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      投線儀的制作方法

      文檔序號:12797855閱讀:2576來源:國知局
      投線儀的制作方法與工藝

      本發(fā)明涉及一種投線儀,具體涉及一種激光投線儀。



      背景技術:

      投線儀是一種投射可見激光的儀器。一般用于在目標面上標注水平或鉛垂線。

      為了滿足標注水平或鉛垂線的需求,現(xiàn)有的投線儀大多能投射水平線和鉛垂點。但是同時具備投射水平線和鉛垂點的投線儀大多結構復雜,且水平線和鉛垂點通常相互獨立出射,影響用戶體驗。



      技術實現(xiàn)要素:

      針對現(xiàn)有技術的缺陷,本發(fā)明提供一種既能投射水平線又能同時投射上下鉛垂點的投線儀。

      一種投線儀,包括:支撐組件,包括一底座以及用于調節(jié)底座位置的調節(jié)組件;第一光源組件,用于出射一覆蓋預設角度范圍的激光面;自平衡組件,用于使第一光源組件出射的激光面始終垂直于水平面;投線儀還包括:第二光源組件,用于出射一鉛垂激光線;第一光源組件和第二光源組件安裝至自平衡組件,第一光源組件出射的激光面投射至目標空間形成激光線,第二光源組件出射的鉛垂激光線與激光線相交形成上下兩個鉛垂點。

      進一步,第一光源組件包括:第一激光源,用于產生以第一方向出射的第一激光束;第一模組,用于容納激光源;第一光學元件,用于擴展第一激光束的出射角度范圍;第一光學元件設置在第一模組的遠離第一激光源的第一端面。

      進一步,第一光源組件包括:第一激光源,用于產生以第一方向出射的第一激光束;第一模組,用于容納激光源;第一光學元件,用于擴展第一激光束的出射角度范圍;第一模組設有一通孔,通孔能使第二光源組件出射的鉛垂激光線穿過;第一光學元件設置在第一模組的遠離第一激光源的第一端面。

      進一步,第二光源組件包括:第二激光源,用于產生以第二方向出射的第二激光束;第二模組,用于容納第二激光源;第二光學元件,用于轉換第二激光束以使第二光源組件出射鉛垂激光線;第二光學組件設置在第二模組的遠離第二激光源的第二端面。

      進一步,第一端面在平行于第一方向的方向上超出第二端面預設距離。

      進一步,第一光學元件為柱面鏡或錐面鏡。

      進一步,第二光源組件包括:第二光學元件,位于第一激光源和第一光學元件之間;第一激光源出射的第一激光束經第二光學元件反射以使第二光源組件出射鉛垂激光線。

      進一步,第二光學元件在第一激光束的出射方向上設有一內孔以使第一激光束通過。

      進一步,第一光源組件的安裝方向平行于第二光學組件的安裝方向。

      進一步,第一光源組件的安裝方向垂直于第二光學組件的安裝方向。

      本發(fā)明的投線儀在不增加其它額外組件的前提下,同時出射預設角度范圍的激光面和上下鉛垂點,并使得該上下鉛垂點位于該激光面與目標空間相交形成的直線上,方便用戶的對準;在滿足投線儀結構緊湊的同時提升了用戶的使用體驗。

      附圖說明

      圖1是一個實施例的投線儀的整體結構圖;

      圖2是圖1的投線儀去掉一半殼體的內部結構圖;

      圖3是圖1的投線儀的部分內部結構圖;

      圖4是圖1的投線儀出射的激光面和激光線在目標空間所形成的光線圖;

      圖5是又一實施例的投線儀的結構示意圖;

      圖6是又一實施例的投線儀的結構圖;

      圖7是圖6的投線儀的去掉一半殼體的內部結構圖;

      圖8是圖6的投線儀的部分內部結構圖。

      具體實施方式

      參考圖1至圖3所示的投線儀100,包括殼體10、支撐組件60和位于殼體10內的第一光源組件20、自平衡組件30、第二光源組件40、電池40和電路板。殼體10上設有用于供光線射出的窗口11。

      參考圖2所示,電池40用于提供電能,電路板與電池40電性連接,電路板將電池40所提供的電能轉換以為第一光源組件20和第二光源組件40供電。

      第一光源組件20能夠出射覆蓋預設角度范圍的激光面,也就是說該激光面呈現(xiàn)一個角度的形狀,這樣,當該激光面投射到目標空間上時,能在該目標空間的平面上形成一條直線。作為實施方式的一種,第一光源組件20包括:第一激光源21、第一模組22和第一光學元件23。其中,第一激光源21用于以第一方向101出射第一激光束。第一模組22用于容納第一激光源21,第一激光源21位于第一模組22內部靠近自平衡組件30的一端。在第一模組22的遠離第一激光源21的第一端面221上設置第一光學元件23,具體的,第一光學元件為柱面鏡。第一光學元件23能夠擴展第一激光源21產生的激光束的出射角度范圍,從而使被擴展的激光束在垂直于水平的方向上形成能夠覆蓋預設角度范圍的激光面。具體的,該預設角度范圍大于等于180度。

      支撐組件60包括:底座61和調節(jié)組件62。底座61固定在殼體10的底面上,用于支撐自平衡組件30,調節(jié)組件62用于調節(jié)底座61的位置,具體用于調節(jié)底座61相對于工作臺面的高度以及與工作臺面的夾角。

      自平衡組件30固定在殼體10的頂面,用于使第一光源組件20出射的激光面始終垂直于水平面。第一光源組件20沿第一方向101安裝在自平衡組件30上,第二光源組件40沿第二方向102安裝在自平衡組件30上,第一方向101與第二方向102平行。作為實施例的一種,第二光源組件40設置在第一光源組件20的下側。

      第二光源組件40包括:第二激光源41、第二模組42和第二光學元件43。其中,第二激光源41用于產生沿第二方向102出射的第二激光束。第二模組42用于容納第二激光源41,第二激光源41設置在第二模組42內的靠近自平衡組件30的一端,在第二模組42的遠離第二激光源41的端面上設有第二光學元件43。第二光源組件能將第二激光束轉換為鉛垂激光線103。

      進一步,第二光學元件43為棱鏡或反射鏡。第二激光束沿第二方向102射出至第二光學元件43上,經第二光學元件43折射后轉向形成沿鉛垂方向出射的鉛垂激光線103。第二模組42在鉛垂激光線103所在的鉛垂方向上設有上下兩個相對的出射孔44。經第二光學元件43折射后轉向形成的鉛垂激光線103分別經兩個出射孔44從上下兩個方向射出。

      參考圖3所示,第一模組22設有一通孔24,該通孔24能使第二光源組件40出射的鉛垂激光線103穿過。通孔24與出射孔44相對設置,即通孔24和兩個出射孔44同軸。這樣使得第二光源組件40出射的鉛垂激光線103經通孔24和出射孔44射出,到達目標面后形成上下兩個鉛垂激光點104。

      進一步的,第一端面221相對于第二端面421在平行于第一方向101的方向上超前第二端面421一定距離。這樣,在投線儀100放置至目標空間時,第一光源組件20和第二光源組件40同時出射,其中,第一光源組件20出射的一預設角度范圍的激光面投射在目標空間的平面上形成一條激光線105,如圖4所示。第二光源組件40出射的鉛垂激光線103投射在目標空間上形成與第一光源組件20形成的激光線相交的上下兩個鉛垂激光點104,這樣,能夠方便用戶在空間上的對準;在保證投線儀100結構緊湊的同時提升用戶的使用體驗。

      進一步,投線儀100還包括第三光源組件50。第三光源組件50用于出射具有一定角度的平行于水平面的水平激光面。水平激光面在目標空間形成水平激光線106,水平激光線106與激光線105相交。這樣,可進一步方便在目標空間上的對準。

      參考圖5所示,作為本公開的投線儀的另一實施例。與圖1至圖4所示的投線儀的不同之處在于,第二光源組件包括一個第二光學元件403,第二光學元件403位于第一激光源201和第一光學元件203之間。第二光學元件403可為棱鏡或反射鏡。第二光學元件403在棱鏡在第一激光源201出射第一激光束的直線方向設有一開孔404,第一激光源201出射第一激光束,第一激光束中的部分激光線經過開孔404后再經第一光學元件203出射一覆蓋預設角度范圍的激光面,另一部分激光線經棱鏡反射為向上和向下的鉛垂激光線射出。具體的,第一光學元件23為柱面鏡。本實施例的投線儀相對于圖1和圖2所示的投線儀100而言,第二光源組件的結構更簡單,從而使得整個投線儀的結構更為緊湊。

      參考圖6至圖8所示,作為本公開的投線儀的又一實施例。投線儀300包括殼體31和位于殼體31內部的第一光源組件311、自平衡組件312和第二光源組件313。殼體31上形成有用于供光線透過的窗口314。

      與前述的實施例的不同之處在于,第一光源組件311的安裝方向垂直與第二光源組件313的安裝方向。第一光源組件311包括第一光學元件,第一光學元件為錐面鏡。具體的,第一光源組件311的安裝方向平行于投線儀的前后方向,第二光源組件313的安裝方向平行于投線儀的前后方向。第一光源組件311和第二光源組件313在前后方向上錯開。進一步,在前后方向上,第一光源組件311設置在第二光源組件313的前側。

      本實施例中的投線儀放置在目標空間時,第一光源組件311出射的具有預設角度范圍的激光面經窗口314射出在目標空間形成一條直線,第二光源組件313出射的鉛垂激光線經窗口314射出在目標空間形成與第一光源組件311所形成的直線相交的上下兩個鉛垂點,方便用戶在目標空間的定位。

      以上顯示和描述了本發(fā)明的基本原理、主要特征和優(yōu)點。本行業(yè)的技術人員應該了解,上述實施例不以任何形式限制本發(fā)明,凡采用等同替換或等效變換的方式所獲得的技術方案,均落在本發(fā)明的保護范圍內。

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