1.一種針對甚長基線干涉陣列數(shù)據(jù)的天體成像方法，其特征在于，包括：
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，針對每個基線對應(yīng)的初始可見度數(shù)據(jù)，對該基線對應(yīng)的初始可見度數(shù)據(jù)進(jìn)行校準(zhǔn)，得到該基線對應(yīng)的校準(zhǔn)后可見度數(shù)據(jù)，具體包括：
3.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，基于該基線中包含的每個天線對應(yīng)的天線參數(shù)、所述目標(biāo)天體對應(yīng)的參考天體的幅度信息和相位信息，對該基線對應(yīng)的初始可見度數(shù)據(jù)進(jìn)行校準(zhǔn)，得到該基線對應(yīng)的校準(zhǔn)后可見度數(shù)據(jù)，具體包括：
4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，根據(jù)每個基線對應(yīng)的校準(zhǔn)后可見度數(shù)據(jù)，確定針對所述目標(biāo)天體的待成像數(shù)據(jù)，具體包括：
5.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，根據(jù)每個基線對應(yīng)的校準(zhǔn)后可見度數(shù)據(jù)，確定針對所述目標(biāo)天體的待成像數(shù)據(jù)，具體包括：
6.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，通過所述成像進(jìn)程，對所述待成像數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，并根據(jù)處理后的待成像數(shù)據(jù)對所述目標(biāo)天體進(jìn)行成像，具體包括：
7.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，以校正后的待成像數(shù)據(jù)與重新確定的參考可見度數(shù)據(jù)之間的殘差圖的最大值小于預(yù)設(shè)亮度峰值信噪比倍數(shù)為校正目標(biāo)，根據(jù)重新確定的參考可見度數(shù)據(jù)對待成像數(shù)據(jù)進(jìn)行若干次校正處理，得到所述處理后的待成像數(shù)據(jù)，具體包括：
8.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，通過所述成像進(jìn)程，在所述待成像數(shù)據(jù)中刪除與異常天線相關(guān)聯(lián)的待成像數(shù)據(jù)，得到基準(zhǔn)待成像數(shù)據(jù)，分別對所述異常天線相關(guān)聯(lián)的待成像數(shù)據(jù)和所述基準(zhǔn)待成像數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，并根據(jù)處理后的異常天線相關(guān)聯(lián)的待成像數(shù)據(jù)和處理后的基準(zhǔn)待成像數(shù)據(jù)對所述目標(biāo)天體進(jìn)行成像，具體包括：
9.如權(quán)利要求6~8任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，根據(jù)處理后的待成像數(shù)據(jù)對所述目標(biāo)天體進(jìn)行成像，具體包括：
10.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在通過所述成像進(jìn)程，在所述待成像數(shù)據(jù)中刪除與異常天線相關(guān)聯(lián)的待成像數(shù)據(jù)之前，所述方法還包括：
11.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，根據(jù)每個基線對應(yīng)的校準(zhǔn)后可見度數(shù)據(jù)，在所述各基線所包含的天線中確定出異常天線和非異常天線，具體包括：
12.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述校準(zhǔn)進(jìn)程和所述成像進(jìn)程所涉及的輸入?yún)?shù)均基于與所述甚長基線干涉陣列相匹配觀測信息進(jìn)行計(jì)算獲取，以適配所述基線干涉陣列的可見度數(shù)據(jù)處理。
13.一種針對甚長基線干涉陣列數(shù)據(jù)的天體成像裝置，其特征在于，包括：
14.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲介質(zhì)，其特征在于，所述存儲介質(zhì)存儲有計(jì)算機(jī)程序，所述計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時實(shí)現(xiàn)上述權(quán)利要求1~12任一項(xiàng)所述的方法。
15.一種電子設(shè)備，包括存儲器、處理器及存儲在存儲器上并可在處理器上運(yùn)行的計(jì)算機(jī)程序，其特征在于，所述處理器執(zhí)行所述程序時實(shí)現(xiàn)上述權(quán)利要求1~12任一項(xiàng)所述的方法。