會在一個方 向上顯示更隨機的特征。
[0088] ?粗糙表面在傾角φχ上的變化較大，并顯示大的高斯分布S3。
[0089] ?傾角Φχ對于大多數(shù)焦點區(qū)域相似的表面顯示較小的S3和較大的S2。這看起來 像光澤表面，但并不十分像鏡面。
[0090] ?同樣，可以在在角（J)glciss的一個方向更光澤而在角Φ gk]SS的另一個方向更像鏡 面。
[0091] ?最后，當聚焦區(qū)域幾何形狀變平時，即Az和f較小時（< λ/10)，表面會變成 鏡面。
[0092] 然后，通過傅里葉變換S (u，V)沿著長軸方位角Φ gauss及其垂直方向進行切割，所 述表面參數(shù)進一步減少。高斯剖面被擬合到上述特征中，并表示為：
[0093] 長軸切割（major axis cut) :alp，a2p，a3p，a4p (圖 3);
[0094] 短軸切割（minor axis cut) :alm，a2m，a3m〇
[0095] 在變換S的中心的最大強度表示為amax。需要注意這些值以dB表示。然后計算 結(jié)構(gòu)參數(shù)為：
[0096] I. amax_a3p =高斯噪聲部分，即與總返回強度相比的寬帶噪聲的量。
[0097] 2. (amax_a3p)/(amax_a3m)=高斯噪聲的不對稱性。
[0098] 3. Ogauss =非對稱結(jié)構(gòu)的角度。
[0099] 4. a4p_a3p =與高斯噪聲相比的結(jié)構(gòu)線的數(shù)量。
[0100] 5. a2p_a3p =光澤度。
[0101] 然后，這些參數(shù)或者映射在樣品表面上，或者單獨用于樣品的4X4mm光斑測試。
[0102] 然后，可以將這些參數(shù)反饋回拋光處理從而確定后續(xù)的拋光步驟。
[0103] 為了在用于確定表面的定量精度的裝置中執(zhí)行該方法動作，在一些實施例中所述 裝置可以包括或者可連接到處理電路，該處理電路還可以稱為處理模塊或處理器。所述處 理電路可以被構(gòu)造為執(zhí)行此處的實施例中所描述的該方法動作的圖像處理和分析步驟。
[0104] 用于確定表面的定量精度的實施例可以通過一個或多個處理器來執(zhí)行，例如包含 在或可連接到圖1中所描述的裝置的處理電路，連同用于執(zhí)行此處的實施例的功能和動作 的計算機程序代碼。上述程序代碼也可以作為計算機程序產(chǎn)品來提供，例如以承載有計算 機程序代碼或代碼工具的數(shù)據(jù)載體的形式，所述計算機程序代碼或代碼工具在裝載到處理 電路中時用于執(zhí)行此處的實施例。所述計算機程序代碼可以例如作為純程序代碼提供在所 述處理電路中，或者提供在服務(wù)器上并下載到所述處理電路中。所述載體可以是電子信號、 光學信號、無線電信號或者計算機可讀存儲介質(zhì)之一，例如像RAM，ROM、閃存、磁帶、CD-ROM、 DVD、藍光光盤等這些電子存儲器。
[0105] 因此，所述裝置可以進一步包括或者可連接到存儲器，其可以被稱為或者包括一 個或多個存儲模塊或單元。所述存儲器可以設(shè)置為用于存儲可執(zhí)行指令和數(shù)據(jù)，從而在可 執(zhí)行指令和數(shù)據(jù)在所述處理電路中被執(zhí)行時可以實施此處描述的方法。本領(lǐng)域的技術(shù)人員 還將理解，上述處理電路和存儲器可以指模擬電路和數(shù)字電路的組合，和/或一個或多個 配置有軟件和/或固件的處理器（例如可以存儲在存儲器中），該軟件和/或固件在被一個 或多個處理器（諸如所述處理電路）執(zhí)行時可以實施上述方法。一個或多個這些處理器和 其它數(shù)字硬件可以包含在單一的專用集成電路（ASIC)或者幾個處理器中，各種數(shù)字硬件 可以分布在幾個獨立的元件中，要么單獨封裝要么組合到一個片上系統(tǒng)（SoC)中。
[0106] 因此，還提出了一種包含指令的計算機程序，所述指令在至少一個處理器（例如 上述處理電路）上執(zhí)行時，可以使所述至少一個處理器執(zhí)行上述用于確定表面的定量精度 的方法。另外，還提出了一種包含所述計算機程序的載體，其中所述載體是電子信號、光學 信號、無線電信號或者計算機可讀存儲介質(zhì)之一。
[0107] 此處的實施例并不限于上述優(yōu)選實施例?？梢允褂枚喾N替換、改進和等同物。因 此，上述實施例不應(yīng)解釋為限制。
【主權(quán)項】
1. 一種用于定量測量區(qū)域的表面精度的方法，包括： -將單色平光波引導(dǎo)向預(yù)定義的表面區(qū)域； -用聚焦在所述表面區(qū)域上的相機和透鏡系統(tǒng)來記錄反射光的圖像； -從記錄的圖像中推導(dǎo)處表面精度參數(shù)； 其特征在于所述表面精度參數(shù)按照下面的方法來確定： -獲得所記錄的圖像的傅里葉變換； -將預(yù)先確定的傅里葉分量擬合到所述傅里葉變換的傅里葉譜；其中沿著所述傅里葉 變換的長軸和跨過所述傅里葉變換的短伸長軸來將所述傅里葉分量確定為至少一個大高 斯分量和所述譜的一個峰； -根據(jù)所述傅里葉分量來確定所述表面區(qū)域的表面精度參數(shù)。2. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述單色平光波被垂直或以小于6度的角度引導(dǎo)向 所述表面區(qū)域。3. 如權(quán)利要求1或2所述的方法，其中所述相機和透鏡系統(tǒng)被設(shè)置為垂直地朝向所述 表面區(qū)域或以小于6度的角度朝向所述表面區(qū)域。4. 如權(quán)利要求1-3的任何一項所述的方法，其中所述反射光和所述相機和透鏡系統(tǒng)的 光軸之間的角度差小于6度。5. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中更多的分量被沿著長軸擬合，作為： _作為所述峰的基礎(chǔ)的寬高斯分量； -中心最大值外的分量峰。6. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中更多的分量被擬合到長軸和短軸，作為： _大高斯分量的長軸和短軸的指標； -長軸的方向； -最大值中心外的分量峰的方向。7. 如權(quán)利要求1-6的任何一項所述的方法，其中中心峰最大值減去所述長軸的大高斯 分量來定義拋光的質(zhì)量。8. 如權(quán)利要求1-7的任何一項所述的方法，其中峰附近的寬高斯分量減去所述大高斯 分量來定義表面的光澤度。9. 如權(quán)利要求1-8的任何一項所述的方法，其中沿著長伸長軸的大高斯分量除以由沿 著所述短軸的大高斯分量來定義表面的對稱性。10. 如前述權(quán)利要求的任何一項所述的方法，其中所述長軸的方向表示所述表面的結(jié) 構(gòu)線的方向，中心最大峰之外的分量峰的大小指示結(jié)構(gòu)線。11. 如前述權(quán)利要求的任何一項所述的方法，其中聚焦像素區(qū)域的直徑小于100個波 長。12. 如前述權(quán)利要求的任何一項所述的方法，其中表面觀察成像區(qū)域的直徑大于4000 個波長。13. 如前述權(quán)利要求的任何一項所述的方法，其中光具有300-1500納米的光學波長或 紅外波長。14. 一種用于定量測量區(qū)域的表面精度的裝置，所述裝置包括： -用于產(chǎn)生被沿著光路引導(dǎo)的光束的光源； -被設(shè)置為沿著所述光路在所述光源的下游的擴束器； -用于在擴束器下游的光路中定位材料的定位裝置； -用于檢測反射光束的成像檢測器，其被設(shè)置為沿著所述光路在所述材料的下游。
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種定量測量區(qū)域的表面精度的方法。該方法包括將單色平光波朝向預(yù)設(shè)表面區(qū)域引導(dǎo)，用聚焦在所述表面區(qū)域上的相機和透鏡系統(tǒng)記錄反射光，從記錄的圖像中推導(dǎo)出表面精度參數(shù)。所述方法的特征在于通過獲得所記錄的圖像的傅里葉變換來確定所述表面精度參數(shù)。然后，將預(yù)先確定的傅里葉分量擬合到所述傅里葉變換的傅里葉譜，其中沿著所述傅里葉變換的長軸和跨過所述傅里葉變換的短伸長軸來將所述傅里葉分量確定為至少一個大高斯分量和所述譜的一個峰。然后，從所述傅里葉分量確定所述表面區(qū)域的表面精度參數(shù)。
【IPC分類】G01B11/30, G01N21/956
【公開號】CN105008853
【申請?zhí)枴緾N201480008843
【發(fā)明人】L·博特
【申請人】Qso干涉系統(tǒng)股份公司
【公開日】2015年10月28日
【申請日】2014年2月10日
【公告號】CA2897751A1, EP2956743A1, WO2014126526A1