一種均勻性裝樣品設備的制造方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及一種裝樣設備，具體涉及一種均勻性裝樣品設備。
【背景技術】
[0002]有放射性的同位素稱為“放射性同位素”，沒有放射性并且半衰期大于1050年的則稱為“穩(wěn)定同位素”，并不是所有同位素都具有放射性；因此有放射性的同位素稱稱放射性同位素或放射性核素。放射性核素超標的物品對人體和動物存在著某種損害作用，因而加強對物品放射性核素的檢驗、監(jiān)管，尤其是對與人民生活密切相關的貨物的放射性核素的檢驗、監(jiān)管力度是非常有必要的。
[0003]物品放射性核素的檢驗通常是通過放射性檢測儀器來檢驗的。目前一些放射性檢測儀器在檢測粉末狀、小顆粒狀、肉糜狀等這類物質(zhì)的放射性核素過程中，對待檢樣品的物質(zhì)分布均勻性要求較高；物質(zhì)分布的均勻性對放射性核素檢驗結果的準確性影響較大，對于物質(zhì)分布均勻性好的檢測物品的放射性核素檢測結果準確性高，而物質(zhì)分布均勻性不佳的檢測物品的放射性核素檢測結果準確性差；因而在檢測粉末狀、小顆粒狀、肉糜狀等這類物質(zhì)的放射性核素檢時，如何得到物質(zhì)分布均勻性好的待檢樣品是非常重要的。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的是為了克服現(xiàn)有技術中的不足，提供一種適用于對粉末狀、小顆粒狀、肉糜狀物質(zhì)進行裝樣，并且裝樣得到的樣品的物質(zhì)分布均勻性好，有利于提高樣品的放射性核素檢測結果的準確性的均勻性裝樣品設備。
[0005]本發(fā)明的技術方案是:
一種均勻性裝樣品設備，包括機架，設置在機架上的支撐平板，設置在支撐平板下表面上的振動器，設置在支撐平板上方的放置平板，設置在放置平板頂面中部的圓形限位槽，放置在圓形限位槽內(nèi)的裝樣盒體，設置支撐平板與放置平板之間的稱重傳感器，設置在機架上的抱緊校驗裝置及設置在機架上、位于裝樣盒體上方的壓實裝置；所述裝樣盒體呈圓筒形，且裝樣盒體的上端開口，圓形限位槽的底面中心設有上過桿通孔，支撐平板上、位于上過桿通孔正下方設有下過桿通孔，所述抱緊校驗裝置包括設置在機架上的豎直下導套，可滑動的設置在豎直下導套內(nèi)的豎直推桿，套設在豎直推桿上的導向圓環(huán)，連接導向圓環(huán)與豎直推桿的連接桿，設置在機架上的豎直上導套，可滑動的設置在豎直上導套內(nèi)的豎直校驗頂桿，若干設置在機架上并繞豎直下導套周向均布的水平導套，可滑動設置在各水平導套內(nèi)的水平推桿及設置在機架上用于帶動豎直推桿升降的第一升降氣缸；所述豎直上導套位于豎直下導套上方，豎直上導套與豎直下導套同軸，豎直上導套位于下過桿通孔的正下方，所述豎直校驗頂桿的上端可自下而上穿過下過桿通孔及上過桿通孔；所述水平導套與水平推桿之間通過鍵連接，各水平推桿上、靠近豎直推桿的一端設有往下延伸的下支撐桿，遠離豎直推桿的一端設有往上延伸的上支撐桿，所述下支撐桿上設有自下而上橫截面逐漸增大的導向錐體，所述水平推桿上、位于水平導套與豎直推桿之間設有限位擋塊，水平推桿位于水平導套與限位擋塊之間設有可使導向錐體抵靠在導向圓環(huán)上的壓縮彈簧；所述上支撐桿上、位于放置平板上方設有往圓形限位槽中心延伸的抱緊塊；所述壓實裝置包括壓板，設置在機架上用于升降壓板的第二升降氣缸，所述壓板水平設置，壓板位于裝樣盒體的上方。
[0006]本方案結構適用于對粉末狀、小顆粒狀、肉糜狀物質(zhì)進行裝樣，裝樣得到的樣品的物質(zhì)分布均勻性好，并且可以對裝樣樣品的物質(zhì)分布均勻性分布是否均勻進行檢驗，保證裝樣得到的樣品的物質(zhì)分布均勻性好，有利于提高樣品的放射性核素檢測結果的準確性。
[0007]作為優(yōu)選，豎直校驗頂桿外側面上設有上限位塊及下限位塊，所述上限位塊位于豎直上導套上方，下限位塊位于豎直上導套下方；并且當上限位塊位抵靠在豎直上導套上端時，所述豎直校驗頂桿的上端位于圓形限位槽底面的下方；當下限位塊位抵靠在豎直上導套下端時，所述豎直校驗頂桿的上端位于圓形限位槽底面的上方。
[0008]作為優(yōu)選，豎直推桿外側面上、位于豎直下導套上方設有環(huán)形限位凸塊，當環(huán)形限位凸塊抵靠在豎直下導套上端時，所述抱緊塊抵靠在裝樣盒體外側面上，同時，豎直推桿上端與豎直校驗頂桿之間設有間隙。
[0009]作為優(yōu)選，豎直推桿外側面上、位于豎直下導套上方設有環(huán)形限位凸塊，當環(huán)形限位凸塊抵靠在豎直下導套上端時，所述抱緊塊抵靠在裝樣盒體外側面上。
[0010]作為優(yōu)選，壓實裝置還包括設置在機架上、位于裝樣盒體上方的水平導軌，可滑動設置在水平導軌上的滑座，設置在機架上用于推移滑座的水平氣缸，設置在滑座上的豎直限位套及可滑動設置在豎直限位套內(nèi)的導柱，所述壓板位于滑座下方，所述導柱的下端與壓板相連接，所述第二升降氣缸設置在滑座上。
[0011]作為優(yōu)選，裝樣盒體的上端開口呈圓形，且裝樣盒體的上端開口的內(nèi)徑大于壓板的外徑。
[0012]作為優(yōu)選，放置平板上設有往上延伸的環(huán)形限位套，所述圓形限位槽位于環(huán)形限位套內(nèi)，所述環(huán)形限位套上設有若干與抱緊塊一一對應的避讓缺口，所述抱緊塊可穿過避讓缺口。
[0013]作為優(yōu)選，圓形限位槽的中心落在豎直校驗頂桿的軸線上。
[0014]作為優(yōu)選，豎直校驗頂桿的頂面為平面。
[0015]作為優(yōu)選，機架上設有機體外殼，所述支撐平板，放置平板，抱緊校驗裝置及壓實裝置均位于機體外殼內(nèi)。
[0016]本發(fā)明的有益效果是:適用于對粉末狀、小顆粒狀、肉糜狀物質(zhì)進行裝樣，并且裝樣得到的樣品的物質(zhì)分布均勻性好，有利于提高樣品的放射性核素檢測結果的準確性。
【附圖說明】
[0017]圖1是本發(fā)明的一種均勻性裝樣品設備的一種結構示意圖。
[0018]圖2是圖1中A處的放大圖。
[0019]圖3是本發(fā)明的一種均勻性裝樣品設備在裝樣過程中的一種結構示意圖。
[0020]圖中:機架1，振動器2，支撐平板3、下過桿通孔31，稱重傳感器4，放置平板5、上過桿通孔51，裝樣盒體6，抱緊校驗裝置7、抱緊塊71、上支撐桿72、限位擋塊73、壓縮彈簧74、水平導套75、水平推桿76、導向錐體77、導向圓環(huán)78、環(huán)形限位凸塊79、豎直下導套710、豎直推桿711、第一升降氣缸712、上限位塊713、豎直校驗頂桿714、豎直上導套715、下限位塊716，壓實裝置8、壓板81、水平導軌82、滑座83、導柱84、第二升降氣缸85。
【具體實施方式】
[0021]下面結合附圖與【具體實施方式】對本發(fā)明作進一步詳細描述:
如圖1、圖2所示，一種均勻性裝樣品設備包括機架1，設置在機架上的支撐平板3，設置在支撐平板下表面上的振動器2，設置在支撐平板上方的放置平板5，設置在放置平板頂面中部的圓形限位槽，放置在圓形限位槽內(nèi)的裝樣盒體6，設置支撐平板與放置平板之間的稱重傳感器4，設置在機架上的抱緊校驗裝置7及設置在機架上、位于裝樣盒體上方的壓實裝置8。機架上設有機體外殼。支撐平板，放置平板，抱緊校驗裝置及壓實裝置均位于機體外殼內(nèi)。支撐平板及放置平板水平設置。稱重傳感器用于測量放置平板，裝樣盒體及裝樣盒體內(nèi)的物質(zhì)的重量。裝樣盒體呈圓筒形，且裝樣盒體的上端開口。裝樣盒體的上端開口呈圓形。裝樣盒體的外徑大于20厘米，且裝樣盒體的高度小于5厘米。圓形限位槽的底面中心設有往下延伸的上過桿通孔51。支撐平板上、位于上過桿通孔正下方設有下過桿通孔31ο
[0022]抱緊校驗裝置包括設置在機架上的豎直下導套710，可滑動的設置在豎直下導套內(nèi)的豎直推桿711，套設在豎直推桿上的導向圓環(huán)78，連接導向圓環(huán)與豎直推桿的連接桿，設置在機架上的豎直上導套715，可滑動的設置在豎直上導套內(nèi)的豎直校驗頂桿714，若干設置在機架上并繞豎直下導套周向均布的水平導套75，可滑動設置在各水平導套內(nèi)的水平推桿76及設置在機架上用于帶動豎直推桿升降的第一升降氣缸712。本實施例中的第一升降氣缸還可以由推桿電機代替。
[0023]豎直上導套位于豎直下導套上方。豎直上導套與豎直下導套同軸。豎直上導套位于下過桿通孔的正下方。豎直校驗頂桿的上端可自下而上穿過下過桿通孔及上過桿通孔。圓形限位槽的中心落在豎直校驗頂桿的軸線上。豎直校驗頂桿的頂面為平面。豎直校驗頂桿呈圓形，且豎直校驗頂桿的外徑為I至8毫米之間。水平導套與水平推桿之間通過鍵連接，本實施例中，水平導套與水平推桿之間通過花鍵連接。各水平推桿上、靠近豎直推桿的一端設有往下延伸的下支撐桿，遠離豎直推桿的一端設有往上延伸的上支撐桿72。上支撐桿及下支撐桿豎直設置。下支撐桿上設有自下而上橫截面逐漸增大的導向錐體77。導向錐體的軸線豎直設置。導向圓環(huán)位于豎直上導套與豎直下導套之間，且導向圓環(huán)與導向錐體的高度相對應。水平推桿上、位于水平導套與豎直推桿之間設有限位擋塊73。水平推桿位于水平導套與限位擋塊之間設有可使導向錐體抵靠在導向圓環(huán)上的壓縮彈簧74。上支撐桿上、位于放置平板上方設有往圓形限位槽中心延伸的抱緊塊71。抱緊塊上、朝向裝樣盒體的側面為豎直延伸的圓柱面，且該圓柱面的直徑與裝樣盒體外側面的直徑相同。放置平板上設有往上延伸的環(huán)形限位套。圓形限位槽位于環(huán)形限位套內(nèi)。環(huán)形限位套上設有若干與抱緊塊一一對應的避讓缺口，所述抱緊塊可穿過避讓缺口。
[0024]豎直推桿外側面上、位于豎直下導套上方設有環(huán)形限位凸塊79。豎直校驗頂桿外側面上設有上限位塊713及下限位塊716。上限位塊位于豎直上導套上方。下限位塊位于豎直上導套下方。如圖1所示，當環(huán)形限位凸塊抵靠在豎直下導套上端時，所述抱緊塊抵靠在裝樣盒體外側面上，同時，豎直推桿上端與豎直校驗頂桿之間設有間隙。當上限位塊位抵靠在豎直上導套上端時，豎直校驗頂桿的上端位于圓形限位槽底面的下方。如圖3所示，當下限位塊位抵