本實(shí)用新型涉及工業(yè)位置精度測量技術(shù)領(lǐng)域，具體地指一種適用于軋輥輥系和圓孔測量的全站儀反射球輔助測量工裝。

背景技術(shù)：

全站儀，即全站型電子速測儀(Electronic Total Station)，是一種集光、機(jī)、電為一體的高技術(shù)測量儀器，是集水平角、垂直角、距離(斜距、平距)、高差測量功能于一體的測繪儀器系統(tǒng)。通過對(duì)物面上的測點(diǎn)按一定程序進(jìn)行方位和距離測量，并將數(shù)據(jù)處理后給出被測物形狀、空間位置或數(shù)學(xué)模型。與光學(xué)經(jīng)緯儀相比電子速測儀將光學(xué)度盤換為光電掃描度盤，將人工光學(xué)測微讀數(shù)代之以自動(dòng)記錄和顯示讀數(shù)，使測角操作簡單化，且可避免讀數(shù)誤差的產(chǎn)生。因其一次安置儀器就可完成該測站上全部測量工作，所以稱之為全站儀。

全站儀測量的內(nèi)容以測量對(duì)象的幾何尺寸為主，但也涉及色彩、溫度、速度與加速度及其他物理量。在工業(yè)生產(chǎn)和科研各環(huán)節(jié)中，為產(chǎn)品的設(shè)計(jì)、模擬、測量、放樣、仿制、仿真、產(chǎn)品質(zhì)量控制、產(chǎn)品運(yùn)動(dòng)狀態(tài)，提供測量技術(shù)支撐。工業(yè)測量已廣泛應(yīng)用于各種生產(chǎn)行業(yè)，主要包括：航天航空、鋼鐵工業(yè)、汽車工業(yè)、機(jī)械制造、水利水電、鋼結(jié)構(gòu)、工程測繪等。工業(yè)測量的優(yōu)點(diǎn)主要包括：1、以精確測量儀器和完善的理論基礎(chǔ)為前提，充分滿足設(shè)備的精度要求；2、避免技術(shù)人員以經(jīng)驗(yàn)等主觀因素為設(shè)備運(yùn)行狀態(tài)判斷依據(jù)，而以科學(xué)測量數(shù)據(jù)為判斷依據(jù)，保證了測量的客觀性；3、改變了人工調(diào)整設(shè)備中“調(diào)整-試車-再調(diào)整”的重復(fù)程序，提高了測量調(diào)整的成功率，從而提高作業(yè)效率。

在使用全站儀對(duì)CSP廠、熱軋廠、冷軋廠等軋鋼生產(chǎn)線進(jìn)行測量時(shí)，要應(yīng)用于軋輥區(qū)域的輥系測量和圓孔測量，全站儀測量中最常用的數(shù)據(jù)采集方法是由人工使用雙手扶住反射球進(jìn)行測量，在圓孔測量、輥?zhàn)訕?biāo)高測量等非常規(guī)測量中主要存在以下問題：1、人工擺放反射球時(shí)，因同一個(gè)姿勢時(shí)間過長或者姿勢本身比較吃力，容易造成反射球的不穩(wěn)定，從而造成測量數(shù)據(jù)出現(xiàn)偏差；2、圓孔因直徑過小無法容納反射球球體而無法測量，圓孔內(nèi)表面過高遮擋住反射球視線而無法測量；3、輥面標(biāo)高測量時(shí)，因?yàn)檩伱鏋橥姑鏌o法保證反射球放置于輥面最高點(diǎn)而無法測量。

因此，需要一種測量輔助裝置來配合測量工具放置反射球，完成測量工作。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的就是要克服現(xiàn)有全站儀測量裝置無法測量爐區(qū)輥輥面標(biāo)高和圓孔測量的缺陷，提供一種適用于軋輥輥系和圓孔測量的全站儀反射球輔助測量工裝。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型所設(shè)計(jì)的適用于軋輥輥系和圓孔測量的全站儀反射球輔助測量工裝，包括錐桿底座組件和磁性底座組件，所述錐桿底座組件具有供反射球放置的內(nèi)凹球形底座，所述內(nèi)凹球形底座下端面與其同軸心固定有錐桿；所述磁性底座組件具有磁座本體，所述磁座本體上端面設(shè)置有沿橫向和豎向分別布置的水平儀，所述磁座本體的中心貫穿設(shè)置有供所述錐桿穿過的通孔，所述磁座本體的底部設(shè)置有與爐區(qū)輥軸面相配合的磁座缺口，所述磁座缺口與所述爐區(qū)輥軸面相配合的部分具有磁性；所述錐桿在工作狀態(tài)下穿過通孔與所述磁座本體上端面抵接配合，從而將所述錐桿底座組件和磁性底座組件組合為一體進(jìn)行輔助測量。

作為優(yōu)選方案，所述磁座本體側(cè)面設(shè)置有通過通電來控制磁座缺口磁性的開關(guān)旋鈕。這樣，可以通過開關(guān)旋鈕，將磁座本體吸附或脫開待測量輥面。

作為優(yōu)選方案，所述磁座缺口為三角形缺口。這樣，可以與待測量輥面更貼合。

作為優(yōu)選方案，所述三角形缺口的夾角為120～150°的鈍角。這樣，可以使所述磁座本體可以貼合放置在大部分的待測輥面上。

作為優(yōu)選方案，所述錐桿上段為圓柱形，其直徑為0.3～0.6mm，所述內(nèi)凹球形底座的工作面為直徑20mm的球體外表面。這樣，既可防止反射球滾出，又不遮擋視線。

作為優(yōu)選方案，所述水平儀設(shè)置在所述磁座本體上端面相鄰的兩條邊的邊部。這樣，可以便于所述磁座本體找平。

本實(shí)用新型的作用原理如下：

所設(shè)計(jì)的適用于軋輥輥系和圓孔測量的全站儀反射球輔助測量工裝在使用時(shí)，分為兩種測量情形：

一、圓孔測量：

將反射球放置于錐桿底座組件頂部的內(nèi)凹球形底座內(nèi)，使用錐桿緊貼待測量圓孔內(nèi)側(cè)旋轉(zhuǎn)一圈，采集六個(gè)測點(diǎn)，即可利用全站儀完成待測圓孔的測量工作。

二、輥面標(biāo)高測量：

先將磁性底座組件的磁座磁性開關(guān)旋鈕打開，使底部磁座缺口吸附貼合在待測量輥面表面，并通過磁座本體上平面的水平儀找平，再將錐桿底座組件底部的錐桿貫穿磁座本體的通孔，然后在錐桿底座組件頂部的內(nèi)凹球形底座放置反射球，利用全站儀進(jìn)行測量。同時(shí)，所設(shè)計(jì)的輔助測量工裝還可適用于平面的標(biāo)高測量。

本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于：結(jié)構(gòu)簡單，安裝方便，通過采用上述結(jié)構(gòu)的輔助工裝，實(shí)現(xiàn)了CSP廠、熱軋廠、冷軋廠等軋鋼生產(chǎn)線的軋輥區(qū)域的輥系測量和圓孔測量，由于全站儀的反射球可以非人工的接觸到檢測部件，避免人工長時(shí)間持有反射球時(shí)產(chǎn)生的抖動(dòng)，提高了全站儀測量的精度；通過水平儀可迅速利用輔助工裝進(jìn)行找平放置反射球找到輥系實(shí)際最高點(diǎn)，實(shí)現(xiàn)標(biāo)高的準(zhǔn)確測量，同時(shí)也可以用于平面的標(biāo)高測量。

附圖說明

圖1是一種適用于軋輥輥系和圓孔測量的全站儀反射球輔助測量工裝的組合狀態(tài)示意圖；

圖2是圖1的中錐桿底座組件的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是圖2的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是圖1的中磁性底座組件的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5是圖4的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6是圖1的中錐桿底座組件與反射球的組合狀態(tài)示意圖；

圖7是本實(shí)用新型進(jìn)行輥系測量時(shí)的使用狀態(tài)示意圖；

圖8是本實(shí)用新型進(jìn)行圓孔測量時(shí)的使用狀態(tài)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。

圖1～8中所示的適用于軋輥輥系和圓孔測量的全站儀反射球輔助測量工裝，包括錐桿底座組件和磁性底座組件，錐桿底座組件具有供反射球1放置的內(nèi)凹球形底座2，內(nèi)凹球形底座2下端面與其同軸心固定有錐桿3；磁性底座組件具有磁座本體4，磁座本體4上端面相鄰的兩條邊的邊部設(shè)置有沿橫向和豎向分別布置的水平儀5，磁座本體4的中心貫穿設(shè)置有供錐桿3穿過的通孔6，磁座本體4的底部設(shè)置有與爐區(qū)輥軸面相配合的磁座缺口7，磁座缺口7為三角形缺口，夾角為135度。磁座缺口7與爐區(qū)輥軸面相配合的部分具有磁性，并在磁座本體4側(cè)面設(shè)置有通過通電來控制磁座缺口7磁性的開關(guān)旋鈕8；錐桿3在工作狀態(tài)下穿過通孔6與磁座本體4上端面抵接配合，從而將錐桿底座組件和磁性底座組件組合為一體進(jìn)行輔助測量。錐桿3上段為圓柱形，其直徑為0.5mm，內(nèi)凹球形底座2的工作面為直徑20mm的球體外表面。

所設(shè)計(jì)的適用于軋輥輥系和圓孔測量的全站儀反射球輔助測量工裝在使用時(shí)，分為兩種測量情形：

一、圓孔測量：

將反射球放置于錐桿底座組件頂部的內(nèi)凹球形底座內(nèi)，使用錐桿緊貼待測量圓孔內(nèi)側(cè)旋轉(zhuǎn)一圈，采集六個(gè)測點(diǎn)，即可利用全站儀完成待測圓孔的測量工作(圖8為示意圖)。

二、輥面標(biāo)高測量：

先將磁性底座組件的磁座磁性開關(guān)旋鈕打開，使底部磁座缺口吸附貼合在待測量輥面表面，并通過磁座本體上平面的水平儀找平，再將錐桿底座組件底部的錐桿貫穿磁座本體的通孔，然后在錐桿底座組件頂部的內(nèi)凹球形底座放置反射球，利用全站儀進(jìn)行測量。(圖7為示意圖)同時(shí)，所設(shè)計(jì)的輔助測量工裝還可適用于平面的標(biāo)高測量。