5]本發(fā)明中使用的梳型電極104的特征在于:總面積為1.8mm2?4mm2、電極間距離G小于50 μ m、工作電極1042的電極寬度W-1為5 μ m?50 μ m、對(duì)電極1044的電極寬度W_2為5 μπι?100 μm，或者進(jìn)一步特征在于，電極個(gè)數(shù)為60?300個(gè)。需要說(shuō)明的是，本發(fā)明中所述的總面積是指工作電極1042及對(duì)電極1044的梳型形狀的齒的部分中沒(méi)有被隔板108覆蓋的部分的合計(jì)面積。另外，電極個(gè)數(shù)是指工作電極1042及對(duì)電極1044的梳型形狀的所述齒的總個(gè)數(shù)。
[0046]若該總面積小于1.8mm2,則信號(hào)會(huì)變得微弱，相反若超過(guò)4_2，則不僅不能充分抑制血細(xì)胞比容的影響，還會(huì)增加采血量，因此患者負(fù)擔(dān)也會(huì)加大，因而不是優(yōu)選的。
[0047]若電極間距離G為50 μπι以上，則不能充分抑制血細(xì)胞比容的影響，因而不是優(yōu)選的。
[0048]若工作電極1042的電極寬度W-1小于5 ym，則信號(hào)會(huì)變得微弱，相反若超過(guò)50 μ m，則不能充分抑制血細(xì)胞比容的影響，因而不是優(yōu)選的。
[0049]若對(duì)電極1044的電極寬度W-2小于5 μ m，則信號(hào)會(huì)變得微弱，相反若超過(guò)100 μ m，則不能充分抑制血細(xì)胞比容的影響，因而不是優(yōu)選的。
[0050]從提高本發(fā)明效果的觀點(diǎn)出發(fā)，更優(yōu)選的是，本發(fā)明中使用的梳型電極104的總面積為1.8mm2?3.0mm2、電極間距離G為5 μπι?30 μπι、工作電極1042的電極寬度W-1為5 μ m?30 μ m、對(duì)電極1044的電極寬度W-2為5 μ m?70 μ m、電極個(gè)數(shù)為150?300個(gè)。
[0051]另外，作為構(gòu)成梳型電極104的貴金屬，可列舉金、銀、鉑、鈀、銠、銥、釕、鋨，從提高本發(fā)明效果的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選為金。
[0052]本發(fā)明中使用的梳型電極104(例如)可通過(guò)下面的方法形成。
[0053](I)使用通過(guò)絲網(wǎng)印刷形成的印刷掩模的方法
[0054]圖3為通過(guò)使用經(jīng)絲網(wǎng)印刷形成的印刷掩模的方法來(lái)制造梳型電極104的工序的圖。
[0055]首先，準(zhǔn)備電絕緣性基板[圖3(a)]，通過(guò)濺射、真空蒸鍍、鍍覆等手段將構(gòu)成梳型電極的貴金屬在電絕緣性基板上形成貴金屬膜[圖3(b)]。
[0056]然后，使用絲網(wǎng)印刷法在所述電極膜上以梳型形狀印刷抗蝕劑[圖3(c)]，并進(jìn)行蝕刻[圖3(d)]。
[0057]最后，通過(guò)利用剝離液等除去抗蝕劑，從而完成梳型電極[圖3 (e)]。
[0058](2)使用經(jīng)光刻法形成的掩模的方法
[0059]圖4為示出通過(guò)使用經(jīng)光刻法形成的掩模的方法來(lái)制造梳型電極104的工序的圖。
[0060]首先，準(zhǔn)備電絕緣性基板[圖4(a)]，通過(guò)濺射、真空蒸鍍、鍍覆等手段將構(gòu)成梳型電極的貴金屬在電絕緣性基板上形成貴金屬膜[圖4(b)]。
[0061]然后，利用旋涂、噴涂、絲網(wǎng)印刷、干膜粘貼等手段在所述貴金屬膜上涂布或者粘貼抗蝕劑[圖4 (c)]，并隔著光掩模進(jìn)行曝光[圖4 (d)]。
[0062]接著，對(duì)形成梳型電極的部分以外的抗蝕劑以及貴金屬膜進(jìn)行蝕刻[圖4(e)以及(f)]。
[0063]最后，通過(guò)利用剝離液等除去形成梳型電極的部分的抗蝕劑，從而完成梳型電極[圖 4 (g)]。
[0064](3)使用金屬掩模的方法
[0065]圖5為示出通過(guò)使用金屬掩模的方法來(lái)制造梳型電極104的工序的圖。
[0066]首先，準(zhǔn)備電絕緣性基板[圖5(a)]，在基板上疊置[圖5(c)]除去了要制造的電極圖案后的模板(稱為金屬掩模)[圖5(b)]，通過(guò)濺射、真空蒸鍍、鍍覆等手段對(duì)構(gòu)成電極的貴金屬進(jìn)行處理以形成電極[圖5(d)]，從而在電絕緣性基板上形成貴金屬膜。接著，通過(guò)除去金屬掩模，從而完成電極[圖5(e)]。
[0067](4)剝離技術(shù)
[0068]圖12為示出通過(guò)剝離技術(shù)來(lái)制造梳型電極104的工序的圖。
[0069]首先，準(zhǔn)備絕緣性基板[圖12(a)]，利用絲網(wǎng)印刷法以平板型形狀在未形成電極的部分上印刷抗蝕劑[圖12(b)]，并干燥。
[0070]然后，通過(guò)濺射、真空蒸鍍、鍍覆等手段在印刷有抗蝕劑的基板上將構(gòu)成電極的貴金屬形成貴金屬膜[圖12(c)]。
[0071]最后，通過(guò)用剝離液等除去抗蝕劑，從而除去了抗蝕劑以及在抗蝕劑上形成的貴金屬膜，從而完成電極[圖12(d)]。
[0072]在本發(fā)明中，從能夠以良好的精度形成所期望的梳型形狀、并且包括電極邊緣部位的表面的凹凸較少的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選采用所述(2)的使用經(jīng)光刻法形成的掩模的方法。
[0073]實(shí)施例
[0074]以下，通過(guò)實(shí)施例和比較例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明，但本發(fā)明不限于下述例子。
[0075]實(shí)驗(yàn)例I
[0076]目的:通過(guò)光刻法制作的梳型金電極的評(píng)價(jià)
[0077]1.CV值的測(cè)定
[0078]2.各種血細(xì)胞比容值(以下稱為Ht值)對(duì)傳感器響應(yīng)的影響的研宄
[0079]使用均勻溶液體系中的來(lái)自馬血的Ht，對(duì)梳型金電極評(píng)價(jià)
[0080]實(shí)驗(yàn):
[0081 ] 通過(guò)使用經(jīng)光刻法形成的掩模的方法所制作的梳型金電極的評(píng)價(jià)
[0082]準(zhǔn)備3個(gè)經(jīng)光刻法制作的帶有隔板的梳型金電極(IDA)。
[0083](1)20 μπι IDA(工作電極的寬度/對(duì)電極的寬度/電極間距離=20 μ m/20 μ m/20 μ m、工作電極以及對(duì)電極的總個(gè)數(shù)=72個(gè)、工作電極以及對(duì)電極的電極總面積=2.2mm2)
[0084](2)50 μπι IDA(工作電極的寬度/對(duì)電極的寬度/電極間距離=50 μ m/50 μ m/50 μ m、工作電極以及對(duì)電極的總個(gè)數(shù)=28個(gè)、工作電極以及對(duì)電極的電極總面積=2.0mm2)
[0085](3)80 μπι IDA(工作電極的寬度/對(duì)電極的寬度/電極間距離=80 μ m/80 μ m/80 μ m、工作電極以及對(duì)電極的總個(gè)數(shù)=18個(gè)、工作電極以及對(duì)電極的電極總面積=2.2mm2)
[0086]另外，還準(zhǔn)備I個(gè)通過(guò)使用經(jīng)絲網(wǎng)印刷形成的印刷掩模的方法所制作的帶有隔板的梳型金電極(IDA)。
[0087](4)印刷掩模50μπι IDA(工作電極的寬度/對(duì)電極的寬度/電極間距離=50 μ m/50 μ m/50 μ m、工作電極以及對(duì)電極的總個(gè)數(shù)=28個(gè)、工作電極以及對(duì)電極的電極總面積=2.0mm2)
[0088]在這些各個(gè)電極上粘貼形成了容量為0.8 μ L(5X2X0.08mm3)的毛細(xì)結(jié)構(gòu)的密封物(覆蓋膜)從而制作毛細(xì)結(jié)構(gòu)，并進(jìn)行以下研宄。
[0089]1.CV值的測(cè)定
[0090]制備最終濃度為1mM Potassium ferrocyanide (亞鐵氛化鉀)、90mM Potassiumferricyanide (鐵氰化鉀)、10mM磷酸鉀緩沖液(以下稱為P.P.B) (pH7.5)的溶液。將所制備的混合液涂布在OV vs.CCP的電極上的毛細(xì)結(jié)構(gòu)中。自涂布在電極上起5秒鐘后，施加+200mV的電位，并測(cè)定20秒內(nèi)的電流值。(以Sampling(取樣)10Hz(10點(diǎn)/秒)進(jìn)行測(cè)定)
[0091]在同樣條件下使用10個(gè)電極進(jìn)行測(cè)定，由所得電流值算出CV值((標(biāo)準(zhǔn)偏差/平均值)X 100) O
[0092]2.使用來(lái)自馬血的Ht的均勻溶液體系中的Ht對(duì)電流值的影響
[0093]用PBS(_)對(duì)馬保存血液(日本八'彳才亍只卜，Cat N0.0103-1)進(jìn)行5次洗滌(1000g，10分鐘)。向洗滌后的血液樣品中添加用磷酸緩沖生理鹽水(以下稱為PBS(-))調(diào)整的基質(zhì)以使得液體成分的濃度為571.4mg/dL葡萄糖，從而制備Ht30的樣品。
[0094]對(duì)Ht30的樣品進(jìn)行離心分離(1000g、4°C、10分鐘)，除去上清液的一部分，從而制備Ht56、Ht49、Ht42、Ht21的樣品。將離心分離后的上清液作為HtO的樣品。向除HtO以外的樣品中添加用PBS(-)調(diào)整了的葡萄糖溶液，從而制備使得反應(yīng)液中的液體成分的最終濃度為400mg/dL。
[0095]以反應(yīng)液中的最終濃度為黃素腺嘌呤二核苷酸依賴性葡萄糖脫氫酶(以下稱為FAD ⑶ H) IU/ UL(通過(guò)使用了吩嘆硫酸甲醋(Phenazine methosulfate，PMS)以及 2，6_ 二氯青定酸(2, 6-dichlorophenol indophenol，DCIP)的 PMS-DCIP體系中的 40mM葡萄糖中的活性值進(jìn)行計(jì)算)、10mM鐵氰化鉀、10mM P.P.B.(pH7.5)的方式制備酶-介質(zhì)混合液，相對(duì)于該混合液1.5 μ L，添加如上所述制備的400mg/dL葡萄糖、Ht0、Ht21、Ht42、Ht49、Ht56的基質(zhì)-Ht溶液3.5 μ L，將其作為反應(yīng)液。向毛細(xì)結(jié)構(gòu)中添加反應(yīng)液，并施加+200mV的電位從而測(cè)定20秒內(nèi)的電流值。(在測(cè)定前，施加OV vs.CCP 5秒鐘，以Sampling(取樣)1Hz (10點(diǎn)/秒)進(jìn)行測(cè)定)
[0096]結(jié)果:
[0097]1.經(jīng)光刻法制作的梳型金電極(以下也稱為IDA)的CV值的測(cè)定
[0098]將電流值的測(cè)定結(jié)果示