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      一種幾何參數(shù)連續(xù)可調(diào)的室內(nèi)高光譜檢測裝置的制作方法

      文檔序號(hào):12033175閱讀:341來源:國知局
      一種幾何參數(shù)連續(xù)可調(diào)的室內(nèi)高光譜檢測裝置的制作方法

      本發(fā)明屬于光譜檢測技術(shù)領(lǐng)域,更具體地,涉及一種幾何參數(shù)連續(xù)可調(diào)的室內(nèi)高光譜檢測裝置。



      背景技術(shù):

      高光譜成像檢測技術(shù)是采用成像光譜儀,在光譜波長200-2500nm范圍內(nèi)利用數(shù)十或數(shù)百個(gè)光譜波段對(duì)目標(biāo)物體進(jìn)行連續(xù)成像,同時(shí)獲取目標(biāo)物體的二維圖像信息和一維光譜信息,以實(shí)現(xiàn)物質(zhì)成分的快速檢測與分析。

      當(dāng)前,目標(biāo)物體的高光譜數(shù)據(jù)獲取手段主要包含三種方式:室內(nèi)檢測、室外采集和航空航天遙感。其中室內(nèi)檢測裝置獲取的環(huán)境(光照、大氣擾動(dòng)等因素)比室外更穩(wěn)定、觀測結(jié)果的重復(fù)性和穩(wěn)定性更好,因此獲得了廣泛應(yīng)用。然而,目前室內(nèi)高光譜檢測裝置由于存在幾何參數(shù)無法連續(xù)調(diào)節(jié),以及單一鹵素?zé)魺o法實(shí)現(xiàn)對(duì)立體目標(biāo)的充分照明和多角度信號(hào)采集等問題,導(dǎo)致其適應(yīng)性較差,檢測精度不高。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的以上缺陷或改進(jìn)需求,本發(fā)明的目的在于提供了一種幾何參數(shù)連續(xù)可調(diào)的室內(nèi)高光譜檢測裝置,由此解決現(xiàn)有的室內(nèi)高光譜檢測裝置由于存在幾何參數(shù)無法連續(xù)調(diào)節(jié),以及單一鹵素?zé)魺o法實(shí)現(xiàn)對(duì)立體目標(biāo)的充分照明和多角度信號(hào)采集等問題,導(dǎo)致其適應(yīng)性較差,檢測精度不高的技術(shù)問題。

      為實(shí)現(xiàn)上述目的,按照本發(fā)明的一個(gè)方面,提供了一種幾何參數(shù)連續(xù)可調(diào)的室內(nèi)高光譜檢測裝置,包括:高光譜相機(jī)(10)、高光譜滑塊座(6)、高光譜滑軌(9)、角度定位盤、電動(dòng)位移平臺(tái)(15)、遮光罩(17)和處理模塊(18);

      其中,所述角度定位盤包括第一鹵素?zé)?1)、第一滑塊座(4)、第一滑軌(5)、第二鹵素?zé)?14)、第二滑塊座(12)以及第二滑軌(13);

      所述高光譜相機(jī)(10)通過所述高光譜滑塊座(6)安裝在豎直放置的高光譜滑軌(9)上;所述第一鹵素?zé)?1)通過所述第一滑塊座(4)安裝在所述第一滑軌(5)上,所述第二鹵素?zé)?14)通過所述第二滑塊座(12)安裝在所述第二滑軌(13)上,且所述第一鹵素?zé)?1)與所述第二鹵素?zé)?14)位于所述高光譜相機(jī)(10)的兩側(cè),所述電動(dòng)位移平臺(tái)(15)位于所述高光譜相機(jī)(10)的正下方,所述處理模塊(18)與所述高光譜相機(jī)(10)和所述電動(dòng)位移平臺(tái)(15)相連,所述遮光罩(17)將除所述處理模塊(18)外的所有組成模塊罩住以提供暗室效果;

      所述高光譜相機(jī)(10),用于采集檢測對(duì)象的高光譜數(shù)據(jù);

      所述第一鹵素?zé)?1)與所述第二鹵素?zé)?14),用于為所述檢測對(duì)象提供多角度照明;

      所述角度定位盤,用于分別調(diào)節(jié)所述第一鹵素?zé)?1)和所述第二鹵素?zé)?14)的入射角;

      所述電動(dòng)位移平臺(tái)(15),用于驅(qū)動(dòng)所述檢測對(duì)象從所述高光譜相機(jī)(10)下方通過;

      所述處理模塊(18),用于控制所述電動(dòng)位移平臺(tái)(15)的運(yùn)動(dòng)速度以及對(duì)所述高光譜相機(jī)采集的所述高光譜數(shù)據(jù)進(jìn)行處理得到所述檢測對(duì)象的物質(zhì)成分及其含量。

      優(yōu)選地,所述角度定位盤還包括:第一螺紋鎖緊機(jī)構(gòu)(2)、量角盤(3)、第二螺紋鎖緊機(jī)構(gòu)(11)、第一指針(19)、第二指針(20)和鉸接孔(21);

      所述第一鹵素?zé)?1)安裝在所述第一滑塊座(4)上,所述第一滑塊座(4)能夠在所述第一滑軌(5)上自由移動(dòng),并通過所述第一螺紋鎖緊機(jī)構(gòu)(2)固定位置,所述第一滑軌(5)的一側(cè)安裝在所述量角盤(3)的所述鉸接口(21)上,另一側(cè)指向圓弧邊,所述第一滑軌(5)靠近所述量角盤(3)的地方安裝有所述第一指針(19),所述第一指針(19)指向刻度線所標(biāo)定的角度值即為所述第一鹵素?zé)?1)的入射角度;

      所述第二鹵素?zé)?14)安裝在所述第二滑塊座(12)上,所述第二滑塊座(12)能夠在所述第二滑軌(13)上自由移動(dòng),并通過所述第二螺紋鎖緊機(jī)構(gòu)(11)固定位置,所述第二滑軌(13)的一側(cè)安裝在所述量角盤(3)的所述鉸接口(21)上,另一側(cè)指向圓弧邊,所述第二滑軌(13)靠近所述量角盤(3)的地方安裝有所述第二指針(20),所述第二指針(20)指向刻度線所標(biāo)定的角度值即為所述第二鹵素?zé)?14)的入射角度。

      優(yōu)選地,所述高光譜滑軌(9)和所述量角盤(3)豎直安裝在光學(xué)平臺(tái)上,并且所述高光譜滑軌(9)位于所述量角盤(3)背部預(yù)設(shè)距離處。

      優(yōu)選地,所述第一滑軌(5)和所述第二滑軌(13)分別位于所述高光譜滑軌(9)的兩側(cè)并且所述第一滑軌(5)與所述第二滑軌(13)的長度均大于所述量角盤(3)圓弧邊的半徑。

      優(yōu)選地,所述角度定位盤能夠?qū)λ龅谝畸u素?zé)?1)和所述第二鹵素?zé)?14)的入射角度實(shí)現(xiàn)0~1/2πrad范圍內(nèi)的調(diào)節(jié)。

      總體而言,本發(fā)明方法與現(xiàn)有技術(shù)方案相比,能夠取得下列有益效果:

      (1)本發(fā)明最突出的技術(shù)特點(diǎn)是采用了角度定位盤和高光譜滑軌使得該裝置的幾何參數(shù)連續(xù)可調(diào),可獲得待測樣品的最佳幾何參數(shù)的精準(zhǔn)設(shè)置,從而可有效提高高光譜相機(jī)采集到的信號(hào)質(zhì)量。

      (2)本發(fā)明第二個(gè)突出的技術(shù)特點(diǎn)是采用了對(duì)稱的兩個(gè)鹵素照明燈,并配備了角度定位盤,通過角度定位盤可分別調(diào)節(jié)兩個(gè)鹵素?zé)舻恼丈涓叨群腿肷浣嵌龋瑥亩蓪?duì)立體目標(biāo)實(shí)現(xiàn)多角度照明,提高其檢測精度。

      (3)本發(fā)明第三個(gè)突出的技術(shù)特點(diǎn)是采用模塊化設(shè)計(jì),方便拆卸與更換。

      (4)本發(fā)明可替代現(xiàn)有的室內(nèi)高光譜成像檢測裝置進(jìn)行高光譜數(shù)據(jù)的采集與分析,可以應(yīng)用于食品安全、農(nóng)業(yè)監(jiān)測、病原體檢測、醫(yī)療診斷等諸多領(lǐng)域。

      附圖說明

      圖1為本發(fā)明實(shí)施例公開的一種幾何參數(shù)連續(xù)可調(diào)的室內(nèi)高光譜檢測裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;

      圖2為本發(fā)明實(shí)施例公開的一種幾何參數(shù)連續(xù)可調(diào)的室內(nèi)高光譜檢測裝置中角度定位盤的結(jié)構(gòu)示意圖。

      在所有附圖中,相同的附圖標(biāo)記用來表示相同的元件或結(jié)構(gòu),其中:1第一鹵素?zé)簦?第一螺紋鎖緊機(jī)構(gòu),3量角盤,4第一滑塊座,5第一滑軌,6高光譜滑塊座,7手輪,8鎖緊機(jī)構(gòu),9高光譜滑軌,10高光譜相機(jī),11第二螺紋鎖緊機(jī)構(gòu),12第二滑塊座,13第二滑軌,14第二鹵素?zé)簦?5電動(dòng)位移平臺(tái),16方盤,17遮光罩,18處理模塊,19第一指針,20第二指針,21鉸接口。

      具體實(shí)施方式

      為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白,以下結(jié)合附圖及實(shí)施例,對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解,此處所描述的具體實(shí)施例僅用以解釋本發(fā)明,并不用于限定本發(fā)明。此外,下面所描述的本發(fā)明各個(gè)實(shí)施方式中所涉及到的技術(shù)特征只要彼此之間未構(gòu)成沖突就可以相互組合。

      本發(fā)明提供了一種幾何參數(shù)連續(xù)可調(diào)的室內(nèi)高光譜檢測裝置,可用于不同物質(zhì)成分的無損快速檢測,該裝置不僅可以實(shí)現(xiàn)幾何參數(shù)的連續(xù)可調(diào),而且能對(duì)目標(biāo)物體實(shí)現(xiàn)多角度照明,以獲取高質(zhì)量的室內(nèi)高光譜信息。

      如圖1所示為本發(fā)明實(shí)例公開的一種幾何參數(shù)連續(xù)可調(diào)的室內(nèi)高光譜檢測裝置,包括高光譜相機(jī)10、第一鹵素?zé)?、第二鹵素?zé)?4、角度定位盤、電動(dòng)位移平臺(tái)15、遮光罩17和處理模塊18;

      高光譜相機(jī)(10)通過高光譜滑塊座6安裝在豎直放置的高光譜滑軌9上,高光譜滑塊座6可在高光譜滑軌9上自由移動(dòng),并設(shè)有能將高光譜滑塊座6固定在高光譜滑軌9上的鎖緊機(jī)構(gòu)8;

      第一鹵素?zé)?通過第一滑塊座4安裝在第一滑軌5上,第一滑塊座4可在第一滑軌5上自由移動(dòng),并設(shè)有能將第一滑塊座4固定在第一滑軌5上的第一螺紋鎖緊機(jī)構(gòu)2;

      第二鹵素?zé)?4通過第二滑塊座12安裝在第二滑軌13上,第二滑塊座12可在第二滑軌13上自由移動(dòng),并設(shè)有能將第二滑塊座12固定在第二滑軌13上的第二螺紋鎖緊機(jī)構(gòu)11;

      第一鹵素?zé)?、第二鹵素?zé)?4分別位于高光譜相機(jī)10的兩側(cè),電動(dòng)位移平臺(tái)15位于高光譜相機(jī)10的正下方,角度定位盤用于分別調(diào)節(jié)第一鹵素?zé)?和第二鹵素?zé)?4的入射角,處理模塊18與高光譜相機(jī)10和電動(dòng)位移平臺(tái)15相連,遮光罩17將除處理模塊18外的所有組成模塊罩住以提供暗室效果。

      高光譜相機(jī)10用于采集檢測對(duì)象的高光譜數(shù)據(jù);第一鹵素?zé)?與第二鹵素?zé)?4用于為檢測對(duì)象提供多角度照明;角度定位盤,用于分別調(diào)節(jié)第一鹵素?zé)?和第二鹵素?zé)?4的入射角;電動(dòng)位移平臺(tái)15用于驅(qū)動(dòng)檢測對(duì)象從高光譜相機(jī)10下方通過;處理模塊18用于控制電動(dòng)位移平臺(tái)15的運(yùn)動(dòng)速度以及對(duì)高光譜相機(jī)采集的高光譜數(shù)據(jù)進(jìn)行處理得到檢測對(duì)象的物質(zhì)成分及其含量。

      如圖2所示,角度定位盤包括第一鹵素?zé)?、第一螺紋鎖緊機(jī)構(gòu)2、量角盤3、第一滑塊座4、第一滑軌5、第二螺紋鎖緊機(jī)構(gòu)11、第二滑塊座12、第二滑軌13、第二鹵素?zé)?4、第一指針19、第二指針20和鉸接孔21。

      量角盤3的一側(cè)邊為圓弧邊,另一側(cè)邊為直邊,并且鉸接口21位于圓弧邊的圓心處,刻度線位于量角盤3圓弧邊一側(cè)。第一鹵素?zé)?安裝在第一滑塊座4上,第一滑塊座4可在第一滑軌5上自由移動(dòng),并通過第一螺紋鎖緊機(jī)構(gòu)2固定位置,第一滑軌5的一側(cè)安裝在量角盤3的鉸接口21上,另一側(cè)指向圓弧邊,并且第一滑軌5的長度大于圓弧邊的半徑,第一滑軌5靠近量角盤3的地方安裝有第一指針19,第一指針19指向刻度線所標(biāo)定的角度值即為第一鹵素?zé)?的入射角度;同樣,第二鹵素?zé)?4安裝在第二滑塊座12上,第二滑塊座12可在第二滑軌13上自由移動(dòng),并通過第二螺紋鎖緊機(jī)構(gòu)11固定位置,第二滑軌13的一側(cè)安裝在量角盤3的鉸接口21上,另一側(cè)指向圓弧邊,并且第二滑軌13的長度大于圓弧邊的半徑,第二滑軌13靠近量角盤3的地方安裝有第二指針20,第二指針20指向刻度線所標(biāo)定的角度值即為第二鹵素?zé)?4的入射角度。高光譜相機(jī)10安裝在高光譜滑軌9上,手輪7用于調(diào)節(jié)高光譜相機(jī)10的高度,并由鎖緊機(jī)構(gòu)8固定位置。方盤16安放在電動(dòng)位移平臺(tái)15上,并位于高光譜相機(jī)10的正下方。電動(dòng)位移平臺(tái)15和高光譜相機(jī)10與處理模塊18相連,遮光罩將除處理模塊18外的所有組成模塊罩住以提供暗室效果。

      本發(fā)明設(shè)計(jì)的一種室內(nèi)高光譜檢測裝置的工作原理是:將檢測對(duì)象置于方盤16上,通過處理模塊18驅(qū)動(dòng)電動(dòng)位移平臺(tái)15使檢測對(duì)象位于高光譜相機(jī)10的一側(cè),通過角度定位盤分別調(diào)節(jié)第一鹵素?zé)?和第二鹵素?zé)?4的入射角度使檢測對(duì)象得到充分照明,再對(duì)高光譜相機(jī)10進(jìn)行校正后,通過處理模塊18驅(qū)動(dòng)電動(dòng)位移平臺(tái)15使檢測對(duì)象勻速通過高光譜相機(jī)10的下方,高光譜相機(jī)10采集檢測對(duì)象的高光譜數(shù)據(jù)并傳輸?shù)教幚砟K18中,最后通過envi軟件顯示和分析。通過對(duì)現(xiàn)有室內(nèi)高光譜檢測裝置的改進(jìn),采用兩個(gè)鹵素?zé)舨⑼ㄟ^角度定位盤來分別調(diào)節(jié)第一鹵素?zé)?和第二鹵素?zé)?4的入射角度,使得檢測對(duì)象得到多角度照明,提高了檢測精度。

      高光譜滑軌9和量角盤3豎直安裝在光學(xué)平臺(tái)上,并且高光譜滑軌9位于量角盤3背部預(yù)設(shè)距離處,其中,預(yù)設(shè)距離可以根據(jù)實(shí)際需要確定。

      第一滑軌5和第二滑軌13分別位于高光譜滑軌9的兩側(cè),并且第一滑軌5與第二滑軌13的長度均大于量腳盤3圓弧邊的半徑。

      第一鹵素?zé)?和第二鹵素?zé)?4相同,波段為380nm-2500nm,并且第一鹵素?zé)?、第二鹵素?zé)?4的入射方向和高光譜相機(jī)10的采集方向的延長線交于一點(diǎn)。

      角度定位盤可對(duì)第一鹵素?zé)?和第二鹵素?zé)?4的入射角度實(shí)現(xiàn)0~1/2πrad范圍內(nèi)的調(diào)節(jié)。

      現(xiàn)以檢測蘋果表面淤傷為例來說明本發(fā)明所述高光譜檢測裝置的使用流程,具體操作步驟如下:

      (1)裝置的幾何參數(shù)設(shè)置:首先,根據(jù)蘋果的直徑大小設(shè)置高光譜相機(jī)10的高度,使高光譜相機(jī)10的視場角正好覆蓋蘋果表面。高光譜相機(jī)10的高度由下式給出。

      式中,s為高光譜相機(jī)10高度;

      f為高光譜相機(jī)鏡頭的焦距;

      h為蘋果的直徑;

      h為高光譜相機(jī)10中ccd的高度;

      再依據(jù)公式(2)調(diào)節(jié)第一鹵素?zé)?和第二鹵素?zé)?4的照射高度和入射角度,使蘋果被充分照明。

      式中,l1為第一鹵素?zé)?或第二鹵素?zé)?4的照射高度;

      l2為第一鹵素?zé)?或第二鹵素?zé)?4端面光束出射方向的反向延長線的虛交點(diǎn)與端面的距離;

      s2為第一鹵素?zé)?或第二鹵素?zé)?4端面的面積;

      s1為蘋果的半球面面積;

      (2)高光譜相機(jī)10的參數(shù)設(shè)置:首先打開第一鹵素?zé)?或第二鹵素?zé)?4,通過處理模塊18驅(qū)動(dòng)電動(dòng)位移平臺(tái)15,使方盤16位于高光譜相機(jī)10的正下方。調(diào)節(jié)高光譜相機(jī)10的曝光參數(shù)使其接收到的光強(qiáng)達(dá)到高光譜相機(jī)10的飽和光強(qiáng)的85%。然后再進(jìn)行調(diào)焦。處理模塊將依據(jù)公式(5)自動(dòng)調(diào)節(jié)電動(dòng)位移平臺(tái)的速度。

      高光譜相機(jī)10的幀頻和曝光時(shí)間的關(guān)系由下式給出。

      framerate=exposuretime+readouttime(3)

      式中,framerate為高光譜相機(jī)10的幀頻;

      exposuretime為曝光時(shí)間;

      readouttime為ccd的讀取時(shí)間;

      高光譜相機(jī)10的瞬時(shí)視場角和蘋果直徑之間的關(guān)系由下式給出。

      式中,ifov為高光譜相機(jī)10的瞬時(shí)視場角;

      nh為ccd上一列包含的像素點(diǎn)數(shù);

      于是,電動(dòng)位移平臺(tái)15的運(yùn)動(dòng)速度可由下式給出。

      v=fps×ifov(5)

      式中,v為電位移平臺(tái)15的運(yùn)動(dòng)速度;

      fps為高光譜相機(jī)10每秒顯示的幀數(shù),其與幀頻的關(guān)系由下式給出。

      (3)校正:高光譜相機(jī)10在采集數(shù)據(jù)之前需要經(jīng)過暗電流校正和白板校正。暗電流校正和白板校正要在相同的照明條件下進(jìn)行,一旦高光譜相機(jī)10的曝光時(shí)間或者鹵素?zé)艄庹諒?qiáng)度發(fā)生變化,都需要重新進(jìn)行校正。

      (4)數(shù)據(jù)采集:打開第一鹵素?zé)?和第二鹵素?zé)?4,驅(qū)動(dòng)電動(dòng)位移平臺(tái)15使方盤16位于高光譜相機(jī)的一側(cè),將蘋果放在方盤16上,打開高光譜相機(jī)10,并同時(shí)驅(qū)動(dòng)電動(dòng)位移平臺(tái)15,使目標(biāo)物體在高光譜相機(jī)10的正下方勻速通過,高光譜相機(jī)10采集檢測目標(biāo)的高光譜數(shù)據(jù)并傳輸?shù)教幚砟K18中,最后通過envi軟件顯示和分析蘋果的淤傷部位。

      (5)關(guān)閉室內(nèi)高光譜檢測裝置。完成蘋果淤傷的檢測和分析后,依次關(guān)閉第一鹵素?zé)?和第二鹵素?zé)?4、高光譜相機(jī)10、電動(dòng)位移平臺(tái)15、envi軟件和處理模塊18,對(duì)裝置的各個(gè)部件歸位,恢復(fù)裝置參數(shù)的初始設(shè)置。

      其中,處理模塊18可以集成于臺(tái)式機(jī)、筆記本電腦等終端設(shè)備中。

      本領(lǐng)域的技術(shù)人員容易理解,以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已,并不用以限制本發(fā)明,凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。

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