。探頭11的法拉第筒豎直設(shè)置在探頭板10上,開口方向一致。法拉第筒的直徑為1mm。法拉第筒采用不銹鋼材質(zhì)制作。本發(fā)明所提供的同位素譜線掃描探頭一次掃描即可提供7組數(shù)據(jù),解決了由于離子束束流不穩(wěn)定性導(dǎo)致的測量結(jié)果的不確定性。同時(shí),探頭11的法拉第筒尺寸為1mm,也進(jìn)一步提高了測量的準(zhǔn)確性。法拉第筒常常加負(fù)高壓來防止二次電子的逃逸,以減小二次電子對(duì)探頭信號(hào)的污染。然而,在本實(shí)施例所使用的同位素電磁分離器中,由于存在強(qiáng)磁場,二次電子往往被束縛住,因此不需要加負(fù)高壓。

      探頭板10采用高純石墨制作。探頭11和探頭板10之間設(shè)有絕緣層14,探頭11是設(shè)置在絕緣層14內(nèi),而不與探頭板10接觸,絕緣層14采用氮化硼制作??紤]到離子束的束流能量較高,為了降低軔致輻射對(duì)測量結(jié)果的影響,一般選擇原子序數(shù)較低的材料如鋁、銅等。本設(shè)計(jì)中采用耐轟擊的高純石墨作為探頭的主體支架及外殼(探頭板10)。

      在本實(shí)施例中,法拉第筒通過螺母15設(shè)置在探頭板10上。探頭板10通過固定螺釘12和螺母15設(shè)置在接收器上。

      本發(fā)明所述的裝置并不限于具體實(shí)施方式中所述的實(shí)施例,本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案得出其他的實(shí)施方式,同樣屬于本發(fā)明的技術(shù)創(chuàng)新范圍。

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