本實用新型涉及一種液相反應(yīng)探測裝置，尤其是涉及一種氣流式礦漿濃度計裝置，主要應(yīng)用于液相反應(yīng)中。

背景技術(shù)：

工業(yè)化生產(chǎn)的液相反應(yīng)當中，為了提高反應(yīng)的效率通常需要在反應(yīng)過程中監(jiān)測溶液的各項參數(shù)，在各項參數(shù)當中，濃度的監(jiān)測比較復(fù)雜。特別是在礦漿的復(fù)選過程中，傳統(tǒng)的方法是采用放射性元素來檢測礦漿濃度，使用不安全，無法滿足人們對濃度監(jiān)測的要求?；诖耍斜匾_發(fā)出一種應(yīng)用于液相反應(yīng)當中的氣流式礦漿濃度計裝置。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本實用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述不足，而提供一種結(jié)構(gòu)設(shè)計合理，可以實現(xiàn)簡單、快速、安全地檢測液相反應(yīng)溶液濃度的氣流式礦漿濃度計裝置。

本實用新型解決上述問題所采用的技術(shù)方案是：該氣流式礦漿濃度計裝置包括探測裝置，其結(jié)構(gòu)特點在于：還包括殼體、保護殼和用于升降探測裝置的提升裝置，所述保護殼和殼體固定，所述提升裝置安裝在殼體內(nèi)，所述探測裝置和提升裝置連接，該探測裝置位于保護殼內(nèi)。

作為優(yōu)選，本實用新型所述氣流式礦漿濃度計裝置還包括支架法蘭，所述保護殼和殼體通過支架法蘭固定。

作為優(yōu)選，本實用新型所述殼體上設(shè)置有用于容納外接管道的外接管預(yù)留口。

作為優(yōu)選，本實用新型所述殼體的頂部設(shè)置有用于保護殼體頂部且避免外界干擾的蓋子，所述殼體的底部設(shè)置有殼體底座。

作為優(yōu)選，本實用新型所述殼體的內(nèi)部設(shè)置有用于固定和支撐提升裝置的提升機支架。

作為優(yōu)選，本實用新型所述探測裝置包括兩根測量氣管，兩根測量氣管均與提升裝置連接，兩根測量氣管的下端存在高度差。

作為優(yōu)選，本實用新型所述測量氣管的末端設(shè)置有出氣口，出氣口的口徑大于測量氣管的直徑。

作為優(yōu)選，本實用新型所述探測裝置還包括用于刮除附著在出氣口內(nèi)部污垢的刮除件，所述刮除件固定在保護殼內(nèi)。

作為優(yōu)選，本實用新型所述保護殼的壁面設(shè)置有若干個用于阻止溶液中的不容物和雜質(zhì)進入保護殼內(nèi)部以確保檢測穩(wěn)定性和保護探測裝置的進液口。

作為優(yōu)選，本實用新型所述提升裝置包括提升機和提升機底座，所述提升機和提升機底座連接。

本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點和效果：1.采取獨特的提升結(jié)構(gòu)，根據(jù)使用的需要調(diào)節(jié)探測裝置的高度，滿足各種使用需求；2.采用外殼保護，使得該濃度計裝置適用于多種生產(chǎn)場所，不易受外界環(huán)境的干擾，應(yīng)用廣泛；3.針對探測裝置設(shè)置相應(yīng)的保護殼，在有效保護探測裝置的同時也保證了檢測的準確性；4.可以采用氣流壓差法間接測量液相反應(yīng)中溶液的濃度，使用安全，操作方便。

本實用新型可以實現(xiàn)安全、快捷地自動化檢測溶液溶度，滿足生產(chǎn)中檢測的需要，同時在停產(chǎn)的情況下，可以實現(xiàn)自動化提升，保護設(shè)備本身的使用安全。殼體為中通結(jié)構(gòu)，罩住在提升機的外側(cè)，起到保護內(nèi)部提升機和測量氣管的作用，防止其受到外部環(huán)境中的干擾。殼體的頂部與蓋子配合使用，其內(nèi)部設(shè)置有提升機支架，殼體上設(shè)置有外接管預(yù)留口，殼體底部安裝有殼體底座。蓋子與殼體配合使用，用于保護殼體的頂部，避免外界干擾的作用。提升機支架設(shè)置在殼體的內(nèi)部上端，用于支撐放置在內(nèi)部的提升機。外接管預(yù)留口設(shè)置是在殼體的側(cè)面頂部的一個圓孔，用于容納外接管道。殼體底座安裝在殼體的底部，呈圓環(huán)狀，用于安裝連接殼體。

本實用新型中的探測裝置主要由測量氣管、出氣口和刮除件組成，在使用過程中，探測裝置需要深入至液面以下進行測量。測量氣管為長度不一的兩根，且在外部充測量氣管道的末端，連接有壓力測量裝置。在測量液相濃度時，這兩根測量氣管處于溶液中不同的高度位置，且這一高度差為確定值。在測量濃度的過程中，在這兩根管道中充入流量相同的氣體，由于所處液位高度不一樣，所以上述兩根測量氣管中存在的壓力不一樣，存在一個壓力差值，根據(jù)這一壓力差值可以計算出溶液的濃度。此外，上述壓力測量裝置可以和PLC控制器相連接，在檢測過程中，PLC根據(jù)預(yù)先輸入的出測量氣管高度差，當前海拔數(shù)據(jù)，結(jié)合接收到的兩管壓力差數(shù)據(jù)，計算出所測溶液的濃度，達到自動化測試溶液溶度的目的。

本實用新型的出氣口位于測量氣管的末端，與溶液接觸的地方，通常設(shè)置為寬口結(jié)構(gòu)，以增加氣液接觸面。刮除件位于與兩個出氣口相對應(yīng)的位置，且固定在保護殼內(nèi)表面，用于在測量氣管上下運動的過程中與出氣口內(nèi)壁摩擦，達到清理測量氣管末端以防止其堵塞的目的。保護殼用于罩在探測裝置的表面，呈中通結(jié)構(gòu)，既能保護探測裝置避免其受到溶液擾流和其中不溶物的影響，又為固定刮除件提供了支撐。保護殼包括保護殼法蘭、進液口和刮除件安裝處。

本實用新型中的保護殼法蘭位于保護殼的頂部，呈圓環(huán)狀結(jié)構(gòu)，保護殼法蘭上設(shè)置有螺桿和螺絲孔，用于與其他零件相連接。進液口為分布在保護殼表面的多個小孔作，這些小孔使得溶液可以進入保護殼內(nèi)部與探測裝置相接觸，保證了探測裝置所檢測到數(shù)據(jù)的準確性；同時，也將阻止溶液中的一些不容物和雜質(zhì)進入內(nèi)部與探測裝置接觸，確保檢測的穩(wěn)定性，保護內(nèi)部探測測量氣管不受損害。刮除件安裝處位于保護殼體內(nèi)部與測量氣管出氣口相對應(yīng)的位置，用于安裝固定刮除件。

本實用新型的提升裝置位于測量氣管的上端，用于提升和下降測量氣管，提升裝置包括提升機和提升機底座。在液相反應(yīng)停產(chǎn)或沒有氣體供應(yīng)時，為了防止溶液倒吸進入測量氣管或溶劑在測量氣管中凝固造成測量氣管堵塞的情況，有必要使用提升機將測量氣管提升至液面以上，以達到保護測量氣管的目的。另外，測量氣管內(nèi)部可以采用具有自清潔能力的材料制作而成，這樣能夠方便、有效的自動清理測量氣管內(nèi)部凝結(jié)的污垢；當然，測量氣管內(nèi)部也可以采用不具有自清潔能力的材料來制作，為了能夠方便、有效的清理測量氣管內(nèi)部凝結(jié)的污垢，可以設(shè)置刮除件，如果測量氣管內(nèi)部有凝結(jié)的污垢需要清理時，應(yīng)用提升機將測量氣管提升和下降使得刮除件刮擦出氣口的內(nèi)壁，以達到清理測量氣管末端的目的。提升機安裝在提升裝置內(nèi)部，為測量氣管的上下提拉提供動力。提升機底座位于提升裝置的底部，起到固定提升機的作用，另外，提升機底座的內(nèi)部與兩根測量氣管相對應(yīng)的位置各設(shè)置有一個小孔，用于穿過和連接測量氣管。

附圖說明

圖1是本實用新型實施例中氣流式礦漿濃度計裝置拆卸后的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是本實用新型實施例中氣流式礦漿濃度計裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：1、殼體；11、蓋子；12、外接管預(yù)留口；13、殼體底座；14、提升機支架；2、支架法蘭；3、保護殼；31、保護殼法蘭；33、進液口；4、提升裝置；41、提升機；42、提升機底座；5、探測裝置；51、測量氣管；52、出氣口。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖并通過實施例對本實用新型作進一步的詳細說明，以下實施例是對本實用新型的解釋而本實用新型并不局限于以下實施例。

實施例。

參見圖1至圖2，本實施例中的氣流式礦漿濃度計裝置包括殼體1、支架法蘭2、保護殼3、提升裝置4和探測裝置5。

本實施例中的提升裝置4用于升降探測裝置5，保護殼3和殼體1通過支架法蘭2固定，提升裝置4安裝在殼體1內(nèi)，探測裝置5和提升裝置4連接，該探測裝置5位于保護殼3內(nèi)。

本實施例中的殼體1上設(shè)置有用于容納外接管道的外接管預(yù)留口12，外接管預(yù)留口12位于殼體1的壁面頂部，且外接管預(yù)留口12為圓形結(jié)構(gòu)。殼體1的頂部設(shè)置有用于保護殼體1頂部且避免外界干擾的蓋子11，殼體1的底部設(shè)置有殼體底座13。殼體1的內(nèi)部設(shè)置有用于固定和支撐提升裝置4的提升機支架14。

本實施例中的探測裝置5包括兩根測量氣管51和出氣口52，兩根測量氣管51均與提升裝置4連接，兩根測量氣管51的下端存在高度差，即兩根測量氣管51的高度不一樣，但是使用時的氣流需要一致。測量氣管51的末端設(shè)置有出氣口52，出氣口52的口徑大于測量氣管51的直徑。

本實施例中的保護殼3的壁面設(shè)置有若干個用于阻止溶液中的不容物和雜質(zhì)進入保護殼3內(nèi)部以確保檢測穩(wěn)定性和保護探測裝置5的進液口33，在保護殼3的頂部設(shè)置有保護殼法蘭31。提升裝置4包括提升機41和提升機底座42，提升機41和提升機底座42連接。

本實施例中的氣流式礦漿濃度計裝置可以采用如下方法制作而成：選取兩根尺寸相同但長度不一的通用型輸氣管作為測量氣管51，兩根測量氣管51的底部高度差為h，在兩根測量氣管51的底部各連接一個口徑略大的管道作為出氣口52；選取一個通用型螺桿提升機41并將其固定在底板上，在其底部固定一個底座作為提升機底座42，并在提升機底座42上開設(shè)兩個小孔用于容納和連接測量氣管51；設(shè)計一個尺寸與提升裝置4相匹配的中通殼體1和與之相匹配的蓋子11，在殼體1的頂端與蓋子連接處開設(shè)一個小孔作為外接管預(yù)留口12，在殼體1的底部安裝一個圓環(huán)形底座作為殼體底座13，在該殼體1的內(nèi)部與提升裝置4的頂部相對應(yīng)的位置安裝一個提升機支架14；設(shè)計一個尺寸與測量氣管51相匹配的保護殼3，相應(yīng)地，在保護殼3的頂部安裝連接一個環(huán)形的保護殼法蘭31，并在其上設(shè)置若干螺桿裝置；在保護殼3上設(shè)置若干個小孔作為進液口33。根據(jù)殼體底座13和保護殼法蘭31的尺寸設(shè)計一個支架法蘭2，并在其上設(shè)置若干個螺桿和螺絲孔。將測量氣管51的上端穿過提升機底座42中的相應(yīng)孔道，穿過提升機裝置4；將殼體1罩在提升裝置4的外表面并完成相關(guān)連接安裝，將測量氣管51穿過外接管預(yù)留口12后蓋上蓋子11。在穿出之后的兩根測量氣管51的末端分別連接上壓力傳感器，用于分別測量氣管51內(nèi)的壓力，且這些壓力檢測裝置可以與PLC控制器相連接。再從探測裝置5的下端依次安裝上支架法蘭2和保護殼3，利用螺桿和螺絲分別將各個零部件固定連接，完成整個氣流式礦漿濃度計裝置的安裝。

使用時，可以在PLC控制器中設(shè)置有相應(yīng)的程序，并輸入當前的海拔高度和測量氣管51高度差h等數(shù)據(jù)輸入至PLC控制器。將上述氣流式礦漿濃度計裝置安裝到液相反應(yīng)釜裝置中，開啟探測裝置5，同時開啟兩根測量氣管51上的壓力測試裝置，當探測裝置5深入到液面以下之后，利用壓力檢測裝置測量到兩根測量氣管51末端的壓力分別為P1和P2，其壓力差為△P，PLC控制器接收到上述數(shù)據(jù)之后，根據(jù)預(yù)先輸入的程序自動計算出當前檢測溶液的濃度。結(jié)束反應(yīng)之后，開啟提升機41，將測量氣管51提升至液面上方，待下次需要測量的時候再將其下降至液面以下。測量氣管內(nèi)部可以使用具有自清潔能力的材料，能夠方便、有效的自動清理測量氣管內(nèi)部凝結(jié)的污垢。

當然，如果本實用新型中的測量氣管內(nèi)部所用的材料的自清潔能力較差或者不具備自清潔能力，則可以設(shè)置用于刮除附著在出氣口52內(nèi)部污垢的刮除件，采用刮除件來刮除附著在出氣口52內(nèi)部的污垢，刮除件可以固定在保護殼3內(nèi)，在保護殼3內(nèi)可以設(shè)置有刮除件安裝處，刮除件安裝在刮除件安裝處?？梢愿鶕?jù)出氣口52的尺寸設(shè)計兩個相應(yīng)的刮除件?？梢栽诒Ｗo殼3上對應(yīng)出氣口52正下方的位置設(shè)置兩處刮除件安裝處。使用時，結(jié)束反應(yīng)之后，開啟提升機41，經(jīng)過幾次提拉之后，刮除件多次與出氣口52內(nèi)壁刮擦以達到清理出氣口52內(nèi)部污垢的目的。

此外，需要說明的是，本說明書中所描述的具體實施例，其零、部件的形狀、所取名稱等可以不同，本說明書中所描述的以上內(nèi)容僅僅是對本實用新型結(jié)構(gòu)所作的舉例說明。凡依據(jù)本實用新型專利構(gòu)思所述的構(gòu)造、特征及原理所做的等效變化或者簡單變化，均包括于本實用新型專利的保護范圍內(nèi)。本實用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對所描述的具體實施例做各種各樣的修改或補充或采用類似的方式替代，只要不偏離本實用新型的結(jié)構(gòu)或者超越本權(quán)利要求書所定義的范圍，均應(yīng)屬于本實用新型的保護范圍。