本實用新型涉及一種光罩檢測裝置，特別是涉及一種可對光罩的多邊形框架的內壁面進行微粒檢測，且通過測距后位移調整的方式，對各檢測區(qū)域精準采集檢測影像，以對應產生檢測信息的光罩檢測裝置。

背景技術：

就現(xiàn)有的半導體元件制造技術來說，半導體元件的電路圖案是通過光罩將電路圖案轉印至晶圓的表面上形成的。

由于半導體元件的微小化，在制造半導體元件的過程中，光罩的缺陷將會大大影響硅晶圓表面的電路圖案的質量，例如造成電路圖案的扭曲或變形；目前最常見的造成光罩缺陷的原因在于光罩的表面附有微粒。

因此，為了維持光罩在使用期間的質量，現(xiàn)有技術是在光罩的表面上設置一種光罩保護薄膜(pellicle)，用以防止微粒掉落在光罩表面：然而，光罩保護膜的構造中所包含的框架在設置過程中，其壁面可能已附有微粒，進而可能具有光罩在作業(yè)或運送途中，位于框架內壁面的微粒掉落在光罩表面的風險。

所以如何在光罩的使用之前，將光罩保護薄膜的內壁面的微粒檢測出來，將是該相關產業(yè)亟需思考并解決的一大課題。

技術實現(xiàn)要素：

本實用新型的目的在于提供一種光罩檢測裝置，用以解決現(xiàn)有技術中所面臨的問題。

基于上述目的，本實用新型公開了一種光罩檢測裝置，其包含檢測基座、移動平臺、轉動平臺、承載平臺、發(fā)光單元、雷射測距模塊、處理模塊及影像擷取模塊。檢測基座的一面上設有支架。沿檢測基座作第一方向的位移的移動平臺設于檢測基座的所述面上，且位于檢測基座與支架之間。沿移動平臺作垂直第一方向的第二方向的位移的轉動平臺設于移動平臺之上。承載平臺設于轉動平臺的一面上，承載平臺承載光罩，光罩包含基板與多邊形框架，多邊形框架設于基板的一面上。照射光罩的發(fā)光單元設于支架的一側。測量多邊形框架的若干個內壁面的若干個檢測區(qū)域，且對應各檢測區(qū)域產生測距信號的雷射測距模塊設于支架的一側。依據(jù)測距信號控制移動平臺移動的處理模塊連結移動平臺及雷射測距模塊。當移動平臺移動后，采集對應測距信號的檢測區(qū)域的檢測影像，且處理模塊依據(jù)檢測影像產生檢測信息的影像擷取模塊位于支架的一側并連結處理模塊。其中，當影像擷取模塊采集完其中一個內壁面的若干個檢測區(qū)域的若干個檢測影像之后，轉動平臺轉動一個預設角度，使影像擷取模塊采集另一個內壁面的若干個檢測區(qū)域的若干個檢測影像。

較佳地，移動平臺可包含導軌，轉動平臺沿著導軌移動。

較佳地，雷射測距模塊可位于其所測量的其中一個內壁面的斜上方。

較佳地，影像擷取模塊可位于其所采集的其中一個內壁面的斜上方。

較佳地，多邊形框架可為四邊形框架。

較佳地，預設角度可為90度。

較佳地，發(fā)光單元可為條狀光發(fā)光單元。

較佳地，檢測信息可包含微粒位置、微粒尺寸或其組合。

較佳地，預設角度可為0至360度。

綜上所述，本實用新型的光罩檢測裝置于影像擷取模塊在采集其中一個檢測區(qū)域的檢測影像之前，先通過雷射測距模塊對該檢測區(qū)域進行測量，待移動平臺依據(jù)測距信號移動后，影像擷取模塊再對該檢測區(qū)域進行檢測影像的采集；從而達到精密檢測的目的，且具有提升后續(xù)的微縮制程良率的功效。

附圖說明

圖1為本實用新型的光罩檢測裝置的示意圖；

圖2為本實用新型的光罩檢測裝置的方塊圖；

圖3為本實用新型的光罩檢測裝置的光罩的示意圖；

符號說明

100：光罩檢測裝置

101：基板

102：多邊形框架

103：內壁面

104：檢測區(qū)域

110：檢測基座

111：支架

120：移動平臺

121：導軌

130：轉動平臺

140：承載平臺

141：光罩

150：發(fā)光單元

160：雷射測距模塊

170：處理模塊

180：影像擷取模塊。

具體實施方式

為利審查員了解本實用新型的特征、內容與優(yōu)點及其所能達成的功效，茲將本實用新型配合圖式，并以實施例的表達形式詳細說明如下，而其中所使用的圖式，其主旨僅為示意及輔助說明書之用，未必為實用新型實施后的真實比例與精準配置，故不應就所附的圖式的比例與配置關系解讀、局限本實用新型在實際實施上的權利范圍。

本實用新型的優(yōu)點、特征以及達到的技術方法將參照示例性實施例及所附圖式進行更詳細地描述而更容易理解，且本實用新型或可以不同形式來實現(xiàn)，故不應被理解僅限于此處所陳述的實施例，相反地，對所屬技術領域具有通常知識者而言，所提供的實施例將使本公開更加透徹、全面且完整地傳達本實用新型的范疇，且本實用新型將僅為所附加的權利要求書所定義。

請參閱圖1~圖3；圖1為本實用新型的光罩檢測裝置的示意圖；圖2為本實用新型的光罩檢測裝置的方塊圖；圖3為本實用新型的光罩的示意圖。如圖所示，本實用新型的光罩檢測裝置100包含檢測基座110、移動平臺120、轉動平臺130、承載平臺140、發(fā)光單元150、雷射測距模塊160、處理模塊170及影像擷取模塊180。其中，移動平臺120用以帶動承載著光罩141的承載平臺140移動；轉動平臺130用以帶動承載平臺140轉動，將待測量及檢測的其中一個內壁面轉至對應雷射測距模塊160及影像擷取模塊180的位置；發(fā)光單元150用以提供采集影像時的光源；處理模塊170則用以控制移動平臺120移動、轉動平臺130轉動，以及分析檢測影像以產生對應的檢測信息。

檢測基座110的一面上設有支架111。移動平臺120則設于檢測基座110設有支架111的該面上，且移動平臺120位于檢測基座110與支架111之間，支架111橫跨在移動平臺120之上；移動平臺120可沿檢測基座110作第一方向的位移。轉動平臺130設于移動平臺120之上，且可沿著移動平臺120作第二方向的位移；其中；第一方向與第二方向互為垂直，換句話說，光罩141可通過移動平臺120在檢測基座110平面上作相對檢測基座110的X軸及Y軸方向的位移。

承載平臺140設于轉動平臺130的一面上，承載平臺140承載光罩141；如圖3所示，光罩141包含基板101及多邊形框架102，多邊形框架102設于基板101的一面上，而多邊形框架102的若干個內壁面103即為測量及檢測的目標對象，各內壁面103具有若干個檢測區(qū)域104。

發(fā)光單元150位于支架111的一側，且以一角度照射光罩141，以提供檢測所需的光源；其中，發(fā)光單元150較佳為條狀光發(fā)光單元，但不以此為限。雷射測距模塊160位于支架111的一側，用以測量多邊形框架102的若干個內壁面103的若干個檢測區(qū)域104，且對應各檢測區(qū)域104產生測距信號。處理模塊170則依據(jù)測距信號控制移動平臺120移動。影像擷取模塊180位于支架111的一側，當每次移動平臺120移動完畢之后，采集對應測距信號的檢測區(qū)域104的檢測影像，并將檢測影像傳送至處理模塊170，以使處理模塊170據(jù)以分析產生檢測信息；其中，檢測信息包含檢測區(qū)域104中的微粒相關信息，如微粒位置、微粒尺寸等。其中，通過處理模塊170控制移動平臺120位移，以使所欲采集的檢測區(qū)域104與影像擷取模塊180的距離符合影像擷取模塊180的焦距。較佳地，發(fā)光單元150、雷射測距模塊160及影像擷取模塊180皆位于支架111的同一側，且以互不影響為前提而彼此相鄰，但不以此為限。

當影像擷取模塊180采集完其中一個內壁面103的若干個檢測區(qū)域104的若干個檢測影像之后，轉動平臺130將轉動預設角度，使影像擷取模塊180可進行另一個內壁面的若干個檢測區(qū)域104的若干個檢測影像的采集；其中，預設角度為0至360度，其可依據(jù)多邊形框架102所具有的內壁面103的數(shù)量決定預設角度。以此方式，對多邊形框架102的所有內壁面103中的各檢測區(qū)域104進行檢測影像的采集。

本實用新型的光罩檢測裝置100的影像擷取模塊180是依次對各內壁面103中的各檢測區(qū)域104進行檢測影像的采集，但每對其中一個檢測區(qū)域104采集一張檢測影像之前，需先通過雷射測距模塊160對該檢測區(qū)域104進行測距測量，進而使移動平臺120執(zhí)行位置的調整，以確保該檢測區(qū)域104位于影像擷取模塊180的焦距中，從而獲得精確的檢測影像。

移動平臺120進一步可包含導軌121，轉動平臺130位于導軌121之上，進而轉動平臺130可沿著導軌121進行第二方向的位移。

此外，考慮到多邊形框架102的各內壁面103是垂直于光罩141的基板101，為能測量及采集影像，雷射測距模塊160較佳地位于所要測量的其中一個內壁面103的斜上方；同理，影像擷取模塊180亦較佳地位于所要采集的其中一個內壁面103的斜上方。

如圖3所示，舉例而言，多邊形框架102較佳為四邊形框架；進而，其具有四個內壁面103，而轉動平臺130轉換各內壁面103所需轉動的預設角度為90度。上述僅為舉例，不應以此為限。

綜上所述，本實用新型的光罩檢測裝置于影像擷取模塊在采集其中一個檢測區(qū)域的檢測影像之前，先通過雷射測距模塊對該檢測區(qū)域進行測量，待移動平臺依據(jù)測距信號移動后，影像擷取模塊再對該檢測區(qū)域進行檢測影像的采集；從而達到精密檢測的目的，且具有提升后續(xù)的微縮制程良率的功效。

以上所述的實施例僅為說明本實用新型的技術思想及特點，其目的在使熟習此項技藝的人士能夠了解本實用新型的內容并據(jù)以實施，當不能以此限定本實用新型的權利要求，即大概依本實用新型所公開的精神所作的均等變化或修飾，仍應涵蓋在本實用新型的權利要求內。