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      激光作用下圓柱體靶材運(yùn)動(dòng)軌跡的探測(cè)裝置及方法

      文檔序號(hào):40006897發(fā)布日期:2024-11-19 13:35閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

      技術(shù)特征:

      1.一種激光作用下圓柱體靶材運(yùn)動(dòng)軌跡的探測(cè)裝置,包括用于投射探測(cè)光束的激光器,其特征在于,沿所述激光器投射出的探測(cè)光束方向依次同軸安裝有擴(kuò)束鏡、可調(diào)圓形光闌、凹凸透鏡組、分光棱鏡、第一可調(diào)光學(xué)狹縫、第二可調(diào)光學(xué)狹縫、第一聚焦透鏡、第一干涉濾波片以及第一光電傳感器;

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光作用下圓柱體靶材運(yùn)動(dòng)軌跡的探測(cè)裝置,其特征在于,所述激光器投射出的探測(cè)光束的光強(qiáng)分布為高斯分布。

      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光作用下圓柱體靶材運(yùn)動(dòng)軌跡的探測(cè)裝置,其特征在于,所述激光器投射出的探測(cè)光束的激光功率穩(wěn)定性不低于±2.5%。

      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光作用下圓柱體靶材運(yùn)動(dòng)軌跡的探測(cè)裝置,其特征在于,所述第一干涉濾波片和所述第二干涉濾波片的可透過(guò)光的中心波長(zhǎng)均與所述激光器的波長(zhǎng)一致。

      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光作用下圓柱體靶材運(yùn)動(dòng)軌跡的探測(cè)裝置,其特征在于,所述第一可調(diào)光學(xué)狹縫的縫隙中線、所述第二可調(diào)光學(xué)狹縫的縫隙中線以及所述激光器投射出的探測(cè)光束的軸線共同構(gòu)成一個(gè)三維空間,在該三維空間中,每?jī)蓷l線之間都是相互垂直的。

      6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光作用下圓柱體靶材運(yùn)動(dòng)軌跡的探測(cè)裝置,其特征在于,所述圓柱體靶材軸向所在的直線處于所述第一可調(diào)光學(xué)狹縫的縫隙中線與所述激光器投射出探測(cè)光束的發(fā)射方向所構(gòu)成的平面內(nèi)。

      7.一種激光作用下圓柱體靶材運(yùn)動(dòng)軌跡的探測(cè)方法,其特征在于,應(yīng)用于如權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的探測(cè)裝置,所述探測(cè)方法包括以下步驟:

      8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種激光作用下圓柱體靶材運(yùn)動(dòng)軌跡的探測(cè)裝置及方法,其特征在于,所述擴(kuò)束鏡對(duì)所述激光器投射出的探測(cè)光束進(jìn)行不小于8倍的擴(kuò)束。

      9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種激光作用下圓柱體靶材運(yùn)動(dòng)軌跡的探測(cè)裝置及方法,其特征在于,所述凹凸透鏡組能夠?qū)⑺黾す馄魍渡涑龅奶綔y(cè)光束擴(kuò)束n倍,其中,n為大于1的正整數(shù)。


      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明涉及光電探測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種激光作用下圓柱體靶材運(yùn)動(dòng)軌跡的探測(cè)裝置及方法,包括用于投射探測(cè)光束的激光器,沿所述激光器投射出的探測(cè)光束方向依次同軸安裝有擴(kuò)束鏡、可調(diào)圓形光闌、凹凸透鏡組、分光棱鏡、第一可調(diào)光學(xué)狹縫、第二可調(diào)光學(xué)狹縫、第一聚焦透鏡、第一干涉濾波片以及第一光電傳感器。相較于傳統(tǒng)方法,本技術(shù)方案解決了由于圓柱體靶材在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中發(fā)生輕微旋轉(zhuǎn)而導(dǎo)致無(wú)法精確測(cè)量其運(yùn)動(dòng)軌跡的問(wèn)題,在接收端使用分光棱鏡將探測(cè)光束分為兩束光,分別通過(guò)一系列光學(xué)元件后由光電傳感器轉(zhuǎn)化為電信號(hào),并由示波器接收;通過(guò)對(duì)示波器接收到的兩路電信號(hào)進(jìn)行分析處理,即可對(duì)圓柱體靶材旋轉(zhuǎn)導(dǎo)致的測(cè)量誤差進(jìn)行修正。

      技術(shù)研發(fā)人員:強(qiáng)豪,崔玉亞,趙彥,浦秦夏,張莉
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:江蘇信息職業(yè)技術(shù)學(xué)院
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/11/18
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