到10 4量級。
[0036] (3)濺射過程 向濺射室(樣品室）充氬氣，調(diào)節(jié)流量計至氣體流量顯示為12sCCm，再通過閥門調(diào)節(jié)濺 射室(樣品室）內(nèi)真空度為（3~5)Pa，以有利于起輝。
[0037] (4)打開直流濺射總電源，按下直流濺射開關(guān)，調(diào)節(jié)電流電壓旋鈕，使得目標(biāo)靶能 夠逐漸起輝。起輝后，通過閥門調(diào)節(jié)濺射室(樣品室)內(nèi)真空度為〇.5Pa，調(diào)節(jié)電流電壓旋鈕 至設(shè)定的濺射功率為80W，再進行Pd電極濺射，濺射時間設(shè)定100S。濺射完畢后并機，取出 濺射完成的氧化鉬納米纖維紙氫氣傳感器。
[0038] 參考附圖8,采用上述方法得到的氧化鉬納米纖維紙氫氣傳感器實測響應(yīng)速度為 3. 5s〇
[0039] 實施例四： 1、選取30mmX20mm大小的氧化鉬納米纖維紙。
[0040] 2、選取與氧化鉬納米纖維紙相同大小的金屬掩膜版(如圖2所示)，所述金屬掩膜 版有4個大電極和12對小電極，采用該結(jié)構(gòu)有利于后續(xù)的測試與封裝。
[0041] 3、掩膜版的清洗：將所選金屬掩膜版先后用分析純丙酮、分板純乙醇和去離子水 超聲清洗30min，然后在溫度為60°C的空氣中烘20min，得到干凈、干燥的金屬掩膜版。
[0042] 本實施例中，超聲清洗器選用的是市售數(shù)控超聲波清洗器，清洗功率：40~100W。
[0043] 4、采用標(biāo)準(zhǔn)直流磁控濺射技術(shù)制備氧化膜納米纖維紙氫氣傳感器，其步驟如下： (1)放樣品：首先打磁控濺射設(shè)備，用紗布沾無水乙醇把濺射室(樣品室)和靶位清洗干 凈，再將需要濺射的靶材放在靶位中心并固定。然后把步驟1和2得到的規(guī)格為30mmX20 mm的氧化鉬納米纖維紙和金屬掩膜版依次固定在樣品架上，其中氧化鉬納米纖維紙放置 于下層，金屬掩膜版放在上層，按尺寸大小壓緊氧化鉬納米纖維紙，接著將樣品架卡在轉(zhuǎn)盤 上。然后封閉好濺射室(樣品室)。
[0044] (2)抽真空 啟用常規(guī)真空栗對濺射室(樣品室）進行抽氣。當(dāng)真空度在20Pa以下時，啟動分子栗 繼續(xù)對濺射室(樣品室）連續(xù)抽真空至濺射室(樣品室）內(nèi)真空度達到10 4量級。
[0045] (3)濺射過程 向濺射室(樣品室）充氬氣，調(diào)節(jié)流量計至氣體流量顯示為12sCCm，再通過閥門調(diào)節(jié)濺 射室(樣品室）內(nèi)真空度為（3~5)Pa，以有利于起輝。
[0046] (4)打開直流濺射總電源，按下直流濺射開關(guān)，調(diào)節(jié)電流電壓旋鈕，使得目標(biāo)靶能 夠逐漸起輝。起輝后，通過閥門調(diào)節(jié)濺射室(樣品室)內(nèi)真空度為〇.5Pa，調(diào)節(jié)電流電壓旋鈕 至設(shè)定的濺射功率為80W，再進行Pd電極濺射，濺射時間設(shè)定90S。濺射完畢后并機，取出 濺射完成的氧化鉬納米纖維紙氫氣傳感器。
[0047] 參考附圖9,采用上述方法得到的氧化鉬納米纖維紙氫氣傳感器實測響應(yīng)時間為 13s，恢復(fù)時間為30s。
[0048] 實施例五： 1、選取30mmX20mm大小的氧化鉬納米纖維紙。
[0049] 2、選取與氧化鉬納米纖維紙相同大小的金屬掩膜版(如圖2所示)，所述金屬掩膜 版有4個大電極和12對小電極，采用該結(jié)構(gòu)有利于后續(xù)的測試與封裝。
[0050] 3、掩膜版的清洗：將所選金屬掩膜版先后用分析純丙酮、分板純乙醇和去離子水 超聲清洗30min，然后在溫度為60°C的空氣中烘20min，得到干凈、干燥的金屬掩膜版。
[0051] 本實施例中，超聲清洗器選用的是市售數(shù)控超聲波清洗器，清洗功率：40~100W。
[0052] 4、采用標(biāo)準(zhǔn)直流磁控濺射技術(shù)制備氧化膜納米纖維紙氫氣傳感器，其步驟如下： (1)放樣品：首先打磁控濺射設(shè)備，用紗布沾無水乙醇把濺射室(樣品室)和靶位清洗干 凈，再將需要濺射的靶材放在靶位中心并固定。然后把步驟1和2得到的規(guī)格為30mmX20 mm的氧化鉬納米纖維紙和金屬掩膜版依次固定在樣品架上，其中氧化鉬納米纖維紙放置 于下層，金屬掩膜版放在上層，按尺寸大小壓緊氧化鉬納米纖維紙，接著將樣品架卡在轉(zhuǎn)盤 上。然后封閉好濺射室(樣品室)。
[0053] (2)抽真空 啟用常規(guī)真空栗對濺射室(樣品室）進行抽氣。當(dāng)真空度在20Pa以下時，啟動分子栗 繼續(xù)對濺射室(樣品室）連續(xù)抽真空至濺射室(樣品室）內(nèi)真空度達到10 4量級。
[0054] (3)濺射過程 向濺射室(樣品室）充氬氣，調(diào)節(jié)流量計至氣體流量顯示為12sCCm，再通過閥門調(diào)節(jié)濺 射室(樣品室）內(nèi)真空度為（3~5)Pa，以有利于起輝。
[0055] (4)打開直流濺射總電源，按下直流濺射開關(guān)，調(diào)節(jié)電流電壓旋鈕，使得目標(biāo)靶能 夠逐漸起輝。起輝后，通過閥門調(diào)節(jié)濺射室(樣品室)內(nèi)真空度為〇.5Pa，調(diào)節(jié)電流電壓旋鈕 至設(shè)定的濺射功率為70W，再進行Pt電極濺射，濺射時間設(shè)定100S。濺射完畢后并機，取出 濺射完成的氧化鉬納米纖維紙氫氣傳感器。
[0056] 實施例六： 1、選取30mmX20mm大小的氧化鉬納米纖維紙。
[0057] 2、選取與氧化鉬納米纖維紙相同大小的金屬掩膜版(如圖2所示)，所述金屬掩膜 版有4個大電極和12對小電極，采用該結(jié)構(gòu)有利于后續(xù)的測試與封裝。
[0058] 3、掩膜版的清洗：將所選金屬掩膜版先后用分析純丙酮、分板純乙醇和去離子水 超聲清洗30min，然后在溫度為60°C的空氣中烘20min，得到干凈、干燥的金屬掩膜版。
[0059] 本實施例中，超聲清洗器選用的是市售數(shù)控超聲波清洗器，清洗功率：40~100W。
[0060] 4、采用標(biāo)準(zhǔn)直流磁控濺射技術(shù)制備氧化膜納米纖維紙氫氣傳感器，其步驟如下： (1)放樣品：首先打磁控濺射設(shè)備，用紗布沾無水乙醇把濺射室(樣品室)和靶位清洗干 凈，再將需要濺射的靶材放在靶位中心并固定。然后把步驟1和2得到的規(guī)格為30mmX20 mm的氧化鉬納米纖維紙和金屬掩膜版依次固定在樣品架上，其中氧化鉬納米纖維紙放置 于下層，金屬掩膜版放在上層，按尺寸大小壓緊氧化鉬納米纖維紙，接著將樣品架卡在轉(zhuǎn)盤 上。然后封閉好濺射室(樣品室)。
[0061] (2)抽真空 啟用常規(guī)真空栗對濺射室(樣品室）進行抽氣。當(dāng)真空度在20Pa以下時，啟動分子栗 繼續(xù)對濺射室(樣品室）連續(xù)抽真空至濺射室(樣品室）內(nèi)真空度達到10 4量級。
[0062] (3)濺射過程 向濺射室(樣品室）充氬氣，調(diào)節(jié)流量計至氣體流量顯示為12sCCm，再通過閥門調(diào)節(jié)濺 射室(樣品室）內(nèi)真空度為（3~5)Pa，以有利于起輝。
[0063] (4)打開直流濺射總電源，按下直流濺射開關(guān)，調(diào)節(jié)電流電壓旋鈕，使得目標(biāo)靶能 夠逐漸起輝。起輝后，通過閥門調(diào)節(jié)濺射室(樣品室)內(nèi)真空度為〇.5Pa，調(diào)節(jié)電流電壓旋鈕 至設(shè)定的濺射功率為70W，再進行Pt電極濺射，濺射時間設(shè)定90S。濺射完畢后并機，取出 濺射完成的氧化鉬納米纖維紙氫氣傳感器。
[0064] 實施例七： 1、選取30mmX20mm大小的氧化鉬納米纖維紙。
[0065] 2、選取與氧化鉬納米纖維紙相同大小的金屬掩膜版(如圖2所示)，所述金屬掩膜 版有4個大電極和12對小電極，采用該結(jié)構(gòu)有利于后續(xù)的測試與封裝。
[0066] 3、掩膜版的清洗：將所選金屬掩膜版先后用分析純丙酮、分板純乙醇和去離子水 超聲清洗30min，然后在溫度為60°C的空氣中烘20min，得到干凈、干燥的金屬掩膜版。
[0067] 本實施例中，超聲清洗器選用的是市售數(shù)控超聲波清洗器，清洗功率：40~100W。
[0068] 4、采用標(biāo)準(zhǔn)直流磁控濺射技術(shù)制備氧化膜納米纖維紙氫氣傳感器，其步驟如下： (1)放樣品：首先打磁控濺射設(shè)備，用紗布沾無水乙醇把濺射室(樣品室)和靶位清洗干 凈，再將需要濺射的靶材放在靶位中心并固定。然后把步驟1和2得到的規(guī)格為30mmX20 mm的氧化鉬納