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      一種高精度紅外多氣體檢測(cè)裝置的制作方法

      文檔序號(hào):11131436閱讀:901來(lái)源:國(guó)知局
      一種高精度紅外多氣體檢測(cè)裝置的制造方法

      本發(fā)明涉及氣體檢測(cè)領(lǐng)域,具體涉及一種高精度紅外多氣體檢測(cè)裝置。



      背景技術(shù):

      氣體濃度的快速準(zhǔn)確檢測(cè)是環(huán)保監(jiān)控、安全生產(chǎn)、醫(yī)療監(jiān)護(hù)、工業(yè)過(guò)程必不可少的關(guān)鍵技術(shù),在煤炭、石油化工、冶金、電力、農(nóng)業(yè)、醫(yī)療等行業(yè)以及環(huán)保工程和生物工程等方面都有著廣泛的應(yīng)用,氣體檢測(cè)裝置的研究己經(jīng)受到極大的重視。

      隨著經(jīng)濟(jì)與科技的發(fā)展,人們對(duì)氣體檢測(cè)裝置提出了越來(lái)越高的要求,近年來(lái)迅速發(fā)展的紅外氣體傳感器具有傳統(tǒng)氣體傳感器無(wú)可比擬的優(yōu)點(diǎn),因此倍受?chē)?guó)內(nèi)外學(xué)者關(guān)注,代表了氣體傳感技術(shù)的一個(gè)重要發(fā)展方向。

      傳統(tǒng)的氣體檢測(cè)裝置往往都是對(duì)單一氣體進(jìn)行檢測(cè),如若需要檢測(cè)多種氣體則需要有多套檢測(cè)裝置,這樣不僅成本高而且對(duì)于空間占用也有一定需求,尤其應(yīng)用于航天航空領(lǐng)域會(huì)受到極大限制;此外,傳統(tǒng)多氣體檢測(cè)裝置通常僅能根據(jù)特定氣體種類(lèi)檢測(cè)環(huán)境中該種氣體的濃度,并且檢測(cè)精度達(dá)不到更高要求,例如對(duì)有毒有害氣體成分變化以及濃度變化要求有高檢測(cè)精度的情況下,現(xiàn)有的氣體檢測(cè)裝置往往無(wú)法達(dá)到其精度要求,故而,急需一種高精度氣體檢測(cè)裝置來(lái)滿(mǎn)足需求。故而,如何實(shí)現(xiàn)單一氣體檢測(cè)裝置對(duì)待測(cè)環(huán)境中多種氣體成分的種類(lèi)和濃度進(jìn)行高精度檢測(cè),成為研究中所要解決的技術(shù)問(wèn)題。此外,現(xiàn)有技術(shù)中,光源與探測(cè)器往往呈直線設(shè)置,吸收氣室的長(zhǎng)度一定程度上限定了氣體檢測(cè)過(guò)程中的光程,因此在測(cè)量過(guò)程中氣體分子對(duì)紅外波長(zhǎng)的吸收受到吸收氣室長(zhǎng)度的影響,這樣的設(shè)計(jì)使得氣體傳感器結(jié)構(gòu)較大,攜帶不方便并且在測(cè)量多種氣體時(shí)受到限制,這些都會(huì)影響檢測(cè)精度;而在非真空情況下,氣室中會(huì)有環(huán)境氣體分子吸收干擾,也會(huì)影響檢測(cè)精度。因此,通過(guò)研發(fā)安裝結(jié)構(gòu)合理的氣體檢測(cè)裝置,精確測(cè)量出待測(cè)環(huán)境多種氣體的種類(lèi)及濃度,拓展紅外氣體檢測(cè)的應(yīng)用領(lǐng)域,對(duì)于氣體檢測(cè)領(lǐng)域的應(yīng)用和相關(guān)試驗(yàn)研究都有積極的影響。

      為了克服以上技術(shù)問(wèn)題,亟需一種能夠高精度測(cè)量待測(cè)環(huán)境多種氣體的種類(lèi)及濃度的紅外氣體檢測(cè)裝置。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      基于上文所述,本發(fā)明為克服上述技術(shù)問(wèn)題提供一種高精度紅外多氣體檢測(cè)裝置,該氣體檢測(cè)裝置的光源能夠發(fā)出寬光譜紅外光源并且具有步進(jìn)式工作模式和掃描工作模式,并且濾光器的性能可通過(guò)電信號(hào)調(diào)節(jié)腔長(zhǎng)協(xié)同光源進(jìn)行工作,從而使得本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)單一裝置一次高精度檢測(cè)多種氣體的種類(lèi)及濃度。

      為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:

      一種高精度紅外多氣體檢測(cè)裝置,其特征在于,其光氣路系統(tǒng)包括:光源、分光器件、光學(xué)氣室、可調(diào)腔長(zhǎng)濾光器和熱釋電敏感單元;所述光源設(shè)置在所述光學(xué)氣室外側(cè),所述光學(xué)氣室包括參考?xì)馐液臀諝馐?,所述參考?xì)馐铱拷庠磦?cè)和相對(duì)遠(yuǎn)離光源側(cè)分別設(shè)有第一進(jìn)光窗和第一出光窗,所述吸收氣室靠近光源側(cè)間隔設(shè)有第二進(jìn)光窗和第二出光窗,所述吸收氣室內(nèi)設(shè)置有至少三個(gè)凹面反射鏡和光程調(diào)節(jié)部件,所述吸收氣室與所述參考?xì)馐铱拷庠磦?cè)和相對(duì)遠(yuǎn)離光源側(cè)分別設(shè)有進(jìn)氣口和出氣口;所述光源僅為一個(gè),可發(fā)出寬光譜激光并進(jìn)行掃描式和窄帶步進(jìn)式工作,光源發(fā)出的光經(jīng)分光器件分為兩束后分別進(jìn)入?yún)⒖細(xì)馐液臀諝馐遥渲幸皇?jīng)過(guò)設(shè)于參考?xì)馐页鰵饪诘牡谝豢烧{(diào)腔長(zhǎng)濾光器到達(dá)第一熱釋電單元,另一束經(jīng)過(guò)吸收氣室的第二出光窗射出后經(jīng)過(guò)第二可調(diào)腔長(zhǎng)濾光器到達(dá)第二熱釋電單元最終通過(guò)電路輸出相應(yīng)的參考信號(hào)和檢測(cè)信號(hào)。

      進(jìn)一步地,本發(fā)明中吸收氣室包括底座及固定在底座上的殼體,所述殼體與底座間形成容納凹面反射鏡及光程調(diào)節(jié)部件的容置腔,凹面反射鏡及光程調(diào)節(jié)部件的設(shè)置具體如下:

      第一凹面反射鏡,所述第一凹面反射鏡設(shè)置在所述吸收氣室內(nèi),并位于第二進(jìn)光窗和第二出光窗之間;

      第二凹面反射鏡與第三凹面反射鏡關(guān)于所述第一凹面反射鏡的中心軸線對(duì)稱(chēng)設(shè)置,并且設(shè)于所述吸收氣室出氣口內(nèi)側(cè)的同一垂直面上;

      第一凹面反射鏡、第二凹面反射鏡和第三凹面反射鏡曲率半徑相同,三面凹面反射鏡處于同一平面內(nèi),所述第一凹面反射鏡的曲率中心在所述第二凹面反射鏡和所述第三凹面反射鏡之間的中點(diǎn)處,所述第二凹面反射鏡和第三凹面反射鏡的曲率中心均在所述第一凹面反射鏡的凹面內(nèi)。

      進(jìn)一步地,本發(fā)明中光程調(diào)節(jié)部件調(diào)節(jié)第一凹面反射鏡與第二凹面反射鏡或第三凹面反射鏡所在垂直面的垂直距離、第二凹面反射鏡和第三凹面反射鏡的傾間距以及第二凹面反射鏡或第三凹面反射鏡的傾斜角度。

      進(jìn)一步地,本發(fā)明中可調(diào)腔長(zhǎng)濾光器為F-P腔薄膜濾光器,其結(jié)構(gòu)包括殼體,其內(nèi)部具有容納空間,所述殼體靠近光學(xué)氣室面和相對(duì)面分別對(duì)應(yīng)設(shè)有第三進(jìn)光窗和第三出光窗;所述容納空間內(nèi)設(shè)置有固定于底座的第一基板和與第一基板隔離且對(duì)稱(chēng)設(shè)置的第二基板,在第一基板與第二基板相向面的中部對(duì)稱(chēng)設(shè)有反射層,在第一基板與第二基板兩端部相向的兩個(gè)面上分別設(shè)有相互對(duì)稱(chēng)的控制電極;第二基板上與控制電極相對(duì)的一面通過(guò)彈簧與所述殼體固定連接,并且通過(guò)電信號(hào)控制控制電極以實(shí)現(xiàn)第二基板位置的可控調(diào)節(jié)。

      為克服電磁等干擾以使得熱釋電敏感單元接收到的信號(hào)更加準(zhǔn)確,本發(fā)明還包括設(shè)置于反射層表面的抗干擾金屬網(wǎng)柵。

      進(jìn)一步地,本發(fā)明F-P腔薄膜濾光器的腔長(zhǎng)在0.5μm~10μm范圍內(nèi)連續(xù)可調(diào)。

      本發(fā)明有益效果如下:

      本發(fā)明的高精度紅外多氣體檢測(cè)裝置結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理,通過(guò)參考?xì)馐遗c吸收氣室輸出信號(hào)的對(duì)比分析,從而獲得更為精準(zhǔn)的檢測(cè)結(jié)果,此外參考?xì)馐业拇嬖诳梢越档屯饨缫蛩馗蓴_;通過(guò)集成于熱釋電敏感單元的濾光器能夠避免特定波段測(cè)量下其余波段光的干擾,為了達(dá)到更良好的效果,濾光器內(nèi)增加有抗干擾金屬網(wǎng)柵來(lái)屏蔽電磁等干擾;此外還設(shè)置能夠發(fā)出寬光譜且具有步進(jìn)式工作模式和掃描工作模式的紅外光源,濾光器采用可變腔長(zhǎng)技術(shù)協(xié)同光源發(fā)出的紅外波長(zhǎng)實(shí)現(xiàn)控制透射至熱釋電敏感單元進(jìn)行檢測(cè)的選通波長(zhǎng),進(jìn)而實(shí)現(xiàn)單一裝置進(jìn)行多種氣體的高精度檢測(cè);吸收氣室內(nèi)設(shè)置可通過(guò)光程部件合理調(diào)節(jié)的多個(gè)凹面鏡實(shí)現(xiàn)光程調(diào)節(jié),以滿(mǎn)足不同氣體在高檢測(cè)精度下的濃度測(cè)量。

      附圖說(shuō)明

      圖1為紅外高精度多氣體檢測(cè)裝置總體示意圖;其中,101是紅外光源,102是參考?xì)馐遥?03是第一可調(diào)腔長(zhǎng)濾光器,104是分束器,105是第一熱釋電敏感單元,106是第一反射鏡,107是進(jìn)氣口,1081是第二進(jìn)光窗,1082是第二出光窗,109是光程調(diào)節(jié)部件,110是第二反射鏡,111是出氣口,112是第二可調(diào)腔長(zhǎng)濾光器,113是吸收氣室,114是第二熱釋電敏感單元。

      圖2為氣體吸收室的結(jié)構(gòu)示意圖;其中,1081是第二進(jìn)光窗,1082是第二出光窗,201是第一光程調(diào)節(jié)部件,202是容置腔,203是第二光程調(diào)節(jié)部件,204是第三光程調(diào)節(jié)部件,205是第一凹面反射鏡,206是反射鏡組(包括第二凹面反射鏡和第三凹面發(fā)射鏡),207是底座。

      圖3為抗干擾可調(diào)腔長(zhǎng)濾光器與釋電敏感單元的位置及結(jié)構(gòu)示意圖;其中,301是彈簧,302是第二基板,303是上控制電極,304是金屬網(wǎng)柵,305是可移動(dòng)反射層,306是第三進(jìn)光窗,307是固定反射層,308是第一基板,309是下控制電極,310是第三出光窗。

      具體實(shí)施方式

      結(jié)合以下附圖對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式進(jìn)行進(jìn)一步闡述,此處實(shí)施例只用于說(shuō)明本發(fā)明,但不用來(lái)限制本發(fā)明范圍。

      實(shí)施例1:

      如圖1所示,本發(fā)明提供一種高精度紅外多氣體檢測(cè)裝置,其光氣路系統(tǒng)包括:紅外光源101、分束器104、光學(xué)氣室、可調(diào)腔長(zhǎng)濾光器和熱釋電敏感單元;所述紅外光源101設(shè)置在所述光學(xué)氣室外側(cè),所述光學(xué)氣室包括參考?xì)馐?02和吸收氣室113,所述參考?xì)馐?02靠近紅外光源101側(cè)和相對(duì)遠(yuǎn)離光源側(cè)分別設(shè)有第一進(jìn)光窗和第一出光窗,所述吸收氣室113靠近紅外光源101側(cè)間隔設(shè)有第二進(jìn)光窗1081和第二出光窗1082,所述吸收氣室113內(nèi)設(shè)置有至少三個(gè)凹面鏡和光程調(diào)節(jié)部件109,所述吸收氣室113與所述參考?xì)馐?02靠近紅外光源101側(cè)和相對(duì)遠(yuǎn)離紅外光源101側(cè)分別設(shè)有進(jìn)氣口107和出氣口111;所述紅外光源101僅為一個(gè),可發(fā)出寬光譜激光并進(jìn)行掃描式和窄帶步進(jìn)式工作,紅外光源101發(fā)出的光經(jīng)分束器104分為兩束,其中一束進(jìn)入?yún)⒖細(xì)馐?02,并經(jīng)過(guò)設(shè)于參考?xì)馐页鰵饪诘牡谝豢烧{(diào)腔長(zhǎng)濾光器103到達(dá)第一熱釋電單元105,另一束經(jīng)過(guò)第一反射鏡106反射后進(jìn)入吸收氣室113,并經(jīng)過(guò)設(shè)于吸收氣室第二出光窗1082射出并經(jīng)第二反射鏡110反射后經(jīng)過(guò)第二可調(diào)腔長(zhǎng)濾光器112到達(dá)第二熱釋電單元114,最終通過(guò)電路輸出檢測(cè)信號(hào)。

      由于不同氣體在不同檢測(cè)精度下的光程是不同的,本實(shí)施例中吸收氣室采用懷特池結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)在一定吸收氣室空間下調(diào)節(jié)光線的反射次數(shù),進(jìn)而調(diào)節(jié)光程,最終達(dá)到提高吸收氣室靈敏度及測(cè)量結(jié)果精確度的要求;如圖2所示,所述吸收氣室113包括底座207及固定在底座207上的殼體,所述殼體與底座207間形成容納凹面鏡及光程調(diào)節(jié)部件109的容置腔202,凹面鏡及光程調(diào)節(jié)部件109的設(shè)置具體如下:

      第一凹面反射鏡205,所述第一凹面反射鏡205設(shè)置在所述吸收氣室113內(nèi)的第二進(jìn)光窗1081和第二出光窗1082之間;

      第二凹面反射鏡與第三凹面反射鏡形成反射鏡組206關(guān)于所述第一凹面反射鏡205的中心軸線對(duì)稱(chēng)設(shè)置,并且設(shè)于所述吸收氣室的出氣口111內(nèi)側(cè)的同一垂直面上;

      第一凹面反射鏡205、第二凹面反射鏡和第三凹面反射鏡曲率半徑相同,三面凹面鏡處于同一平面內(nèi),所述第一凹面反射鏡205的曲率中心在所述第二凹面反射鏡和所述第三凹面反射鏡之間的中點(diǎn)處,所述第二凹面反射鏡和第三凹面反射鏡的曲率中心均在所述第一凹面反射鏡205的凹面內(nèi)。

      具體而言,所述光程調(diào)節(jié)部件109包括如圖2所示的第一光程部件201、第二光程部件203和第三光程部件204;第二光程部件203安裝于第一光程部件201上調(diào)節(jié)第一凹面反射鏡205與第二凹面反射鏡或第三凹面反射鏡所在垂直面的垂直距離,第三光程部件204安裝于第二光程部件203上調(diào)節(jié)第二凹面反射鏡和第三凹面反射鏡的間距,第二光程部件203上第二凹面反射鏡或第三凹面反射鏡可沿其所在垂直面做一定角度的俯仰調(diào)節(jié)從而使得第二凹面反射鏡或第三凹面反射鏡的傾斜角度改變,使其曲率中心在第一凹面反射鏡凹面上的位置發(fā)生改變,根據(jù)實(shí)際需要采取以上三種調(diào)節(jié)方式均能夠改變光在三面反射鏡之間總反射次數(shù),進(jìn)而達(dá)到改變光程的目的。

      如圖3所示,可調(diào)腔長(zhǎng)濾光器為F-P腔薄膜濾光器,其結(jié)構(gòu)包括殼體,其內(nèi)部具有容納空間,所述殼體靠近光學(xué)氣室面和其相對(duì)面分別對(duì)應(yīng)設(shè)有第三進(jìn)光窗306和第三出光窗310;所述容納空間內(nèi)設(shè)置有固定于底座的第一基板308和與第一基板308隔離且對(duì)稱(chēng)設(shè)置的第二基板302,根據(jù)本領(lǐng)域技術(shù)人員的公知常識(shí),所述基板的材質(zhì)應(yīng)為絕緣材質(zhì),通常采用硅基薄板,但不局限于硅基薄板,在第一基板308與第二基板302相向面的中部對(duì)稱(chēng)設(shè)有反射層,其中第一基板308上的反射層為固定反射層307,第二基板302上的反射層為可移動(dòng)反射層305,為克服電磁等干擾以使得熱釋電敏感單元接收到的信號(hào)更加準(zhǔn)確,本實(shí)施例在固定反射層307上設(shè)有金屬網(wǎng)柵,上述金屬網(wǎng)柵可實(shí)現(xiàn)光學(xué)透明且屏蔽電磁干擾(主要為MHz及GHz頻段),屏蔽效能可達(dá)30dB,并且在紅外窗口電磁屏蔽的應(yīng)用中,金屬網(wǎng)柵對(duì)中、長(zhǎng)波紅外影響非常小(透過(guò)率≥95%);在第一基板308與第二基板302相向面的兩端部分別對(duì)稱(chēng)設(shè)有下控制電極309和上控制電極303,第二基板302相背于控制電極的一面通過(guò)彈簧301與殼體固定連接,并通過(guò)電信號(hào)控制上控制電極303,實(shí)現(xiàn)第二基板302位置的可控調(diào)節(jié)。

      實(shí)施例2:

      采用本發(fā)明實(shí)施例1所提供的高精度紅外多氣體檢測(cè)裝置進(jìn)行特定環(huán)境的氣體檢測(cè),主要分為以下兩個(gè)部分:

      一、氣體分子種類(lèi)檢測(cè):首先將待測(cè)氣體由進(jìn)氣口107通入吸收氣室113中,然后紅外光源101使其以步進(jìn)式工作模式連續(xù)發(fā)出窄帶紅外光,經(jīng)分束器104分光后,一束光進(jìn)入?yún)⒖細(xì)馐?02,另一束光經(jīng)反射鏡106反射進(jìn)入吸收氣室113;其中第一光程部件201,第二光程部件203和第三光程部件204共同構(gòu)成光程調(diào)節(jié)部件109,反射鏡組206設(shè)置于第二光程部件203上,第二凹面反射鏡和第三凹面反射鏡的中點(diǎn)分別為B1和B2,通過(guò)調(diào)節(jié)第二光程部件203在第一光程部件201上的水平位置、第二凹面反射鏡或第三凹面反射鏡的傾斜角度以及第二凹面反射鏡中點(diǎn)B1與第三凹面反射鏡中點(diǎn)B2的間距d,可以改變紅外光在第一凹面反射鏡205與反射鏡組206之間的反射次數(shù)以及單光程長(zhǎng)度,從而改變光在吸收氣室113中的總光程,使光程滿(mǎn)足各氣體達(dá)到飽和吸收所需要求;通過(guò)參考?xì)馐?02和吸收氣室113后的紅外光分別射入到與之相對(duì)應(yīng)的第一可調(diào)腔長(zhǎng)濾光器105與第二可調(diào)腔長(zhǎng)濾光器114中,上述紅外光通過(guò)第三進(jìn)光窗306進(jìn)入可調(diào)腔長(zhǎng)濾光器中,通過(guò)調(diào)節(jié)可移動(dòng)反射層305與固定反射層之間距離307實(shí)現(xiàn)特定范圍波長(zhǎng)通過(guò)第三出光窗310透射至相應(yīng)熱釋電敏感單元,并由該敏感單元響應(yīng)并輸出其響應(yīng)值。

      具體而言,為屏蔽外界電磁信號(hào)等干擾,可在固定反射層307制作金屬網(wǎng)柵304來(lái)降低外界因素干擾;本發(fā)明可變腔長(zhǎng)濾光器為現(xiàn)有技術(shù),其實(shí)質(zhì)是一個(gè)可變腔長(zhǎng)的F-P腔,通過(guò)電信號(hào)控制F-P腔的腔長(zhǎng)變化,進(jìn)而腔長(zhǎng)的變化就會(huì)引起透過(guò)F-P腔的光波波長(zhǎng)的改變。本實(shí)施例中可移動(dòng)反射層305的位置移動(dòng)由上控制電極303與下控制電極309間靜電力及彈簧301的彈力共同控制,當(dāng)紅外光源101發(fā)射窄帶紅外光時(shí),根據(jù)現(xiàn)有濾光器可調(diào)腔長(zhǎng)將有與該窄帶紅外光對(duì)應(yīng)的一個(gè)電壓信號(hào)作用于上控制電極303上,此時(shí)上控制電極303與下控制309之間的電壓差改變,由于電極是設(shè)置在絕緣基板上的,通過(guò)彈簧301將第二基板302兩端部的上控制電極303與殼體連接,在靜電力和彈力的作用下導(dǎo)致可移動(dòng)反射層與固定反射層之間距離發(fā)生改變,即F-P腔的腔長(zhǎng)發(fā)生變化。因此,通過(guò)電信號(hào)連續(xù)調(diào)節(jié)濾光器,使其選通與紅外光源101發(fā)出的窄帶波長(zhǎng)一致的紅外光透射至熱釋電敏感單元,由該敏感單元讀出并記錄其響應(yīng),然后利用第一熱釋電敏感單元105和第二熱釋電敏感單元114的響應(yīng)值對(duì)比還原出被測(cè)氣體吸收光譜,結(jié)合氣體紅外吸收光譜特征,與標(biāo)準(zhǔn)庫(kù)進(jìn)行對(duì)比即可確定被測(cè)氣體分子種類(lèi)。

      二、氣體分子濃度檢測(cè):紅外光源101以掃描工作模式發(fā)出紅外光,經(jīng)分束器104(分?jǐn)?shù)比為m:1)分束后,分別進(jìn)入吸收氣室102和參考?xì)馐?13,吸收氣室113的出射光能量為P1,參考?xì)馐?02的出射光能量為P2,經(jīng)過(guò)第一熱釋電敏感單元105產(chǎn)生響應(yīng)電壓V2和第二熱釋電敏感單元114產(chǎn)生響應(yīng)電壓V1分別如下:

      V2=P2Rv (1)

      V1=kP1Rve-aCL, (2)

      其中,公式(2)中k為光能損耗系數(shù),Rv為熱釋電敏感單元電壓響應(yīng)率,a為氣體吸收系數(shù),C為氣體濃度,L為有效光程長(zhǎng)度。

      經(jīng)過(guò)系數(shù)校正后,在無(wú)吸收特征氣體下可得能量關(guān)系如下:P1=mkP2,因此當(dāng)吸收氣室和參考?xì)馐彝ㄈ雽捁庾V紅外光之后可得由此可得結(jié)合熱釋電敏感單元比探測(cè)率D*和電壓分辨率VN可得氣體分子最小分辨濃度從該式可得出當(dāng)V2取得最大值時(shí)Cmin達(dá)到最小,即分辨率最高。

      本實(shí)施例高精度檢測(cè)CO,NO2和NH3混合氣體各氣體分子濃度,紅外光源具體為量子級(jí)聯(lián)激光器,可發(fā)出0.6~3.3μm波長(zhǎng)范圍的紅外光;吸收氣室總光程長(zhǎng)度0.8~10m可調(diào);濾光器的腔長(zhǎng)在0.6~3.3μm范圍內(nèi)連續(xù)可調(diào);熱釋電敏感單元比探測(cè)率D*為VN為典型值75μV。當(dāng)混合氣體經(jīng)過(guò)分子種類(lèi)檢測(cè)流程后,我們確定混合氣體中含有CO分子,NO2分子和NH3分子。由標(biāo)準(zhǔn)庫(kù)可知這三種氣體的吸收系數(shù)a分別為3.1107/cm,16090.5/cm和4.7244/cm,此時(shí)考慮到三種氣體分子都需達(dá)到飽和吸收,則應(yīng)調(diào)節(jié)吸收氣室總光程長(zhǎng)度為5.5m,經(jīng)檢測(cè)得到熱釋電敏感單元105的響應(yīng)電壓為4.5V,通過(guò)氣體濃度檢測(cè)原理中的公式可以計(jì)算出這三種氣體的cmin理論值分別為9.741×10-9,1.896×10-12和6.414×10-9,均遠(yuǎn)低于0.01ppm,達(dá)到當(dāng)下國(guó)內(nèi)外頂尖氣體檢測(cè)裝置濃度分辨率標(biāo)準(zhǔn),綜上所述可以表明本發(fā)明具有極高的濃度檢測(cè)精度。

      以上對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明,但所述內(nèi)容僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例,并不用與限制本發(fā)明。凡在本發(fā)明的申請(qǐng)范圍內(nèi)所做的任何修改,等同替換和改進(jìn)等均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。

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