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      一種加速器粒子束流截面實(shí)時(shí)診斷系統(tǒng)的制作方法_2

      文檔序號:8281387閱讀:來源:國知局
      1是傳統(tǒng)熒光屏束截面檢測系統(tǒng)圖;
      [0019] 圖2是本發(fā)明的工作原理和光路示意圖;其中,1為熒光材料涂層,2為球面反射 鏡,3為通光孔,4為硅窗,5為平面反射鏡,6為透鏡組,7為抗輻照光纖,8為光纖中繼器,9 為相機(jī)系統(tǒng),10為本地PC機(jī);
      [0020] 圖3是用于說明本系統(tǒng)相對位置的坐標(biāo)示意圖;
      [0021] 圖4是熒光材料的主要激發(fā)譜圖;
      [0022] 圖5是成像透鏡組的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)圖;其中,61為雙凸透鏡,62為彎月透鏡,63為鏡 筒,64為柱透鏡,65為雙凸透鏡,66為光纖接口;
      [0023] 圖6是光纖中繼器的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)圖。其中,81為鏡筒,82為濾光片,83為平凸透鏡, 84為彎月透鏡,85為雙膠合透鏡,86為光纖接口。
      【具體實(shí)施方式】
      [0024] 本發(fā)明在研制過程中包括樣機(jī)和正式系統(tǒng)兩套,樣機(jī)系統(tǒng)用于原理和光路調(diào)試方 法研宄,正式系統(tǒng)用于打靶束流的診斷。結(jié)合樣機(jī)、正式系統(tǒng)的功能和附圖,對系統(tǒng)的實(shí)施 步驟做具體說明如下:
      [0025] 靶體前窗與質(zhì)子束窗之間的質(zhì)子束通道長1987mm,通道上方為厚重的鋼筋+水 泥屏蔽塊。距離質(zhì)子束窗中心1045mm左右的高度上有一個(gè)屏蔽塊間隙,該間隙空間高約 220mm,水平面內(nèi)為半徑約338mm的圓形區(qū)域,主要用于布置靶站的各類管道。間隙空間向 上繼續(xù)是厚重的鋼筋+水泥屏蔽塊,以及預(yù)埋的管道。根據(jù)靶站的這些結(jié)構(gòu)特點(diǎn),對本發(fā)明 的硬件設(shè)備做如下位置、尺寸等設(shè)計(jì)和加工:
      [0026] 本發(fā)明的系統(tǒng)如附圖2所示,一定厚度、一定濃度摻雜的Cr =Al2O3(或其他類型) 熒光材料均勻噴涂在靶體前窗(本發(fā)明中發(fā)光材料厚為〇.25mm,Cr :A1203摻雜比例為 1. 5% ),根據(jù)入射束流的設(shè)計(jì)尺寸,熒光材料涂層1的最小噴涂面積為160mmX60mm。高功 率質(zhì)子束入射靶體設(shè)備打靶,在靶體前窗上的材料涂層1中沉積能量,材料1中的發(fā)光中心 受激發(fā)生能級躍迀,發(fā)出熒光。發(fā)光強(qiáng)度分布與入射束流的橫向分布相關(guān),這是束流截面參 數(shù)成像探測的基礎(chǔ)。Cr =Al2O3熒光材料1激發(fā)光譜分布如圖4中所示,主要為694nm波段, 該值設(shè)定為系統(tǒng)的中心工作波段,帶寬20nm。
      [0027] 參考附圖3的系統(tǒng)坐標(biāo)示意,以熒光材料靶面中心為坐標(biāo)原點(diǎn),在與束流入射相 反的方向上,水平距離靶體前端面1987mm位置處為第一面金屬球面反射鏡2(y軸坐標(biāo) 為-1987mm),反射鏡2的中心點(diǎn)在豎直平面內(nèi)水平方向偏移質(zhì)子束流中心93mm(x軸坐標(biāo) 為-93mm)、豎直方向偏移束流中心線40mm(z軸坐標(biāo)為40mm)。球面反射鏡2通過螺母固定 在質(zhì)子束窗上,可以實(shí)現(xiàn)水平方向的位置微調(diào)和鏡面俯仰角度的調(diào)節(jié)。為保證在高輻照條 件下穩(wěn)定工作,反射鏡表面不做鍍膜處理,采用鉬金屬加工而成,也可以考慮采用鋁金屬。
      [0028] 反射鏡2將材料涂層1發(fā)出的熒光離軸反射進(jìn)入通光孔3,光線透射過通光孔3頂 部的熔融石英硅窗4,到達(dá)質(zhì)子束窗上部屏蔽塊間隙。其中,通光孔直徑25mm,長約lm。熔 融石英硅窗4厚8mm,能承受最大工作壓差latm。考慮上部屏蔽塊間隙的空間受限,系統(tǒng)采 用了金屬平面反射鏡5將出射的光線水平反射到透鏡組6進(jìn)行聚焦成像,像斑尺寸約Imm ; 平面反射鏡5可以進(jìn)行角度的微調(diào)。透鏡組6會(huì)聚光線所成的像投射到鏡筒后端的光纖端 面上,耦合進(jìn)入光纖傳像束7,經(jīng)光纖7傳輸?shù)侥┒溯椛浒踩珔^(qū)域,光纖中繼器8將像斑耦合 進(jìn)入工業(yè)相機(jī)9中。
      [0029] 其中,成像透鏡組6的結(jié)構(gòu)如附圖5所示,由雙凸透鏡61、彎月透鏡62、柱透鏡64、 雙凸透鏡65組成,封裝在鋁制的鏡筒63內(nèi)。柱透鏡64可以進(jìn)行角度的微調(diào),表面未鍍增 透膜,鏡筒63通過螺紋接口固定在平面反射鏡5的鏡座上。光纖7采用日本滕倉公司生產(chǎn) 的FIGR-20標(biāo)準(zhǔn)抗輻照系列,長度約15m,一端位于高輻射區(qū)的屏蔽塊間隙,一端位于輻射 安全區(qū)域。
      [0030] 光纖7與成像透鏡組6的接口根據(jù)SMA905和光纖端口尺寸設(shè)計(jì)加工,光纖另一端 接口中繼器8依次由濾光片82、平凸透鏡83、彎月透鏡84、雙膠合透鏡85組成,表面鍍增 透膜,濾光片82 -端直接與工業(yè)相機(jī)9相連。濾光片82的使用,有效的消除了系統(tǒng)光學(xué)色 差,一定程度上改進(jìn)了系統(tǒng)的成像質(zhì)量。
      [0031] 光纖前端成像系統(tǒng)的設(shè)計(jì)指標(biāo)如下:
      [0032] 工作波長:684nm ?704nm
      [0033] 物面尺寸:160mm X 60mm
      [0034] 物距:1987mm
      [0035] 像高:1mm左右
      [0036] 各鏡面的曲率半徑等面形參數(shù)均根據(jù)以上描述的光路尺寸和要求利用zemax軟 件設(shè)計(jì),經(jīng)制圖和加工后得到系統(tǒng)實(shí)物,鏡面的主要參數(shù)如下(單位:
      [0037]
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1. 一種加速器粒子束流截面實(shí)時(shí)診斷系統(tǒng),其特征在于,包括一光學(xué)成像系統(tǒng)和一圖 像數(shù)據(jù)采集分析系統(tǒng),在靶體前窗設(shè)有一熒光材料涂層;所述光學(xué)成像系統(tǒng)包括位于輻射 區(qū)的離軸反射鏡(2)、通光孔(3)、硅窗(4)、反射鏡(5)、聚焦成像透鏡組(6),其中,離軸反 射鏡(2)用于將熒光材料涂層發(fā)出的熒光離軸反射進(jìn)入通光孔(3),通光孔(3)的出光端與 硅窗(4)密封連接,反射鏡(5)將硅窗(4)出射的光線反射到聚焦成像透鏡組(6);所述聚 焦成像透鏡組(6)將光線耦合輸出到位于輻射區(qū)外的所述圖像數(shù)據(jù)采集分析系統(tǒng)。
      2. 如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其特征在于,所述聚焦成像透鏡組(6)通過一光纖連接器 與一防輻照光纖傳像束(7)連接,該防輻照光纖傳像束(7)另一端與位于輻射區(qū)外的一光 纖中繼器(8)連接,該光纖中繼器(8)將光線耦合到所述圖像數(shù)據(jù)采集分析系統(tǒng)。
      3. 如權(quán)利要求2所述的系統(tǒng),其特征在于,所述聚焦成像透鏡組(6)包括依次排列的雙 凸透鏡(61)、彎月透鏡(62)、柱透鏡(64)和雙凸透鏡(65)。
      4. 如權(quán)利要求2所述的系統(tǒng),其特征在于,所述光纖中繼器⑶包括依次排列的濾光片 (82)、平凸透鏡(83)、彎月透鏡(84)、雙膠合透鏡(85)。
      5. 如權(quán)利要求2所述的系統(tǒng),其特征在于,所述離軸反射鏡(2)固定在質(zhì)子束窗上,水 平方向和鏡面俯仰角可調(diào)。
      6. 如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其特征在于,所述熒光材料涂層為均勻噴涂在靶體前窗 的 Cr :A1203〇
      7. 如權(quán)利要求6所述的系統(tǒng),其特征在于,所述熒光材料涂層厚為0. 25mm,Cr :A1 203摻 雜比例為1. 5%。
      8. 如權(quán)利要求1?7任一所述的系統(tǒng),其特征在于,所述反射鏡(5)為金屬平面反射 鏡;所述離軸反射鏡(2)為金屬球面反射鏡。
      9. 如權(quán)利要求1?7任一所述的系統(tǒng),其特征在于,所述硅窗(4)位于質(zhì)子束窗上部屏 蔽塊間隙處;所述聚焦成像透鏡組(6)封裝于一金屬消光鏡筒(63)內(nèi)且固定在所述反射鏡 (5)的鏡座上。
      【專利摘要】本發(fā)明公開了一種加速器粒子束流截面實(shí)時(shí)診斷系統(tǒng)。本系統(tǒng)包括一光學(xué)成像系統(tǒng)和一圖像數(shù)據(jù)采集分析系統(tǒng),在靶體前窗設(shè)有一熒光材料涂層;光學(xué)成像系統(tǒng)包括位于輻射區(qū)的離軸反射鏡(2)、通光孔(3)、硅窗(4)、反射鏡(5)、聚焦成像透鏡組(6),其中,離軸反射鏡(2)用于將熒光材料涂層發(fā)出的熒光離軸反射進(jìn)入通光孔(3),通光孔(3)的出光端與硅窗(4)密封連接,反射鏡(5)將硅窗(4)出射的光線反射到聚焦成像透鏡組(6);所述聚焦成像透鏡組(6)將光線耦合輸出到位于輻射區(qū)外的圖像數(shù)據(jù)采集分析系統(tǒng)。本系統(tǒng)能對距離打靶位置2cm范圍的離子束流進(jìn)行在線診斷,可用于實(shí)時(shí)監(jiān)測近靶區(qū)域內(nèi)打靶狀況和束流橫向截面分布。
      【IPC分類】G01T1-29
      【公開號】CN104597476
      【申請?zhí)枴緾N201410825957
      【發(fā)明人】曾智蓉, 吳麗萍, 梁天驕, 姚思一, 于全芝, 閆恒忠, 周斌
      【申請人】東莞中子科學(xué)中心
      【公開日】2015年5月6日
      【申請日】2014年12月25日
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