本發(fā)明涉及光譜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種成像光譜儀最佳像面檢校方法及裝置。

背景技術(shù)：

成像光譜儀是近年來隨著對(duì)地觀測(cè)的需求和光電技術(shù)的進(jìn)步發(fā)展起來的新一代遙感儀器，將傳統(tǒng)的二維成像遙感技術(shù)與光譜儀技術(shù)有效的結(jié)合在一起，在獲取觀測(cè)對(duì)象二維空間信息的同時(shí)獲取目標(biāo)的光譜信息。所獲得的光譜圖像數(shù)據(jù)中包括目標(biāo)的光譜信息，可以揭示地物的光譜特性以及物質(zhì)成分，在大氣、海洋和陸地等探測(cè)中有廣泛的應(yīng)用。

機(jī)載寬視場(chǎng)成像光譜儀的一個(gè)重要指標(biāo)就是大視場(chǎng)，視場(chǎng)是遙感儀器的重要指標(biāo)，它決定了遙感儀器全球覆蓋和局部重復(fù)觀測(cè)周期?？傄晥?chǎng)越大，周期越小，工作效率越高。

機(jī)載大視場(chǎng)成像光譜儀由飛行平臺(tái)的運(yùn)動(dòng)完成大范圍的推掃成像，地物反射太陽光經(jīng)成像光譜儀后，不同波長(zhǎng)的光會(huì)聚于焦平面探測(cè)器的不同位置，由于前置鏡的色差及場(chǎng)曲存在，不同波長(zhǎng)的光經(jīng)系統(tǒng)后其焦面位置并不完全一致，這在很大程度上影響著部分光譜段部分視場(chǎng)的分辨能力。一般的像差特征曲線是在高斯像面上取值繪制的，但高斯像面不一定是實(shí)際成像系統(tǒng)的最佳像面，因此，可以通過離焦的方法選取最佳像面。在成像光譜儀的研制過程中，特別是在系統(tǒng)裝校階段，面陣探測(cè)器的放置位置在最大程度上同時(shí)符合各波段焦面位置的要求成為當(dāng)前需要解決的關(guān)鍵問題。傳統(tǒng)方法一般采用平行光管模擬無窮遠(yuǎn)地物，使用讀數(shù)顯微鏡測(cè)出系統(tǒng)的焦面位置，以這個(gè)焦面位置為基礎(chǔ)微調(diào)面陣探測(cè)器至一個(gè)相對(duì)理想的位置，這種方法的缺點(diǎn)在于使用目視光學(xué)系統(tǒng)測(cè)量及判斷，受個(gè)人主觀因素影響較大，同時(shí)該調(diào)校方法也不能最大程度上解決部分光譜波段部分視場(chǎng)分辨率下降的問題。

機(jī)載大視場(chǎng)成像光譜儀由于飛行平臺(tái)的振動(dòng)，經(jīng)過多次任務(wù)后，成像光譜儀的譜線位置容易發(fā)生偏移，影響成像光譜儀地物的光譜準(zhǔn)確性，因此，在野外對(duì)成像光譜儀的光譜位置進(jìn)行標(biāo)校與修正也十分必要。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是提供一種成像光譜儀最佳像面檢校方法及裝置，無需時(shí)時(shí)調(diào)整成像光譜儀的探測(cè)器，一次測(cè)量后通過圖像處理，擬合出最佳像面的位置，計(jì)算出探測(cè)器修磨墊的修整量，實(shí)現(xiàn)成像光譜儀與探測(cè)器的快速精準(zhǔn)對(duì)接，有利于寬視場(chǎng)高光譜成像儀探測(cè)器的快速準(zhǔn)確的調(diào)校。

本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：

一種成像光譜儀最佳像面檢校裝置，包括：靶面位置可調(diào)的平行光管、三維旋轉(zhuǎn)臺(tái)、成像光譜儀以及計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)；其中，靶面位置可調(diào)的平行光管放置在三維旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，且靶面位置可調(diào)的平行光管與成像光譜儀共光軸或呈一定角度；

所述靶面位置可調(diào)的平行光管包括：多光譜光源、毛玻璃、分劃板、電動(dòng)平移臺(tái)與準(zhǔn)直鏡；所述多光譜光源、毛玻璃、分劃板與準(zhǔn)直鏡依次設(shè)置，且多光譜光源、毛玻璃與分劃板放置在電動(dòng)平移臺(tái)上；

所述成像光譜儀包括：依次設(shè)置的前置鏡、光譜儀、探測(cè)器修磨墊及探測(cè)器；

所述電動(dòng)平移臺(tái)、三維旋轉(zhuǎn)臺(tái)及探測(cè)器均與計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)相連。

所述分劃板上根據(jù)成像光譜儀的技術(shù)指標(biāo)，設(shè)有特定的圖樣，從而實(shí)現(xiàn)成像光譜儀綜合像差、譜線彎曲以及色畸變的綜合評(píng)測(cè)。

所述多光譜光源為利用光纖傳像束耦合的多光譜光源，用于成像光譜儀光譜位置的快速標(biāo)定。

一種成像光譜儀最佳像面檢校方法，該方法利用權(quán)利要求前述的成像光譜儀最佳像面檢校裝置實(shí)現(xiàn)，其步驟如下：

步驟a、調(diào)整分劃板位于準(zhǔn)直鏡的焦面處，此時(shí)分劃板的位置坐標(biāo)為Z₀；

步驟b、調(diào)整靶面可調(diào)平行光管與成像光譜儀共光軸；

步驟c、利用計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)設(shè)置平移臺(tái)掃描初始、終止位置及步長(zhǎng)信息；

步驟d、打開多光譜光源，光源經(jīng)毛玻璃勻光后照射在分劃板上，經(jīng)準(zhǔn)直鏡模擬輸出不同物距的景物，經(jīng)成像光譜儀前置鏡與光譜儀分光后成像在探測(cè)器上；計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)控制平移臺(tái)按照設(shè)定的相關(guān)信息進(jìn)行掃描，還通過探測(cè)器采集與存儲(chǔ)分劃板的圖像信息，并記錄分劃板相應(yīng)的位置信息Z₁,Z₂,......,Z_n；

步驟e、計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)根據(jù)獲得的圖像信息計(jì)算Z₁,Z₂,......,Z_n不同波長(zhǎng)對(duì)應(yīng)的調(diào)制傳遞函數(shù)MTF，計(jì)算出同一波長(zhǎng)MTF最高時(shí)對(duì)應(yīng)的分劃板的位置坐標(biāo)，記為Z_band，由以下公式計(jì)算同一視場(chǎng)同一波長(zhǎng)修磨墊的修整量，從而得到同一視場(chǎng)不同波長(zhǎng)最佳像面位置以及探測(cè)器修磨墊的修整量：

上式中，f_{成像光譜儀}為成像光譜儀的焦距，f_平行光管為靶面可調(diào)平行光管的焦距；

步驟f、利用計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)控制三維旋轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)，使得靶面可調(diào)平行光管與成像光譜儀光軸成一定的夾角，重復(fù)上述步驟c～步驟e，得到不同視場(chǎng)的最佳像面位置；

步驟g、根據(jù)不同視場(chǎng)的最佳像面位置，通過數(shù)據(jù)擬合得到成像光譜儀的最佳像面，計(jì)算探測(cè)器修磨墊的修整量以及傾斜角。

該方法還包括：預(yù)先確定分劃板上的圖案；其過程如下：

確定光譜儀的焦距f_{成像光譜儀}、探測(cè)器像元大小p以及靶面可調(diào)平行光管的焦距為f_平行光管；

計(jì)算成像光譜儀靜態(tài)傳遞函數(shù)對(duì)應(yīng)靶面可調(diào)平行光管焦距的條紋線寬d₁為：

計(jì)算成像光譜儀動(dòng)態(tài)傳遞函數(shù)對(duì)應(yīng)靶面可調(diào)平行光管焦距的條紋線寬d₂為：

根據(jù)條紋線寬d₁與條紋線寬d₂確定分劃板上的圖樣。

由上述本發(fā)明提供的技術(shù)方案可以看出，1)采用步進(jìn)掃描平行光管分劃板位置，通過三維旋轉(zhuǎn)臺(tái)調(diào)整平行光管與成像光譜儀光軸的夾角，通過離焦測(cè)量以及軟件分析處理來檢測(cè)成像光譜儀的最佳像面位置，無需頻繁移動(dòng)成像光譜儀探測(cè)器的位置，使檢測(cè)工作強(qiáng)度大大降低；2)采用計(jì)算成像光譜儀的不同視場(chǎng)不同波長(zhǎng)MTF最大值的方法擬合成像光譜儀的最佳成像像面，檢測(cè)精度有顯著提高；3)采用特制的分劃板，可以用于成像光譜儀綜合像差、譜線彎曲以及色畸變的綜合評(píng)測(cè)；4)采用光纖傳像束耦合不同波長(zhǎng)的單色光，可以用于成像光譜儀的光譜位置的快速標(biāo)定，可用于成像光譜儀野外光譜標(biāo)定。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他附圖。

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種成像光譜儀最佳像面檢校裝置的示意圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的利用光纖傳像束耦合的多光譜光源示意圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的成像光譜儀最佳像面檢校流程圖；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的分劃板圖樣示意圖；

圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的擬合波長(zhǎng)650nm對(duì)應(yīng)分劃板不同位置的MTF值曲線圖

圖6為本發(fā)明實(shí)施例提供的成像光譜儀成像質(zhì)量評(píng)定測(cè)量方法流程圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種成像光譜儀最佳像面檢校裝置；如圖1所示，其主要包括：靶面位置可調(diào)的平行光管10、三維旋轉(zhuǎn)臺(tái)11、成像光譜儀13以及計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)12；其中，靶面位置可調(diào)的平行光管10放置在三維旋轉(zhuǎn)臺(tái)11上，且靶面位置可調(diào)的平行光管10與成像光譜儀13共光軸或呈一定角度；

所述靶面位置可調(diào)的平行光管10包括：多光譜光源1、毛玻璃2、分劃板3、電動(dòng)平移臺(tái)4與準(zhǔn)直鏡5；所述多光譜光源1、毛玻璃2、分劃板3與準(zhǔn)直鏡5依次設(shè)置，且多光譜光源1、毛玻璃2與分劃板3放置在電動(dòng)平移臺(tái)4上；

所述成像光譜儀13包括：依次設(shè)置的前置鏡8、光譜儀9、探測(cè)器修磨墊7及探測(cè)器6；

所述電動(dòng)平移臺(tái)4、三維旋轉(zhuǎn)臺(tái)11及探測(cè)器6均與計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)12相連。

本發(fā)明實(shí)施例中，所述分劃板3上根據(jù)成像光譜儀13的技術(shù)指標(biāo)，設(shè)有特定的圖樣，從而實(shí)現(xiàn)成像光譜儀綜合像差、譜線彎曲以及色畸變的綜合評(píng)測(cè)。

此外，所述多光譜光源為利用光纖傳像束耦合的多光譜光源，可用于成像光譜儀光譜位置的快速標(biāo)定。如圖2所示，為利用光纖傳像束耦合的多光譜光源示意圖，其中17為不同波長(zhǎng)單色光源的控制器；18為不同波長(zhǎng)的單色光源LD燈；19為光纖傳像束。

本發(fā)明另一實(shí)施例還提供一種成像光譜儀最佳像面檢校方法，該前述的成像光譜儀最佳像面檢校裝置實(shí)現(xiàn)，其步驟如下：

步驟a、調(diào)整分劃板3位于準(zhǔn)直鏡5的焦面處，此時(shí)分劃板3的位置坐標(biāo)為Z₀。

步驟b、調(diào)整靶面可調(diào)平行光管10與成像光譜儀13共光軸。

步驟c、利用計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)12設(shè)置平移臺(tái)4的掃描初始、終止位置及步長(zhǎng)信息。

步驟d、打開多光譜光源1，光源經(jīng)毛玻璃2勻光后照射在分劃板3上，經(jīng)準(zhǔn)直鏡5模擬輸出不同物距的景物，經(jīng)成像光譜儀前置鏡8與光譜儀9分光后成像在探測(cè)器上；計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)12控制平移臺(tái)4按照設(shè)定的相關(guān)信息進(jìn)行掃描，還通過探測(cè)器6采集與存儲(chǔ)分劃板3的圖像信息，并記錄分劃板3相應(yīng)的位置信息Z₁,Z₂,......,Z_n；

步驟e、計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)12根據(jù)獲得的圖像信息計(jì)算Z₁,Z₂,......,Z_n不同波長(zhǎng)對(duì)應(yīng)的MTF(調(diào)制傳遞函數(shù))，計(jì)算出同一波長(zhǎng)MTF最高時(shí)對(duì)應(yīng)的分劃板的位置坐標(biāo)，記為Z_band，由以下公式計(jì)算同一視場(chǎng)同一波長(zhǎng)修磨墊的修整量，從而得到同一視場(chǎng)不同波長(zhǎng)最佳像面位置以及探測(cè)器修磨墊的修整量：

上式中，f_{成像光譜儀}為成像光譜儀的焦距，f_平行光管為靶面可調(diào)平行光管的焦距；

示例性的，可以利用曲線擬合的方法求取MTF最大值對(duì)應(yīng)的分劃板位置坐標(biāo)Z_band。

步驟f、利用計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)控制三維旋轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)，使得靶面可調(diào)平行光管與成像光譜儀光軸成一定的夾角，重復(fù)上述步驟c～步驟e，得到不同視場(chǎng)的最佳像面位置；

步驟g、根據(jù)不同視場(chǎng)的最佳像面位置，通過數(shù)據(jù)擬合得到成像光譜儀的最佳像面，計(jì)算探測(cè)器修磨墊的修整量以及傾斜角。

示例性的，可以利用曲面擬合的方法求取成像光譜儀成像質(zhì)量最好的曲面，根據(jù)曲面擬合出一個(gè)最佳平面使得曲面與平面之間的相對(duì)偏差最小，該平面作為成像光譜儀的最佳像面，并計(jì)算出修磨墊的修整量及傾斜角。

本發(fā)明實(shí)施例的上述方案，采用離焦測(cè)量方法，無需時(shí)時(shí)調(diào)整成像光譜儀的探測(cè)器，一次測(cè)量后通過圖像處理，擬合出最佳像面的位置，計(jì)算出探測(cè)器修磨墊的修整量，實(shí)現(xiàn)成像光譜儀與探測(cè)器的快速精準(zhǔn)對(duì)接，有利于寬視場(chǎng)高光譜成像儀探測(cè)器的快速準(zhǔn)確的調(diào)校。

此外，在進(jìn)行上述方法的步驟a之前，還預(yù)先確定分劃板上的圖案；其過程如下：

確定光譜儀的焦距f_{成像光譜儀}、探測(cè)器像元大小p以及靶面可調(diào)平行光管的焦距為f_平行光管；

計(jì)算成像光譜儀靜態(tài)傳遞函數(shù)對(duì)應(yīng)靶面可調(diào)平行光管焦距的條紋線寬d₁為：

計(jì)算成像光譜儀動(dòng)態(tài)傳遞函數(shù)對(duì)應(yīng)靶面可調(diào)平行光管焦距的條紋線寬d₂為：

根據(jù)條紋線寬d₁與條紋線寬d₂確定分劃板上的圖樣。

通過上述方式確定的分劃板圖樣，還可以同時(shí)測(cè)量不同視場(chǎng)不同波長(zhǎng)的點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)PSF，用于成像光譜儀的綜合像差、譜線彎曲以及色畸變的綜合評(píng)測(cè)。

為了便于理解，下面結(jié)合具體示例進(jìn)行說明。

示例一

如圖3所示，為成像光譜儀最佳像面檢校流程圖，其主要包括：

(a)確定被測(cè)成像光譜儀的系統(tǒng)參數(shù)，成像光譜儀的焦距f_{成像光譜儀}＝224mm、成像光譜儀的半視場(chǎng)角ω＝4°、探測(cè)器像元大小p＝16um、靶面可調(diào)平行光管的焦距為f_平行光管＝1000mm。則成像光譜儀靜態(tài)傳遞函數(shù)對(duì)應(yīng)1000mm平行光管的條紋線寬為成像光譜儀動(dòng)態(tài)傳遞函數(shù)對(duì)應(yīng)1000mm平行光管的條紋線寬為根據(jù)計(jì)算結(jié)果設(shè)計(jì)分劃板圖樣如圖4所示，其中，14為十字絲目標(biāo)；15為點(diǎn)源目標(biāo)；16為條紋目標(biāo)。

(b)調(diào)整靶面可調(diào)平行光管10與成像光譜儀13共光軸.

(c)啟動(dòng)主控計(jì)算機(jī)中的分析測(cè)量軟件，輸入相關(guān)參數(shù)，調(diào)整靶面可調(diào)平行光管10的分劃板3位于平行光管準(zhǔn)直鏡的焦面處，此時(shí)分劃板3的位置坐標(biāo)為Z₀＝46.4mm。設(shè)置平移臺(tái)4掃描初始位置坐標(biāo)Z₁＝30mm、步長(zhǎng)信息為0.5mm、終止位置坐標(biāo)Z_n＝60mm，打開多光譜光源，光源經(jīng)毛玻璃勻光后照射在分劃板上，經(jīng)準(zhǔn)直鏡模擬輸出不同物距的景物，經(jīng)成像光譜儀前置鏡光譜儀分光后成像在探測(cè)器上，平移臺(tái)4按照程序設(shè)置進(jìn)行掃描，計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)12通過成像光譜儀13的探測(cè)器6采集存儲(chǔ)分劃板3的圖像信息，并記錄分劃板3的位置信息Z₁,Z₂,......,Z_n；計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)12根據(jù)探測(cè)器6獲得的圖像信息計(jì)算Z₁,Z₂,......,Z_n不同波長(zhǎng)對(duì)應(yīng)的MTF，計(jì)算出650nm傳遞函數(shù)最高時(shí)對(duì)應(yīng)分劃板3的位置坐標(biāo)，如圖5所示，記為Z₆₅₀＝47mm，可由以下公式可得中心視場(chǎng)波長(zhǎng)為650nm時(shí)理論上修磨墊7修整量應(yīng)為同理可以計(jì)算出中心視場(chǎng)450nm，500nm，550nm，600nm，700nm，750nm，800nm，850nm，900nm，950nm傳遞函數(shù)最高時(shí)對(duì)應(yīng)分劃板的位置坐標(biāo)以及理論上修磨墊7修整量。

(d)設(shè)置三維旋轉(zhuǎn)臺(tái)11信息，調(diào)整靶面可調(diào)平行光管10與成像光譜儀13光軸夾角為2°，重復(fù)步驟(c)，同理設(shè)置光軸夾角為4°,-2°,-4°，重復(fù)步驟(c)，獲得整個(gè)像面理想像面的位置坐標(biāo)；

(e)通過數(shù)據(jù)擬合得到成像光譜儀的最佳像面，計(jì)算探測(cè)器修磨墊7的修整量以及傾斜角，從而可以實(shí)現(xiàn)成像光譜儀與探測(cè)器的快速精準(zhǔn)對(duì)接。

示例二

前文已經(jīng)提到，本發(fā)明實(shí)施例中的分劃板帶有特定的圖樣，因而可以實(shí)現(xiàn)成像光譜儀的綜合像差、譜線彎曲以及色畸變的綜合評(píng)測(cè)。本示例中主要介紹成像光譜儀成像質(zhì)量評(píng)定測(cè)量方法，如圖6所示，其主要包括：

(a)確定被測(cè)成像光譜儀的系統(tǒng)參數(shù)，成像光譜儀的焦距f_{成像光譜儀}＝224mm、成像光譜儀的半視場(chǎng)角ω＝4°、探測(cè)器像元大小p＝16um、靶面可調(diào)平行光管的焦距為f_平行光管＝1000mm。則成像光譜儀靜態(tài)傳遞函數(shù)對(duì)應(yīng)1000mm平行光管的條紋線寬為成像光譜儀動(dòng)態(tài)傳遞函數(shù)對(duì)應(yīng)1000mm平行光管的條紋線寬為根據(jù)計(jì)算結(jié)果設(shè)計(jì)分劃板圖樣如圖4所示。

(b)啟動(dòng)計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)12中的分析測(cè)量軟件，輸入相關(guān)參數(shù)，調(diào)整靶面可調(diào)平行光管10的分劃板3位于平行光管準(zhǔn)直鏡5的焦面處，此時(shí)分劃板3的位置坐標(biāo)為Z₀＝46.4mm，調(diào)整分劃板3，使點(diǎn)源目標(biāo)15為φ₁的圓孔圖樣成像在探測(cè)器上。設(shè)置三維轉(zhuǎn)臺(tái)11信息，調(diào)整靶面可調(diào)平行光管10與成像光譜儀13光軸夾角為0°，打開多光譜光源1，多光譜光源1的特定波長(zhǎng)為442nm、532nm、660nm、808nm、904nm、1064nm，計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)12通過成像光譜儀13的探測(cè)器6采集存儲(chǔ)分劃板3的圖像信息，并計(jì)算圖像信息中各點(diǎn)源目標(biāo)像的點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)，以及各點(diǎn)光斑的質(zhì)心位置坐標(biāo)。

(c)設(shè)置三維轉(zhuǎn)臺(tái)11信息，調(diào)整靶面可調(diào)平行光管10與成像光譜儀13光軸夾角為2°,4°,-2°,-4°，重復(fù)步驟(b)。

(d)計(jì)算成像光譜儀不同視場(chǎng)不同波長(zhǎng)的點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)用于成像光譜儀13像差的綜合評(píng)測(cè)，根據(jù)不同視場(chǎng)不同波長(zhǎng)的點(diǎn)光斑質(zhì)心位置坐標(biāo)計(jì)算成像光譜儀13的光譜位置、譜線彎曲以及色畸變的大小。

本發(fā)明實(shí)施例的上述方案，主要具有如下優(yōu)點(diǎn)：

1)采用步進(jìn)掃描平行光管分劃板位置，通過三維旋轉(zhuǎn)臺(tái)調(diào)整平行光管與成像光譜儀光軸的夾角，通過離焦測(cè)量以及軟件分析處理來檢測(cè)成像光譜儀的最佳像面位置，無需頻繁移動(dòng)成像光譜儀探測(cè)器的位置，使檢測(cè)工作強(qiáng)度大大降低。

2)采用計(jì)算成像光譜儀的不同視場(chǎng)不同波長(zhǎng)MTF最大值的方法擬合成像光譜儀的最佳成像像面，檢測(cè)精度有顯著提高。

3)采用特制的分劃板，可以用于成像光譜儀綜合像差、譜線彎曲以及色畸變的綜合評(píng)測(cè)。

4)采用光纖傳像束耦合不同波長(zhǎng)的單色光，可以用于成像光譜儀的光譜位置的快速標(biāo)定，可用于成像光譜儀野外光譜標(biāo)定。

以上所述，僅為本發(fā)明較佳的具體實(shí)施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明披露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)該以權(quán)利要求書的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。