相關(guān)申請的交叉引用

本申請要求于2015年1月13日遞交的14/595,926的美國專利申請的優(yōu)先權(quán)，該美國專利申請的全部內(nèi)容通過引用并入本文。

背景技術(shù)：

液體樣品的將期望的組分與可能存在于液體樣品中的其他組分隔離的處理在各種領(lǐng)域中是普遍存在的。例如，dna(基因)測序可能包含第一溶解細胞、期望的核苷酸和其他組分(例如細胞碎片)的復雜混合物以及溶解試劑，第一溶解細胞包含形成溶解產(chǎn)物的目標dna。在期望的核苷酸能夠被放大、檢測以及量化前，它們必須與這些其他的組分隔離。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

在示例實施例中，提供了用于樣品處理系統(tǒng)的滑動頭部的適配器。適配器包括板和磁體安裝凹口壁。板包括但不限于：頂面、底面、在頂面和底面之間延伸的前壁以及在頂面和底面之間延伸的后壁。磁體安裝凹口壁安裝到頂面。磁體安裝凹口壁配置為容納樣品處理系統(tǒng)的滑動頭部的磁體。底面的至少一部分沿著從前壁到后壁的第一方向彎曲并且相對于頂面是凹的。

在另一個示例實施例中，提供了樣品處理系統(tǒng)的滑動頭部，滑動頭部包括但不限于：殼體、磁體以及適配器。殼體包括但不限于基部。磁體安裝在殼體中以延伸穿過基部。適配器安裝到殼體的基部。適配器包括但不限于：板和磁體安裝凹口壁。板包括但不限于：頂面、底面、在頂面和底面之間延伸的前壁以及在頂面和底面之間延伸的后壁。磁體安裝凹口壁安裝到頂面。磁體安裝凹口壁配置為容納磁體。底面的至少一部分沿著從前壁到后壁的第一方向彎曲并且相對于頂面是凹的。

對于本領(lǐng)域技術(shù)人員，基于審閱附圖、詳細的描述以及所附權(quán)利要求書，本申請的其他主要的特征和優(yōu)點將變得明顯。

附圖說明

以下將參考附圖來描述本申請的示例性的實施例，在附圖中相似的附圖標記表示相似的元件。

圖1a描繪了根據(jù)示例性的實施例的樣品處理系統(tǒng)的透視圖。

圖1b描繪了圖1a的樣品處理系統(tǒng)的正視圖。

圖1c描繪了圖1a的樣品處理系統(tǒng)的右視圖。

圖1d描繪了圖1a的樣品處理系統(tǒng)的正面剖視圖。

圖2a至圖2d描繪了通過圖1a的樣品處理系統(tǒng)執(zhí)行隔離的方法。

圖3a描繪了圖1a的樣品處理系統(tǒng)的內(nèi)殼體的透視剖視圖。

圖3b描繪了圖3a的內(nèi)殼體的底部透視圖。

圖4a描繪了圖1a的樣品處理系統(tǒng)的適配器的頂部透視圖。

圖4b描繪了圖4a的適配器的底部透視圖。

圖4c描繪了圖4a的適配器的正視圖。

圖4d描繪了圖4a的適配器的右視圖。

圖4e描繪了圖4a的適配器的正面剖視圖。

圖5描繪了圖4a的適配器的一部分的放大視圖。

圖6描繪了圖4a的適配器的剖視圖。

圖7a描繪了圖1a的樣品處理系統(tǒng)的樣品板的透視圖。

圖7b描繪了圖7a的樣品板的正視圖。

圖7c描繪了圖7a的樣品板的右視圖。

圖7d描繪了圖7a的樣品板的俯視圖。

圖7e描繪了圖7a的樣品板的正面剖視圖。

圖8描繪了根據(jù)第二示例性的實施例的樣品處理系統(tǒng)的正視圖。

具體實施方式

參考圖1a至圖1d，樣品處理系統(tǒng)100的視圖根據(jù)示例性的實施例被示出。參考圖1a，示出了樣品處理系統(tǒng)100的透視圖。參考圖1b，示出了樣品處理系統(tǒng)100的正視圖。參考圖1c，示出了樣品處理系統(tǒng)100的右視圖。參考圖1d，沿截面a-a示出了樣品處理系統(tǒng)100的正面剖視圖。樣品處理系統(tǒng)100可包括額外的、較少的或者不同的組件。

樣品處理系統(tǒng)100可用于將目標分析物與液體樣品隔離，在液體樣品中目標分析物已被約束到固體基體(例如，順磁性的珠)。樣品處理系統(tǒng)100可包括任何通過將固體基體和被約束的目標分析物從液體樣品移動(例如，通過磁體)到形成在培養(yǎng)基的表面中的一個或者多個不同的液體包含區(qū)域(例如，液滴或者充液井)而隔離目標分析物的裝置。樣品處理系統(tǒng)100可用于處理任何類型的液體樣品(生物的樣品)以便使多種類型的目標分析物(例如，蛋白質(zhì)、核甘酸、細胞等等)與其他可能存在于液體樣品(例如，溶劑、血液、尿液、唾液、植物、細胞等等)中的組分隔離。同樣地，樣品處理系統(tǒng)100可作為用于dna或者蛋白質(zhì)提純、細胞分離等等的平臺使用。這樣的技術(shù)廣泛地使用于基礎(chǔ)實驗室研究、藥物開發(fā)、疾病診斷和監(jiān)控等等。

通過樣品處理系統(tǒng)100執(zhí)行隔離的示例性的方法在圖2a至圖2d中示意性地示出。如圖2a所示，第一井204，第二井208，和第三井212可安裝于培養(yǎng)基216的表面。這里所用的，術(shù)語“安裝”包括接合(join)、結(jié)合(unite)、連接(connect)、聯(lián)接(couple)、使聯(lián)合(associate)、插入(insert)、懸掛(hang)、保持(hold)、粘上(affix)、附連(attach)、緊固(fasten)、約束(bind)、粘貼(paste)、固定(secure)、栓牢(bolt)、用螺釘固定(screw)、鉚接(rivet)、焊合(rivet)、焊接(weld)、粘合(glue)、形成在……之上(formover)、形成在……中(formin)、分層堆疊(layer)、模制(mold)、停留在……上(reston)、靠在……之上(restagainst)、鄰接(abut)等等術(shù)語。短語“安裝在……上”、“安裝到”以及等效的短語指的是引用的元件的任何內(nèi)部或者外部。這些短語也包含直接的安裝(其中引用的元件直接接觸)和間接的安裝(其中引用的元件不直接接觸，但通過中間元件連接)。在此以安裝到彼此而引用的元件可進一步整體地形成在一起，例如，使用如本領(lǐng)域技術(shù)人員理解的模制或者熱成型工藝。因此，在此描述的安裝到彼此的元件無需是離散結(jié)構(gòu)的元件。除非有特定說明，元件可以被恒定地、可拆卸地或者可釋放地安裝。

液體樣品220可儲存在第一井204中。液體樣品220可包括多種組分，多種組分包括約束到多個微粒224上的目標分析物(例如細胞)。微粒224可為磁性的，順磁性的或者鐵磁性的。

在如圖2b中的描述的第一步驟中，安裝到適配器232的磁體230被定位在第一井204之上以便來自于磁體230的磁力將多個約束有目標分析物的微粒224吸引并且保持到適配器232的底面。方向術(shù)語的使用，例如頂部、底部、右、左、前面、后面等等僅僅意在幫助引用各種形成本文引用的裝置的組件的表面并且并不意在以任何方式進行限定。

在如圖2c中的描述的第二步驟中，具有磁體230的適配器232沿著通過軸線240示出的方向轉(zhuǎn)移直到磁體230被定位在第二井208之上。液體210可儲存在第二井208中。液體210可包括用于修改目標分析物的處理試劑(例如，著色劑)。當磁體230被定位在第二井208之上時，約束有目標分析物的多個微粒224可浸入在第二井208的液體210中。液體樣品220的未約束到多個微粒224的其他組分可余留在第一井204中。

在如圖2d中的描述的第三步驟中，具有磁體230的適配器232沿著軸線240進一步轉(zhuǎn)移直到磁體230被定位在第三井212之上。液體214可儲存在第三井212中。液體214可包括清洗溶劑。當磁體230定位在第三井212之上時，約束有目標分析物的多個微粒224可浸入在第三井212的液體214中。磁體230的釋放或者排斥的磁力的施加將約束有目標分析物的多個微粒224釋放，多個微粒224隨后分散在第三井212的液體214內(nèi)。多個微粒224的分散可通過定位在培養(yǎng)基216下方的第二磁體250而促成。為了進一步的分析，包括具有現(xiàn)在已處理并隔離的目標分析物(例如，著色的細胞)的多個微粒224的液體214可以被移走。

回來參考圖1a至圖1d，樣品處理系統(tǒng)100可包括基部102、滑動頭部104以及樣品板106。樣品處理系統(tǒng)100可以是自動化的系統(tǒng)或者如本領(lǐng)域技術(shù)人員理解地通過使用使用者的手而手動地使用。適配器232可安裝到滑動頭部104而不接觸適配器232以避免污染，即使在使用者穿戴手套時污染可能發(fā)生?；?02可包括基板108、前壁110、右側(cè)壁112、左側(cè)壁114以及后壁116。基板108包括頂面117?；?08可包括從頂面117沿著基板108的右邊緣123延伸的第一軌道118和從頂面117沿著基板108的左邊緣122延伸的第二軌道120?；?02可包括在右側(cè)壁112與第一軌道118之間的第一細長通道126和在左側(cè)壁114與第二軌道120之間的第二細長通道128?；?02可包括形成在頂面117中的凹口(未顯示)，凹口配置為將樣品板106接納并支撐在固定位置。

基板108、它的壁110、112、114、116以及它的軌道118、120可以以單件形成?；?02提供用于滑動頭部104和樣品板106的支撐結(jié)構(gòu)。當樣品板106在基部102上固定就位時，滑動頭部104可在樣品板106上沿著縱向軸線130通過軌道118、120和細長通道126、128向后以及向前滑動。

滑動頭部104可包括外殼體132、內(nèi)殼體134、蓋136以及適配器138。適配器138是圖2a至圖2d的適配器232的示例性的實施例。外殼體132可安裝到基部102。外殼體132可包括前壁140、右側(cè)壁142、左側(cè)壁144以及后壁(未顯示)，前壁140、右側(cè)壁142、左側(cè)壁144以及后壁限定出配置為接納并且圍繞內(nèi)殼體134的內(nèi)部。外殼體132可包括從右側(cè)壁142延伸的右腿146以及從左側(cè)壁144延伸的左腿148。右腿146的端部可配置為與基部102的第一軌道118和第一細長通道126接合。左腿148的端部可配置為與第二軌道120和第二細長通道128接合。如此，滑動頭部104可沿著縱向軸線130的方向在基部102上向后以及向前滑動。外殼體132的壁140、142、144(以及后壁)以及腿146、148可以以單件形成。

內(nèi)殼體134可安裝在外殼體132的內(nèi)部內(nèi)。內(nèi)殼體134可包括底板300(參考圖3a示出)、前壁150、右側(cè)壁152、左側(cè)壁154以及后壁156，底板300、前壁150、右側(cè)壁152、左側(cè)壁154以及后壁156限定內(nèi)部空間。底板300和它的壁150、152、154、156可以以單件形成。

內(nèi)殼體134可包括多個形成在內(nèi)部空間內(nèi)的通道158a、158b和160。通道158a和158b可配置為分別接納第一剛性構(gòu)件162a和第二剛性構(gòu)件162b，并且使得第一剛性構(gòu)件162a和第二剛性構(gòu)件162b對齊為近似地垂直于基部102的可由基板108的頂面117限定的平面。第一剛性構(gòu)件162a和第二剛性構(gòu)件162b可安裝到彈簧逐出系統(tǒng)164，彈簧逐出系統(tǒng)164安裝到內(nèi)殼體134、外殼體132以及蓋136。彈簧逐出系統(tǒng)164可配置為當使用者在蓋136上向下推動時允許第一剛性構(gòu)件162a和第二剛性構(gòu)件162b分別在通道158a和158b內(nèi)向下移動。在自動化的系統(tǒng)中，逐出系統(tǒng)可根據(jù)電子控制自動地移動。當?shù)谝粍傂詷?gòu)件162a和第二剛性構(gòu)件162b與適配器138的凹口414a和414g(參考圖4示出)接觸時，施加在適配器138上的力將適配器138從內(nèi)殼體134分離?？墒褂枚喾N剛性構(gòu)件，例如，桿、棒、銷等等。

內(nèi)殼體134的通道160中的每一個通道可配置為接納多個磁體166a-d中的一個磁體并且使得多個磁體166a-d對齊為近似地垂直于樣品板106。多個磁體166a-d可安裝到棒168，棒168安裝在內(nèi)殼體134內(nèi)。多個磁體166a-d可依照線性陣列安裝。多個磁體166a-d可安裝為使得當在樣品板106上轉(zhuǎn)移時它們的中心近似地在樣品板106的壁712a-d的中心上穿過。在手動的系統(tǒng)中，多個磁體166a-d可自由浮動。在自動化的系統(tǒng)中，多個磁體166a-d可根據(jù)電子控制自動地移動。.

參考圖3a，內(nèi)殼體134的透視剖視圖被沿圖1a的截面a-a示出。參考圖3b，示出了內(nèi)殼體134的底部透視圖(即，其中內(nèi)殼體134已圍繞軸線b旋轉(zhuǎn)180°)。內(nèi)殼體134的底板300具有頂面304和底面306。底板300可包括多個形成在底板300中的凹口308a-h。多個凹口308a-h中的每個凹口具有側(cè)壁和內(nèi)表面，該側(cè)壁從底面306朝向頂面304延伸。為了進行說明，凹口308e的側(cè)壁310e和內(nèi)表面312e被標注。多個凹口308a-h中的一些凹口可包括穿過底板300形成的孔以允許第一剛性構(gòu)件162a或第二剛性構(gòu)件162b的端部或者多個磁體166中的一個的端部穿過凹口的內(nèi)表面進入內(nèi)殼體134的內(nèi)部中。為了進行說明，凹口308a的孔314a被標注?？?14a可成形并且確定尺寸為允許第一剛性構(gòu)件162a的端部穿過內(nèi)表面并進入內(nèi)殼體134的內(nèi)部中。凹口308g可類似地配置為允許第二剛性構(gòu)件162b的端部穿過內(nèi)表面并進入內(nèi)殼體134的內(nèi)部中。凹口308b的孔314b被標注?？?14b可成形并且確定尺寸為允許多個磁體166中的一個磁體的端部穿過內(nèi)表面。凹口308d、308f和308h可配置為類似于凹口308b。凹口308c和308e可以為既不接納磁體也不接納剛性構(gòu)件的空的凹口。

適配器138可安裝到內(nèi)殼體134的底板300。底板300的多個凹口308a-h中的一個或者多個可包括形成在側(cè)壁中的凹槽，凹槽配置為接納在適配器138的凸起(例如，參考圖5示出的500a-d)上的耳片(例如，參考圖5示出的506a-d)以將適配器138安裝到底板300。為了進行說明，形成在凹口308a的側(cè)壁310a中的凹槽316a被標注。凹口308c、308f和308h可類似地配置。

繼續(xù)參考圖1a至圖1d，滑動頭部104的蓋136可包括頂板170、前壁172、右側(cè)壁174、左側(cè)壁176以及后壁178。頂板170和壁172、174、176、178限定配置為接納并圍繞彈簧逐出系統(tǒng)164、內(nèi)殼體134和外殼體132的內(nèi)部。頂板170和它的壁172、174、176、178可以以單件形成。

參考圖4a至圖4d、圖5和圖6，示出了適配器138的視圖。參考圖4a，示出了適配器138的頂部透視圖。參考圖4b，示出了適配器138的底部透視圖(即，其中適配器138已圍繞軸線c旋轉(zhuǎn)180°)。參考圖4c，示出了適配器138的正視圖。參考圖4d，示出了適配器138的右視圖。參考圖4e，適配器138的正面剖視圖被沿截面c-c示出。參考圖5，示出了圖4a的部分d的放大視圖。參考圖6，圖4b的剖視圖被沿包含xy軸線401的平面示出。在圖6中，適配器138已從圖4b中所示的方位旋轉(zhuǎn)180°。

適配器138配置為提供安裝到樣品處理系統(tǒng)100的滑動頭部104的多個磁體166與樣品板106的井中的液體之間的接合。適配器138可包括適配器板400，配器板400包括頂面410、底面412、前壁402、右側(cè)壁404、左側(cè)壁406和后壁408。壁402、404、406、408在適配器板400的頂面410和底面412之間延伸。適配器板400的頂面410可形成適配器138的安裝表面的一部分，該安裝表面配置為安裝到多個磁體166a-d和內(nèi)殼體134的底板300。適配器板400的底面412可形成適配器138的收集表面的一部分，該收集表面配置為從包含在樣品板106中的液體中收集多個磁性微粒(例如，順磁性的珠)并在適配器138在樣品板106上轉(zhuǎn)移時保持多個磁性微粒。

適配器138可配置為安裝到滑動頭部104的多個磁體166。各種安裝結(jié)構(gòu)可被使用。如示例性的實施例所示的，適配器板400可包括多個從適配器板400的頂面410朝向底面412延伸的凹口414a-h。多個凹口414a-h中的每個凹口可對應于內(nèi)殼體134的底板300的多個凹口308a-h中的相應的凹口。多個凹口414a-h中的每個凹口具有限定出開口的側(cè)壁416a-h和底面418a-h。

每個凹口414a-h的各自的開口的尺寸可以變化。每個凹口414a-h的開口可確定尺寸并且成形為容納第一剛性構(gòu)件162a或第二剛性構(gòu)件162b的端部或者多個磁體166a-d中的一個的端部。在示例性的實施例中，當適配器138安裝到滑動頭部104的內(nèi)殼體134時，磁體166a的端部依靠在凹口414b的底面418b上。(也參見圖1d。)磁體166b的端部依靠在凹口414d的底面418d上。磁體166c的端部依靠在凹口414f的底面418f上。磁體166d的端部依靠在凹口414h的底面418h上。這樣，凹口414b、414d、414f和414h配置為磁體安裝凹口。類似地，當?shù)谝粍傂詷?gòu)件162a和第二剛性構(gòu)件162b向下移動時，第一剛性構(gòu)件162a的端部接觸凹口414a的底面418a，并且第二剛性構(gòu)件162b的端部接觸凹口414g的底面418g。這樣，凹口414a和414g配置為剛性構(gòu)件接納凹口。凹口414c和414e可以為既不安裝也不接納磁體或者剛性構(gòu)件的空的凹口。

每個凹口414a-h的各自的開口的尺寸也可取決于樣品板106的井的尺寸。橫跨每個凹口414a-h的各自的開口的相對的側(cè)面的距離可大約與橫跨樣品板106的井的相對的側(cè)面的距離相同。橫跨每個凹口414a-h的各自的開口的相對的側(cè)面的距離可被稱為每個凹口414a-h的寬度或者直徑。

類似地，每個凹口414a-h的各自的開口的形狀可以變化。在示例性的實施例中，每個凹口414a-h的各自的開口具有圓柱形形狀。然而，可以使用其他形狀，例如立方體。取決于在樣品處理系統(tǒng)100中的磁體的數(shù)量以及到內(nèi)殼體134的底板300的適配器138的安裝點的數(shù)量，適配器138可包括各種數(shù)量的凹口。

適配器138可配置為安裝到滑動頭部104的內(nèi)殼體134的底板300。多種安裝結(jié)構(gòu)可被使用。如示例性的實施例所示的，適配器板400可配置為卡扣緊固于內(nèi)殼體134的底板300。參考圖5，示出了圖4a的凹口414a的放大視圖。側(cè)壁416a在適配器138的頂面410上方延伸。槽口可形成在側(cè)壁416a中以形成多個配置為配合到內(nèi)殼體134的底板300的凹口308a中的凸起500a-d。每個凸起500a-d具有外表面502a-d(外表面502b未示出)和頂端504a-d。每個凸起500a-d可具有安裝為從靠近每個各自的頂端504a-d的每個各自的外表面502a-d向外延伸的耳片506a-d(耳片506b未示出)。耳片506a-d可配置為配合到內(nèi)殼體134的底板300的相應的凹口308a的凹槽316a中。如圖4所示，適配器板400的凹口414c、414f和414h可配置為類似于凹口414a。這樣，凹口414c、414f和414h配置為卡扣緊固于內(nèi)殼體134的底板300的相應的凹口308a、308c、308f和308h。如示例性的實施例所示的，耳片506a-d僅跨越每個各自的凸起500a-d的一部分。然而，在其他實施例中，耳片可橫跨每個各自的凸起500a-d完全地延伸。槽口的寬度，即，凸起之間的距離，可選定為提供選定的剛度。

在圖4和圖5中示出的卡扣緊固結(jié)構(gòu)允許適配器138被快速且簡單地附連到滑動頭部104以及從滑動頭部104分離。此外，卡扣緊固結(jié)構(gòu)確保適配器138安裝得相對于樣品板106近似地水平并在適配器138在樣品板106上轉(zhuǎn)移時保持近似的水平。

適配器138可配置為在適配器138在樣品板106上轉(zhuǎn)移時部分地凸出到包含在樣品板106的井中的液體中以促進磁性微粒的收集。一旦磁性微粒被約束到適配器138，這樣的凸起也促進磁性微粒浸入到包含在樣品板106的其他井中的液體中。各種結(jié)構(gòu)可以使用。在示例性的實施例中，適配器板400可包括多個脊420a-d，每個脊420a-d從適配器板400的底面412遠離頂面410并且朝向在下面的樣品板106的延伸。(也參見圖1d)。適配器板400可不包括多個脊420a-d中的任何一個。每個脊420a-d可對齊為近似地平行于彼此并且平行于限定適配器138的轉(zhuǎn)移方向的轉(zhuǎn)移軸線422。每個脊420a-d可以近似地居中在適配器板400的相應的磁體安裝凹口414b、414d、414f和414h下方。這樣，當適配器138安裝到多個磁體166a-d時，每個脊420a-d近似地居中在相應的磁體166a-d下方。取決于樣品處理系統(tǒng)100中的磁體的數(shù)量，適配器138可包括多種數(shù)量的脊。

在示例性的實施例中，適配器板400可包括多個在每個脊420a-d之間延伸的彎曲表面452a-d。在圖4b的示例性的實施例中，彎曲表面452a-d在右側(cè)壁404和左側(cè)壁406之間連續(xù)地延伸底面412的整個長度以便多個脊420a-d從包括底面412的彎曲表面452a-d延伸。在替代性的實施例中，彎曲表面452a-d可在右側(cè)壁404和左側(cè)壁406之間沿著底面412的長度的僅僅一部分延伸，并且彎曲表面452a-d可以在右側(cè)壁404和左側(cè)壁406之間是不連續(xù)的。在替代性的實施例中，彎曲表面452a-d可不被包括。在替代性的實施例中，彎曲表面452a-d或者脊420a-d的底面424a-d可以在適配器板400的前壁402到后壁408之間不是彎曲連續(xù)的。相反，彎曲表面452a-d的或者脊420a-d的底面424a-d的前緣和后緣可以沿著從適配器板400的前壁402到后壁408的方向彎曲。多個微粒224可附連到彎曲表面452a-d的是彎曲的部分或者脊420a-d的底面424a-d的是彎曲的部分。

脊420a-d可采取多種形狀。如示例性的實施例所示的，脊420a-d各自具有底面424a-d、前壁426a-d、右側(cè)壁428a-d、左側(cè)壁430a-d以及后壁432a-d，上述壁在底面424a-d和適配器板400的底面412之間延伸。

脊420a-d的底面424a-d可以沿著一個或者多個方向彎曲。如示例性的實施例所示的，每個底面424a-d可沿著平行于轉(zhuǎn)移軸線422的方向彎曲。多個彎曲表面452a-d以與每個底面424a-d相同的方式彎曲。參考圖4b，軸線x限定脊420b的底面424b的彎曲的方向，并且軸線y垂直于軸線x且是通過適配器板400限定的平面的由內(nèi)向外的方向。

參考圖6，示出了適配器138的沿著包含軸線x和y的平面的剖視圖。所述剖視圖被旋轉(zhuǎn)180°以對應于適配器138在安裝到滑動頭部104時的方位(如圖1d所示)。脊420b的底面424b形成具有半徑602的圓600的圓弧。曲率半徑是最佳配合正截面的圓的半徑。脊420b的底面424b是圓600的由角度604形成的圓周并且具有等于半徑602的曲率半徑。曲率半徑可選定為最大化磁性微粒的回收的同時最小化在樣品板106的井之間的液體的攜帶(以避免井中的液體的污染)。在一些實施例中，曲率半徑在大約0.4英寸到大約0.7英寸的范圍內(nèi)。形成底面424b的圓600的中心606沿著內(nèi)殼體134的內(nèi)部的方向位于底面424b上方。因此，相對于內(nèi)殼體134，底面424b的彎曲是凹的。相對于樣品板106(適配器138可安裝在樣品板106之上)，底面424b的彎曲是凸的。相對于內(nèi)殼體134(適配器138可安裝到內(nèi)殼體134)，底面424b的彎曲是凹的。脊420a、420c和420d的底面424a、424c和424d可配置為類似于脊420b的底面424b。參考圖4b和圖4d，雖然適配器板400的底面412也可具有其他的形狀(例如平的)，適配器板400的底面412也可以是彎曲的。如示例性的實施例所示的，底面412的彎曲的方向(由前面到后面)、曲率半徑以及彎曲的類型(即，凸的或者凹的)可近似地與脊420a-d的底面424a-d的彎曲的方向、曲率半徑以及彎曲的類型相同。作為一個示例，曲率半徑可小于-800微米。

脊420a-d可具有多種尺寸。尺寸可選定為最大化磁性微粒的回收和保留的同時最小化在樣品板106的井中的液體的干擾(以避免液體泄露或者帶走到樣品板106的井外部)。尺寸也可取決于樣品板106的井的尺寸。在脊420a-d的各自的右側(cè)壁428a-d和左側(cè)壁430a-d之間的尺寸可被稱為每個脊420a-d的寬度。每個脊420a-d的寬度可小于橫跨樣品板106中的井(例如，參考圖7的井712a-d)的相對的側(cè)面的距離。(也參見圖1d。)脊420a-d的各自的前壁426a-d和后壁432a和423d之間的尺寸可被稱為每個脊420a-d的長度。每個脊420a-d可足夠地長以從適配器板400的前壁402到后壁408橫跨適配器板400的底面412延伸。適配器板400的底面412和脊420a-d的各自的底面424a-d之間的尺寸可被稱為每個脊420a-d的高度。當適配器138安裝到滑動頭部104時，每個脊420a-d的高度可足以凸出進入到包含在樣品板106中的液體中的選定的距離。

參考圖6，厚度608(磁體安裝凹口414d的底面418d和脊420b的底面424b之間的尺寸)可選定為減少安裝在磁體安裝凹口414d中的磁體166b和可能基于磁體166b的磁力接觸脊420b的底面424b的液體之間的距離。這促進磁性微粒從包含在樣品板106的井中的液體回收和保留。參考圖4e，針對相互的磁體安裝凹口414b、414f和414h以及它相應的脊420a、420c和420d，厚度t可類似地選定。

參考圖4a和圖4b，適配器138可包括從適配器板400的前壁402延伸的第一軌道434和從配器板400的后壁408延伸的第二軌道436。第一軌道434和第二軌道436使適配器138能夠掃過在樣品板106的表面上方的液體的彎液面并防止液體從井到井的攜帶。

適配器138的組件可以以單件模制。適配器138的組件可由多種具有足夠的強度和生物相容性的材料(例如，塑料)形成。材料的類型可選定為具有足夠的剛度以保證適配器138一致性且可重現(xiàn)地定位在樣品板106上方。材料的類型可選定為具有選定的疏水性和低的生物分子的吸附性能。替代性地，選定的材料可覆蓋有具有選定的疏水性的材料。適配器138的表面(例如，底面412、脊420a-d等等)可制造得足夠光滑(例如a3+表面粗糙度)以最大化磁性微粒的回收的同時最小化在樣品板106的井之間的液體的攜帶(以避免井中的液體的污染)。

參考圖7a至圖7e，示出了樣品板106的視圖。參考圖7a，示出了樣品板106的透視圖。參考圖7b，示出了樣品板106的正視圖。參考圖7c，示出了樣品板106的右視圖。參考圖7d，示出了樣品板106的俯視圖。參考圖7e，樣品板106的正面剖視圖被沿截面e-e示出。

樣品板106配置為保持多個液體樣品(例如，包括目標分析物的液體混合物，目標分析物約束磁性微粒)以及其他液體混合物(例如，包括處理試劑、緩沖劑、清洗溶劑等等的液體混合物)。樣品板106可包括基板700、前壁702、右側(cè)壁704、左側(cè)壁706以及后壁708?；?00包括頂面710?；?00可包括形成在頂面710中的多個井，所述多個井包括井712a-d。多個井可以以網(wǎng)格形式布置在頂面710中，網(wǎng)格形式包括井的排(為了進行說明，排標注a-d)和井的列(為了進行說明，列標注1-6)。取決于待被處理的液體樣品的數(shù)量以及帶通過樣品處理系統(tǒng)100執(zhí)行的處理步驟的數(shù)量，樣品板106可包括多種數(shù)量的井。

每個井712a-d配置為保持液體。每個井712a-d具有側(cè)壁714a-d和底面716a-d，側(cè)壁714a-d和底面716a-d限定每個井712a-d的內(nèi)部。側(cè)壁714a-d可在基板700的頂面710的平面下方和上方延伸。如圖7b、圖7c中例示的，這允許包含在每個井712a-d中的液體的彎液面711凸出在基板700的頂面710上方。側(cè)壁714a-d在頂面710上方延伸的量可選定為提供彎液面711在頂面710上方的選定的高度。在一些實施例中，側(cè)壁714a-d在頂面上方延伸至少大約0.01英寸、至少大約0.2英寸、至少大約0.04英寸等等。側(cè)壁714a-d各自具有上邊緣715a-d。上邊緣715a-d可制造得足夠鋒利以促進彎液面711的形成。例如，上邊緣715a-d可以成介于45度到125度之間的角度。

每個井712a-d的內(nèi)部也可另外地確定尺寸并且成形為容納選定的體積的液體(例如，1ml，0.5ml，0.25ml，0.1ml等等)。每個井712a-d可采取多種如由側(cè)壁714a-d限定的形狀，例如，圓形的，橢圓形的，諸如正方矩形、三角形的多邊形的等等。樣品板106的多個井中的每個井可配置為類似于井712a-d。然而，樣品板106的多個井中的井的形狀和尺寸可彼此不同。以這樣的方式，樣品板106可容納液體的不同體積。在示例性的實施例中，在列1中的井712a-d各自具有橢圓形形狀并且確定尺寸為容納大約0.5ml的體積。井設(shè)計為壓住液體的彎液面(到井的上邊緣)。在列2中的井也具有橢圓形形狀，但確定尺寸為容納大約0.25ml的較小的體積。在列3、4和5中的剩下的井各自具有圓形形狀并且確定尺寸為容納大約0.10ml的更小的體積。

樣品板106可配置為減少包含在多個井的井中的液體的交叉污染?；?00可包括形成在頂面710中的多個儲液器，所述多個儲液器包括儲液器718a-d，每個儲液器圍繞多個井中的相應的井。每個儲液器718a-d配置為捕獲從相應的井712a-d泄露或者帶走的液體。這樣的泄露或者帶走可能發(fā)生在樣品板106被搖動時或者在適配器138的多個脊420a-d轉(zhuǎn)移穿過包含在井712a-d中的液體時，從而干擾包含在其中的液體。每個儲液器718a-d具有側(cè)壁720a-d和底面722a-d。每個儲液器718a-d共享它圍繞的相應的井712a-d中的一個的各自的側(cè)壁714a-d。側(cè)壁720a-d和714a-d以及底面722a-d限定出內(nèi)部。每個儲液器718a-d的內(nèi)部可確定尺寸為容納泄露或者帶走的選定的體積的液體。每個儲液器718a-d可采取多種如由側(cè)壁720a-d和714a-d確定的形狀。多個儲液器中的每個儲液器可配置為類似于儲液器718a-d。然而，樣品板106的多個儲液器中的儲液器的形狀可彼此不同。在示例性的實施例中，在列1中的儲液器718a-d各自具有橢圓形形狀。在列2中的儲液器各自具有橢圓形形狀。在列3、4和5中的剩下的儲液器各自具有圓形形狀。

樣品板106可包括在基板700的右角726a處形成在頂面710中的第一斜坡724a以及在基板700的左角726b處形成在頂面710中的第二斜坡724b。第一斜坡724a和第二斜坡724b各自分別具有頂面728a，728b。第一斜坡724a的斜率可通過在由基板700的頂面710限定的平面與由第一斜坡724a的頂面728a限定的平面之間的角730來表征。角730可選定為促進滑動頭部104在樣品板106之上的初始定位。第二斜坡724b可類似地配置。

樣品板106的組件可以以單件模制。樣品板106的組件可由多種具有足夠的強度、剛度和生物相容性的材料(例如，塑料)形成。材料的類型可選定為具有選定的疏水性。替代性地，選定的材料可覆蓋有具有選定的疏水性的材料。疏水性材料/涂層的使用可促進彎液面711的形成。樣品板106的多個井的表面可制造得足夠光滑(例如a3+表面粗糙度)以利于液體插入井并且從井移除。井的底部可以彎曲以防止多個微粒224陷入在角落中。

如圖1d顯示，每個脊420a-d可以近似地居中在適配器板400的相應的磁體安裝凹口414b、414d、414f和414h下方并且在樣品板106上方轉(zhuǎn)移時近似地在樣品板106的井712a-d的中心之上。在如圖8所示的替代性的實施例中，適配器138可旋轉(zhuǎn)180度以便多個彎曲的表面452a-d中的每一個近似地居中在相應的磁體166a-d下方并且在樣品板106上方轉(zhuǎn)移時近似地居中在樣品板106的井712a-d的中心上方。每個脊420a-d的高度可選定為在多個彎曲的表面452a-d與樣品的彎液面之間提供接觸。

詞“示例性的”在此使用以意味著用作示例、實例或者說明。在此以“示例性的”描述的任何方面或者設(shè)計無需解釋為基于其他方面或者設(shè)計的優(yōu)選的或者有利的。進一步地，為了本申請的目的并且除非另有說明，“一(a)”或“一個(an)”意味著“一個或者多個”。更進一步地，除非另有特別說明，“和”或者“或”的使用意在包括“和/或”。

本申請的示例性的實施例的前面的描述是為了說明和描述的目的而提出。它并不打算是詳盡的或者將本申請限定為嚴格形式的公開，并且根據(jù)以上啟示，修改和變型是可能的或者可從本申請的實踐獲得。為了解釋本申請的原理并依照本申請的實際應用，實施例被選擇并描述以使得本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠以多種實施例利用本申請并使用多種適于設(shè)想的特定的使用的修改。本申請的范圍由本文所附的權(quán)利要求書和它的同等物限定。