1.一種自聚焦透鏡陣列焦點(diǎn)深度的測(cè)試方法，其特征在于，所述方法包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自聚焦透鏡陣列焦點(diǎn)深度的測(cè)試方法，其特征在于，所述獲取待測(cè)陣列的多個(gè)調(diào)制傳遞函數(shù)值，包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自聚焦透鏡陣列焦點(diǎn)深度的測(cè)試方法，其特征在于，所述根據(jù)所述調(diào)制傳遞函數(shù)值和與所述調(diào)制傳遞函數(shù)值對(duì)應(yīng)的位置信息，確定所述待測(cè)陣列的調(diào)制傳遞函數(shù)曲線，包括：
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自聚焦透鏡陣列焦點(diǎn)深度的測(cè)試方法，其特征在于，所述根據(jù)所述調(diào)制傳遞函數(shù)曲線和所述像質(zhì)目標(biāo)值，確定與所述待測(cè)陣列對(duì)應(yīng)的焦點(diǎn)深度，包括：
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的自聚焦透鏡陣列焦點(diǎn)深度的測(cè)試方法，其特征在于，所述方法還包括：
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的自聚焦透鏡陣列焦點(diǎn)深度的測(cè)試方法，其特征在于，所述根據(jù)所述多個(gè)測(cè)量圖像，確定與各個(gè)所述測(cè)量圖像對(duì)應(yīng)的調(diào)制傳遞函數(shù)值，包括：
7.一種自聚焦透鏡陣列焦點(diǎn)深度的測(cè)試裝置，其特征在于，所述測(cè)試裝置至少包括：光源模塊、分辨率模塊、陣列移動(dòng)模塊和測(cè)量模塊，其中，所述分辨率模塊位于所述光源模塊和所述陣列移動(dòng)模塊中間，所述陣列移動(dòng)模塊上放置有待測(cè)陣列；
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的自聚焦透鏡陣列焦點(diǎn)深度的測(cè)試裝置，其特征在于，所述陣列移動(dòng)模塊用于從三個(gè)不同方向移動(dòng)所述待測(cè)陣列，以使所述光源模塊的中心、所述分辨率模塊的中心、待測(cè)陣列的中心和所述測(cè)量模塊的中心位于同一直線上。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的自聚焦透鏡陣列焦點(diǎn)深度的測(cè)試裝置，其特征在于，所述測(cè)量模塊至少包括測(cè)量單元和移動(dòng)單元，所述移動(dòng)單元與所述測(cè)量單元相連，所述移動(dòng)單元用于控制所述測(cè)量單元移動(dòng)，以使所述待測(cè)陣列位于所述分辨率模塊和所述測(cè)量單元的中間位置。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的自聚焦透鏡陣列焦點(diǎn)深度的測(cè)試裝置，其特征在于，所述測(cè)試裝置還包括遠(yuǎn)程終端，其中，所述遠(yuǎn)程終端分別與所述測(cè)量單元、所述移動(dòng)單元和所述陣列移動(dòng)模塊相連，所述遠(yuǎn)程終端用于分別控制所述測(cè)量單元、所述移動(dòng)單元和所述陣列移動(dòng)模塊移動(dòng)，以使所述待測(cè)陣列位于所述分辨率模塊和所述測(cè)量單元的中間位置。