被測定物的測定方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種被測定物的測定方法。更詳細(xì)而言，涉及一種測定方法，在具有空隙部的空隙配置構(gòu)造體中保持被測定物，通過向該空隙配置構(gòu)造體照射電磁波，對由空隙配置構(gòu)造體進(jìn)行了散射的電磁波的特性進(jìn)行檢測，從而測定被測定物的有無或者被測定物的量。
【背景技術(shù)】
[0002]以往，為了對物質(zhì)的特性進(jìn)行分析，使用下述測定方法，S卩，在空隙配置構(gòu)造體中保持被測定物，向該保持了被測定物的空隙配置構(gòu)造體照射電磁波，對其透射頻譜等進(jìn)行解析而測定被測定物的有無或者被測定物的量。具體而言，例如，可舉出向附著于金屬網(wǎng)過濾器的蛋白質(zhì)等被測定物照射太赫茲波并對透射頻譜進(jìn)行解析的方法。
[0003]作為使用了這種電磁波的透射頻譜的解析方法的現(xiàn)有技術(shù)，專利文獻(xiàn)1(日本特開2008-185552號公報(bào))中公開了下述測定方法，S卩，朝著具有保持了被測定物的空隙區(qū)域的空隙配置構(gòu)造體(具體而言，是網(wǎng)狀的導(dǎo)體板)，相對于與空隙配置構(gòu)造體的主面垂直的方向從傾斜方向照射電磁波，對透過了空隙配置構(gòu)造體的電磁波進(jìn)行測定，基于在測定值的頻率特性中產(chǎn)生的谷波形(r 4、7 7°波形)的位置由于被測定物的存在而移動，對被測定物的特性進(jìn)行檢測。
[0004]以往，在使用該測定方法對檢測體中包含的被測定物進(jìn)行測定的情況下，通常，首先從檢測體中提取出被測定物，然后，在將提取出的被測定物保持在空隙配置構(gòu)造體中的狀態(tài)下，進(jìn)行利用電磁波的測定。因此，在測定之前，需要另外的被測定物的提取工序，存在用于測定的作業(yè)工序增加的問題。
[0005]另外，例如，在使用濾膜等從液體或氣體等檢測體中過濾提取被測定物的情況下，需要利用轉(zhuǎn)印等將提取出的被測定物轉(zhuǎn)移到空隙配置構(gòu)造體中的工序，但由于難以將提取出的被測定物全部移動到空隙配置構(gòu)造體中，所以有時測定結(jié)果具有較大的偏差。
[0006]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0007]專利文獻(xiàn)
[0008]專利文獻(xiàn)1:日本特開2008-185552號公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]發(fā)明要解決的課題
[0010]本發(fā)明鑒于上述情況，目的在于提供一種被測定物的測定方法，能夠消除需要從檢測體中提取被測定物的情況下的作業(yè)工序的增加、測定結(jié)果的偏差等問題，以簡便的工序高精度地測定檢測體中包含的被測定物。
[0011]用于解決課題的手段
[0012]本發(fā)明是一種測定方法，對由混合物構(gòu)成的檢測體中包含的至少1種被測定物的有無或被測定物的量進(jìn)行測定，包含:
[0013]第1捕捉工序，使用第1空隙配置構(gòu)造體，在所述第1空隙配置構(gòu)造體中對作為所述被測定物的1種的第1被測定物進(jìn)行捕捉，所述第1空隙配置構(gòu)造體具有相互對置的一對主面，具有貫穿兩個主面的多個空隙部；
[0014]第2捕捉工序，使用第2空隙配置構(gòu)造體，對所述檢測體中包含的所述被測定物以外的夾雜物、或者作為與所述第1被測定物種類不同的被測定物的第2被測定物進(jìn)行捕捉，所述第2空隙配置構(gòu)造體具有相互對置的一對主面，具有貫穿兩個主面的多個空隙部，空隙部的大小以及表面的修飾狀態(tài)中的至少任一者與所述第1空隙配置構(gòu)造體不同；以及
[0015]測定工序，在所述第1捕捉工序以及所述第2捕捉工序之后，向所述第1空隙配置構(gòu)造體、或者向所述第1空隙配置構(gòu)造體及所述第2空隙配置構(gòu)造體，照射電磁波，對由所述第1空隙配置構(gòu)造體、或者由所述第1空隙配置構(gòu)造體及所述第2空隙配置構(gòu)造體進(jìn)行了散射的電磁波的特性進(jìn)行檢測。
[0016]優(yōu)選所述第1空隙配置構(gòu)造體的空隙部的大小是所述第1被測定物不能通過或者難以通過的大小。另外，優(yōu)選所述第1空隙配置構(gòu)造體的表面進(jìn)行了修飾，從而使所述第1被測定物容易吸附。
[0017]優(yōu)選所述第1捕捉工序在所述第2捕捉工序之后實(shí)施。
[0018]優(yōu)選所述第2空隙配置構(gòu)造體的空隙部的大小是所述夾雜物或所述第2被測定物不能通過或者難以通過的大小、且是所述第1被測定物能夠通過的大小。另外，優(yōu)選所述第2空隙配置構(gòu)造體的表面進(jìn)行了修飾，從而使所述夾雜物或所述第2被測定物容易吸附，并且使所述第1被測定物難以吸附。
[0019]優(yōu)選所述第1捕捉工序以及所述第2捕捉工序通過下述操作實(shí)施，即，將所述第1空隙配置構(gòu)造體以及所述第2空隙配置構(gòu)造體串聯(lián)地進(jìn)行配置，使所述檢測體從所述第2空隙配置構(gòu)造體側(cè)流過，從而通過所述第1空隙配置構(gòu)造體以及所述第2空隙配置構(gòu)造體。
[0020]優(yōu)選所述檢測體是液體或氣體。另外，優(yōu)選所述被測定物是液體中的微生物或細(xì)胞，或者氣體中的無機(jī)物、有機(jī)物或者它們的復(fù)合物。
[0021]發(fā)明效果
[0022]在本發(fā)明中，通過將空隙配置構(gòu)造體兼用作捕捉設(shè)備和測定設(shè)備，從而能夠利用簡便的工序高精度地對檢測體中包含的被測定物進(jìn)行測定。另外，通過使用多個種類的空隙配置構(gòu)造體，能夠同時測定多個被測定物，或者對于包含夾雜物的檢測體也能夠選擇性地對被測定物進(jìn)行測定。
【附圖說明】
[0023]圖1是用于說明本發(fā)明中使用的空隙配置構(gòu)造體的構(gòu)造的示意圖。
[0024]圖2是用于說明本發(fā)明中的測定工序的一個例子的概要的示意圖。
[0025]圖3是用于說明實(shí)施方式1的測定方法的示意圖。
[0026]圖4是用于說明實(shí)施方式2的測定方法的示意圖。
[0027]圖5是用于說明實(shí)施例2的測定方法的示意圖。
[0028]圖6是表示實(shí)施例1的測定結(jié)果的曲線圖。
[0029]圖7是表示實(shí)施例1的測定結(jié)果與實(shí)測值的回歸直線的圖。
[0030]圖8是實(shí)施例1中的空隙配置構(gòu)造體的SEM拍攝圖像。
[0031]圖9是比較例1中的空隙配置構(gòu)造體的SEM拍攝圖像。
[0032]圖10是用于與實(shí)施例1以及比較例1有關(guān)的說明的剖視示意圖。
[0033]圖11是表示實(shí)施例1以及比較例1的透射率頻譜的圖。
[0034]圖12是用于說明實(shí)施例2中的空隙配置構(gòu)造體的表面修飾的示意圖。
[0035]圖13是表示實(shí)施例2的測定結(jié)果的曲線圖。
【具體實(shí)施方式】
[0036]本發(fā)明的測定方法是對由混合物構(gòu)成的檢測體中包含的至少1種被測定物的有無或者被測定物的量進(jìn)行測定的方法。
[0037]在此，所謂“由混合物構(gòu)成的檢測體”，例如是包含多種被測定物的檢測體、包含至少1種被測定物和至少1種夾雜物的檢測體。
[0038]另外，所謂“對被測定物的有無或者被測定物的量進(jìn)行測定”，是進(jìn)行液體或氣體等檢測體中包含的作為被測定物的化合物的定量，例如，可以舉出對溶液中等的微量的被測定物的含有量進(jìn)行測定的情況、進(jìn)行被測定物的鑒定的情況等。檢測體優(yōu)選是液體或氣體。另外，被測定物優(yōu)選是液體中的微生物或細(xì)胞，或者氣體中的無機(jī)物、有機(jī)物或它們的復(fù)合物。作為氣體中的無機(jī)物、有機(jī)物或它們的復(fù)合物，例如可舉出大氣中的PM2.5、SPM、PM10、花粉等。
[0039]此外，所謂PM (Particle Matter) 2.5，是在大氣中浮游的粒子狀物質(zhì)，粒子直徑大概在2.5 μ m以下，但嚴(yán)格地說，是透過能夠以50 %的比例收集粒子直徑為2.5 μ m的粒子的分粒裝置的微粒。PM2.5被認(rèn)為對呼吸系統(tǒng)疾病、循環(huán)系統(tǒng)疾病、以及肺癌疾病產(chǎn)生影響。另外，SPM (Suspended Particulate Matter)是透過能夠以50%的比例收集粒子直徑為7 μ m的粒子的分粒裝置的微粒。另外，PMi。是透過能夠以50%的比例收集粒子直徑為10 μπι的粒子的分粒裝置的微粒。
[0040]本發(fā)明的測定方法的特征在于，基本上包含:
[0041]第1捕捉工序，使用第1空隙配置構(gòu)造體，在所述第1空隙配置構(gòu)造體中對作為所述被測定物的1種的第1被測定物進(jìn)行捕捉，所述第1空隙配置構(gòu)造體具有相互對置的一對主面，具有貫穿兩個主面的多個空隙部；
[0042]第2捕捉工序，使用第2空隙配置構(gòu)造體，對所述檢測體中包含的所述被測定物以外的夾雜物、或者作為與所述第1被測定物種類不同的被測定物的第2被測定物進(jìn)行捕捉，所述第2空隙配置構(gòu)造體具有相互對置的一對主面，具有貫穿兩個主面的多個空隙部，空隙部的大小以及表面的修飾狀態(tài)中的至少任一者與所述第1空隙配置構(gòu)造體不同；以及
[0043]測定工序，在所述第1捕捉工序以及所述第2捕捉工序之后，向所述第1空隙配置構(gòu)造體、或者所述第1空隙配置構(gòu)造體及所述第2空隙配置構(gòu)造體，照射電磁波，對由所述第1空隙配置構(gòu)造體、或者所述第1空隙配置構(gòu)造體及所述第2空隙配置構(gòu)造體進(jìn)行了散射的電磁波的特性進(jìn)行檢測。
[0044]在第1捕捉工序中，所謂對第1被測定物進(jìn)行“捕捉”，例如是指將第1空隙配置構(gòu)造體用作過濾器而在第1空隙配置構(gòu)造體的空隙部內(nèi)保持第1被測定物、在按照使第1被測定物容易吸附的方式進(jìn)行了修飾的第1空隙配置構(gòu)造體的表面使第1被測定物直接或間接地進(jìn)行附著。在第2捕捉工序中，對夾雜物或第2被測定物進(jìn)行“捕捉”的情況也是同樣的。