1.一種用于分析具有平行面的基底(100)的表面質(zhì)量的方法，該方法包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述至少一個第一光束以基本上垂直于所述基底的方式入射到所述基底上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中：
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中，所述第一光束和所述第二光束由所述第一光源發(fā)射。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中：
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中：
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中：
8.一種用于分析具有平行面的基底的表面質(zhì)量的系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括：
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其中，所述發(fā)射裝置被配置為使得在操作中，所述至少一個第一光束以基本上垂直于所述基底的方式入射到所述基底上。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的系統(tǒng)，其中，所述第一波前分析儀的所述分析表面與所述待分析的基底基本上光學(xué)共軛。
11.根據(jù)權(quán)利要求8至10中任一項所述的系統(tǒng)，還包括：
12.根據(jù)權(quán)利要求8至10中任一項所述的系統(tǒng)，其中，所述波前分析裝置包括與所述第一波前分析儀分離的第二波前分析儀，并且：
13.根據(jù)權(quán)利要求8至12中任一項所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個第一波前分析儀選自哈特曼和夏克-哈特曼波前分析儀、橫向偏移干涉儀、莫爾偏折測量儀以及基于紋影法的設(shè)備。