進行分析時可用性的提高。
[0128]<2.第二實施例>
[0129]下面描述了根據(jù)本公開第二實施例的微粒分析系統(tǒng)。圖19是示出信息處理裝置3的配置實例的框圖。除了在信息處理裝置3的數(shù)據(jù)提取單元300上設(shè)置了多項式近似處理單元304，根據(jù)該實施例的微粒分析系統(tǒng)與根據(jù)本公開第一實施例的上述微粒分析系統(tǒng)基本類似。因此，這里將僅討論多項式近似處理單元304的配置和功能。雖然圖19沒有示出顯示調(diào)節(jié)單元302，但是顯示調(diào)節(jié)單元302可以被設(shè)置在根據(jù)第二實施例的微粒分析系統(tǒng)的信息處理裝置3上。另外，雖然多項式近似處理單元304設(shè)置在數(shù)據(jù)提取單元300上，但是與在本公開的第一實施例中詳細說明的處理類似的處理可以由數(shù)據(jù)提取單元300執(zhí)行。
[0130](多項式近似處理單元304)
[0131]在從數(shù)據(jù)獲取單元301獲取的光譜數(shù)據(jù)選擇性地提取包含預定信息的光譜數(shù)據(jù)時，多項式近似處理單元304將光譜數(shù)據(jù)近似成多項式。即使在數(shù)據(jù)獲取單元301獲取的光譜數(shù)據(jù)包含對最大熒光強度表現(xiàn)出接近波長的兩種或兩種以上的光譜數(shù)據(jù)時，該方法也允許容易地分離光譜數(shù)據(jù)。
[0132]關(guān)于用于光譜數(shù)據(jù)的近似多項式?jīng)]有特別限制。例如，多項式近似處理單元304的近似可以基于線性數(shù)據(jù)到光譜數(shù)據(jù)的擬合來進行，上述線性數(shù)據(jù)對應于預先存儲在存儲單元38中的多項式。例如，當多項式上的線性數(shù)據(jù)的像素數(shù)與多項式上的線性數(shù)據(jù)可與光譜數(shù)據(jù)擬合時的像素數(shù)之間的比率變成特殊比率或更大時，多項式近似處理單元304允許光譜數(shù)據(jù)近似為對應多項式。
[0133]當用于近似的多項式是線性方程時，可以僅僅基于在分離多個光譜數(shù)據(jù)時線性方程的斜率容易地確定各個光譜。因此，多項式優(yōu)選的是線性方程。
[0134]多項式近似處理單元304可以通過近似成多項式近似數(shù)據(jù)獲取單元301以預定時間間隔獲取的多個光譜數(shù)據(jù)中的每一個。當多項式是線性方程時，基于多項式近似處理單元304處理的線性方程的斜率的變化，用戶識別諸如細胞的微粒隨時間的變化；并且利用微粒的變化用于細胞等的特性分析。諸如數(shù)據(jù)獲取單元301獲取光譜數(shù)據(jù)的時間間隔的條件沒有特別限制，而是例如可以根據(jù)用戶需求基于用戶輸入信息任意確定。
[0135][操作]
[0136]下面描述了根據(jù)該實施例的微粒分析系統(tǒng)的操作實例。圖20是示出信息處理裝置3執(zhí)行的光譜數(shù)據(jù)的多項式近似處理方法的概要的流程圖。
[0137]開始，類似于根據(jù)本公開第一實施例的上述微粒分析系統(tǒng)，數(shù)據(jù)獲取單元301經(jīng)由輸入/輸出接口單元34獲取微粒測量裝置2檢測的多個波長中的每一個的熒光強度作為光譜數(shù)據(jù)(步驟S21)。然后，顯示單元37顯示光譜數(shù)據(jù)(步驟S22)。
[0138]隨后，多項式近似處理單元304將光譜數(shù)據(jù)近似成多項式(步驟S23)。在該情況下，進行近似的光譜數(shù)據(jù)可以是已經(jīng)被根據(jù)本公開第一實施例的微粒分析系統(tǒng)的數(shù)據(jù)提取單元300或者顯示調(diào)節(jié)單元302處理的數(shù)據(jù)。更具體地，首先，數(shù)據(jù)提取單元300選擇性地提取多個光譜數(shù)據(jù)，光譜數(shù)據(jù)均指示預先設(shè)置的波長范圍中的最大熒光強度。然后，多項式近似處理單元304將所提取的多個光譜數(shù)據(jù)近似成多項式。
[0139]這里參照圖21描述光譜數(shù)據(jù)近似成多項式的具體實例。圖21是示出光譜數(shù)據(jù)到多項式的近似的實例的視圖。
[0140]開始，如圖21的A中所示，數(shù)據(jù)獲取單元301獲取光譜數(shù)據(jù)。在該情況下，數(shù)據(jù)提取單元300可以選擇性地提取多個光譜數(shù)據(jù)，該多個光譜數(shù)據(jù)均指示預先設(shè)置的波長范圍中的最大焚光強度。
[0141]然后，如圖21的B中所示，多項式近似處理單元304將光譜數(shù)據(jù)擬合成線性數(shù)據(jù)(見圖中的參考標號L)。如圖21的C中所示，該方法允許將光譜數(shù)據(jù)近似成代表該行的預定多項式(y = k+ax+bx2+cx3…)。線性數(shù)據(jù)可以是預先存儲在存儲單元38中的數(shù)據(jù)。多項式近似處理單元304能夠選擇可以以特殊比率或較大比率與光譜數(shù)據(jù)擬合的行。在該上下文中，對于特殊比率沒有限制。例如，其可以是多項式上的線性數(shù)據(jù)的像素數(shù)與多項式上的線性數(shù)據(jù)可以與光譜數(shù)據(jù)擬合時的像素數(shù)的比率。通過顯示調(diào)節(jié)單元302，允許在顯示單元37上顯示多項式的信息(圖20中的步驟S24)。
[0142]然后，允許多項式近似處理單元304將已經(jīng)由數(shù)據(jù)獲取單元301以預定時間間隔從同一測量對象獲取的多個光譜數(shù)據(jù)中的每一個都近似成多項式。更具體地，以預定時間間隔重復與在步驟S21至S24中執(zhí)行的上述處理類似的處理?；诙囗検较禂?shù)等隨時間的變化，用戶可以分析對應于測量對象的微粒特征隨時間的變化。
[0143]圖22是示出兩種光譜數(shù)據(jù)之間的重疊狀態(tài)的實例的視圖。優(yōu)選地，多項式近似處理單元304用于光譜數(shù)據(jù)的近似的多項式是線性方程?；诠庾V數(shù)據(jù)到線性方程的近似以及多項式近似處理單元304執(zhí)行的線性方程的唯一斜率的評價，可以實現(xiàn)光譜數(shù)據(jù)之間的容易區(qū)分。優(yōu)選地，線性方程的行在與目標光譜數(shù)據(jù)中的最大熒光強度對應的波長與光譜數(shù)據(jù)的曲線接觸。
[0144]根據(jù)圖22中示出的實例，多項式近似處理單元304能夠?qū)ψ畲鬅晒鈴姸缺憩F(xiàn)出接近波長的兩種光譜數(shù)據(jù)近似成兩個線性方程(y = ax+b, y = cx+d)。然后，多項式近似處理單元304能夠基于方程的斜率a和c的信息區(qū)分這兩種光譜數(shù)據(jù)。用戶可以僅基于方程斜率的信息容易地分析測量對象。通過顯示調(diào)節(jié)單元302，允許在顯示單元37上顯示該斜率的ig息。
[0145]圖23是示出光譜數(shù)據(jù)到線性方程的近似的實例的視圖。多項式近似處理單元304能夠?qū)D23的A中獲取的光譜數(shù)據(jù)近似成兩種線性方程(y = a0x+b0, y = a^+bi)，上述兩種線性方程在如圖23的B所示的熒光強度的峰值彼此接觸。如這里所討論的，可以為每個光譜數(shù)據(jù)獲取兩種線性方程。因此，在區(qū)分兩種光譜數(shù)據(jù)時，當通過近似兩種光譜數(shù)據(jù)中的任一種而獲取的兩個線性方程的斜率之一指示接近另一光譜數(shù)據(jù)的對應值的值時，可以通過比較另一線性方程，可以區(qū)分這兩種光譜數(shù)據(jù)。
[0146]如上所述，根據(jù)該實施例的微粒分析系統(tǒng)將光譜數(shù)據(jù)近似成多項式。該方法允許容易地區(qū)分和分離對于最大熒光強度表現(xiàn)出接近波長的兩種或多種光譜數(shù)據(jù)。另外，根據(jù)該實施例的微粒分析系統(tǒng)容易地分析對應于測量對象的微粒隨時間的特性變化。此外，根據(jù)該實施例的微粒分析系統(tǒng)執(zhí)行實施例中詳細描述的將光譜數(shù)據(jù)近似成多項式的處理、以及在本公開的第一實施例中詳細描述的數(shù)據(jù)提取單元300執(zhí)行的處理。因此，可以實現(xiàn)多種光譜數(shù)據(jù)的更精確分離。
[0147]<3.第三實施例>
[0148]以下描述了根據(jù)本公開第三實施例的微粒分析系統(tǒng)。圖24是示出根據(jù)該實施例的微粒分析系統(tǒng)基于光譜數(shù)據(jù)進行分類的概念的視圖。根據(jù)該實施例的微粒分析，如在圖24中所示，基于從多種光譜數(shù)據(jù)提取的光譜數(shù)據(jù)，允許將微粒分類。除了基于光譜數(shù)據(jù)允許將微粒分類，根據(jù)本實施例的微粒分析系統(tǒng)與根據(jù)第一和第二實施例的微粒分系統(tǒng)中的每一個大致類似。因此，這里僅描述了不同的配置和功能。
[0149]圖25是示出根據(jù)第三實施例的微粒分析系統(tǒng)的整體操作的概要的流程圖。開始，數(shù)據(jù)獲取單元301經(jīng)由輸入/輸出接口單元34獲取示出微粒測量裝置2檢測的多個波長中的每一個的熒光強度的光譜數(shù)據(jù)(步驟S31)。然后，數(shù)據(jù)提取單元300以與根據(jù)本公開第一實施例的上述方法類似的方式提取所需的光譜數(shù)據(jù)(步驟S32)。微粒測量裝置2的分類單元21基于所提取的光譜數(shù)據(jù)執(zhí)行分類(步驟S33)。
[0150]如上所述，根據(jù)該實施例的微粒分析系統(tǒng)基于光譜數(shù)據(jù)提取處理執(zhí)行微粒分類處理。因此，可以實現(xiàn)微粒的精確分類。
[0151]<4.第四實施例>
[0152]下文描述了根據(jù)本公開第四實施例的微粒分析系統(tǒng)。圖26是示出根據(jù)該實施例的微粒分析系統(tǒng)的輪廓的視圖。根據(jù)該實施例的微粒分析系統(tǒng)使用不同的裝置用于分類并檢測微粒以及用于分析微粒。更具體地，微粒分析裝置I包括分類并檢測顆粒的微粒測量裝置2以及執(zhí)行數(shù)據(jù)分析的西信息處理裝置3。
[0153]微粒測量裝置2分類并檢測微粒。微粒測量裝置2包括將微粒分類的分類單元和用于檢測微粒的熒光的檢測單元。這里的分類單元和檢測單元的配置和功能與根據(jù)本公開第一實施例的微粒分析系統(tǒng)的分類單元21和檢測單元22的配置和功能大致類似。
[0154]信息處理裝置3的配置與根據(jù)本公開第一實施例的信息處理裝置3的配置類似。在該實施例中的其他配置和效果與本公開的第一實施例至第三實施例的對應配置和效果類似。
[0155]僅通過實例的方式給出了本文中所描述的效果。因此，本公開所產(chǎn)生的效果不限于本文中所描述的那些，而是可以包括其他效果。
[0156]本公開可以具有如下配置。
[0157](I) 一種微粒分析裝置，包括數(shù)據(jù)提取單元，所述數(shù)據(jù)提取單元從關(guān)于從微粒發(fā)出的熒光的光譜數(shù)據(jù)選擇性地提取包含預定信息的光譜數(shù)據(jù)。
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