缺陷檢測(cè)系統(tǒng)和方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及用于檢測(cè)檢查對(duì)象體的缺陷的系統(tǒng)和方法。
【背景技術(shù)】
[0002]最近隨著圖像分析技術(shù)的發(fā)展，在制品的制造工序之間或者制造完成后，用照相機(jī)這樣的攝像設(shè)備捕捉制品的外觀的圖像，對(duì)其圖像進(jìn)行分析而檢測(cè)制品中是否存在缺陷的光學(xué)檢查方式已廣泛地使用。一般地，這樣的檢查方式中為了攝像，配置對(duì)制品進(jìn)行照明的光源。
[0003]光學(xué)檢查以檢查對(duì)象體(例如，偏光膜、光學(xué)膜、顯示面板、觸摸面板、印刷電路基板等)為基準(zhǔn)，根據(jù)如何配置光源和攝像設(shè)備，能夠劃分為透射光學(xué)系檢查和反射光學(xué)系檢查。韓國(guó)公開專利公報(bào)2009-0113885號(hào)公開了能夠在使用照相機(jī)的檢查中利用的照明系統(tǒng)，但這樣的照明系統(tǒng)適合透射光學(xué)系檢查。但是，檢查對(duì)象體具有比光反射率低的光透射率的情況下，或者檢查對(duì)象體在不具有狹縫的不透明的傳送帶上移送期間，難以應(yīng)用透射光學(xué)系檢查。另一方面，為了檢測(cè)不使光透過的檢查對(duì)象體上的缺陷，也有時(shí)使用正反射、邊界反射、同軸反射等光學(xué)系，但這樣的檢查方式存在不能良好地檢測(cè)幾種缺陷(例如，劃痕缺陷)的問題。因此，在反射光學(xué)系檢查中，要求用于用給予的攝像設(shè)備更正確地檢測(cè)這樣的缺陷的方法。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0005]專利文獻(xiàn)
[0006]專利文獻(xiàn):韓國(guó)公開專利公報(bào)第2009-0113885號(hào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]發(fā)明要解決的課題
[0008]本發(fā)明的目的在于提供對(duì)于光不易透過的檢查對(duì)象體上的缺陷(例如，劃痕缺陷)的檢測(cè)力提高的缺陷檢測(cè)系統(tǒng)。
[0009]本發(fā)明的目的在于提供這樣的缺陷檢測(cè)方法。
[0010]用于解決課題的手段
[0011]1.一種缺陷檢測(cè)系統(tǒng)，作為用于檢測(cè)光透射率比光反射率低的檢查對(duì)象體上的缺陷的系統(tǒng)，其包含:
[0012]對(duì)上述檢查對(duì)象體照射光的光源；
[0013]在上述光源與上述檢查對(duì)象體之間配置的光屏蔽掩模；和
[0014]接收從上述檢查對(duì)象體反射的光而捕捉上述檢查對(duì)象體的圖像的攝像設(shè)備。
[0015]2.根據(jù)上述I的缺陷檢測(cè)系統(tǒng)，其中，還包含在上述光源與上述光屏蔽掩模之間配置的聚光透鏡。
[0016]3.根據(jù)上述I的缺陷檢測(cè)系統(tǒng)，其中，上述檢查對(duì)象體包含ITO層。
[0017]4.根據(jù)上述3的缺陷檢測(cè)系統(tǒng)，其中，相對(duì)于上述檢查對(duì)象體的表面的上述光源的光照射角度為30。?60。，相對(duì)于上述表面的上述攝像設(shè)備的攝像角度為30。?60
O
O
[0018]5.根據(jù)上述I的缺陷檢測(cè)系統(tǒng)，其中，還包含由上述圖像檢測(cè)上述檢查對(duì)象體上的缺陷的缺陷檢測(cè)部。
[0019]6.根據(jù)上述5的缺陷檢測(cè)系統(tǒng)，其中，上述缺陷為劃痕缺陷。
[0020]7.根據(jù)上述I的缺陷檢測(cè)系統(tǒng)，其中，上述光源為L(zhǎng)ED光源。
[0021]8.一種缺陷檢測(cè)方法，作為用于檢測(cè)光透射率比光反射率低的檢查對(duì)象體上的缺陷的方法，其包含:
[0022]提供對(duì)上述檢查對(duì)象體照射光的光源的階段；
[0023]在上述光源與上述檢查對(duì)象體之間配置光屏蔽掩模的階段；和
[0024]使用接收從上述檢查對(duì)象體反射的光的攝像設(shè)備而獲得上述檢查對(duì)象體的圖像的階段。
[0025]9.根據(jù)上述8的缺陷檢測(cè)方法，其中，還包含在上述光源與上述光屏蔽掩模之間配置聚光透鏡的階段。
[0026]10.根據(jù)上述8的缺陷檢測(cè)方法，其中，上述檢查對(duì)象體包含ITO層。
[0027]11.根據(jù)上述10的缺陷檢測(cè)方法，其中，相對(duì)于上述檢查對(duì)象體的表面的上述光源的光照射角度為30。?60。，相對(duì)于上述表面的上述攝像設(shè)備的攝像角度為30。?60
O
O
[0028]12.根據(jù)上述8的缺陷檢測(cè)方法，其中，還包含由上述圖像檢測(cè)上述檢查對(duì)象體上的缺陷的階段。
[0029]13.根據(jù)上述12的缺陷檢測(cè)方法，其中，上述缺陷為劃痕缺陷。
[0030]14.根據(jù)上述8的缺陷檢測(cè)方法，其中，上述光源為L(zhǎng)ED光源。
[0031]發(fā)明的效果
[0032]根據(jù)本發(fā)明的缺陷檢測(cè)系統(tǒng)和方法能夠?qū)⒂糜跈z測(cè)光不易透過的檢查對(duì)象體上的缺陷(例如，劃痕缺陷)的反射光學(xué)系檢查的性能最大化。
【附圖說明】
[0033]圖1為表示根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的缺陷檢測(cè)系統(tǒng)的圖。
[0034]圖2為用于說明根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的缺陷檢測(cè)系統(tǒng)中來自光源的光被光屏蔽掩模散射的圖。
[0035]圖3為用于說明使用根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的缺陷檢測(cè)系統(tǒng)對(duì)檢查對(duì)象體的缺陷檢測(cè)的結(jié)果的圖。
[0036]圖4-圖6為用于說明根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的缺陷檢測(cè)系統(tǒng)中邊調(diào)節(jié)光屏蔽掩模的寬度、檢查對(duì)象體與光源之間的距離和來自光源的光量邊對(duì)檢查對(duì)象體的缺陷檢測(cè)的結(jié)果的圖。
[0037]圖7為用于說明根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的缺陷檢測(cè)系統(tǒng)中邊調(diào)節(jié)光照射角度和攝像角度邊對(duì)檢查對(duì)象體的缺陷檢測(cè)的結(jié)果的圖。
【具體實(shí)施方式】
[0038]以下參照附圖對(duì)本發(fā)明的具體的實(shí)施例進(jìn)行說明。但是，其只不過是例示，本發(fā)明并不受其限制。
[0039]本發(fā)明的實(shí)施例的說明中，對(duì)于與本發(fā)明關(guān)聯(lián)的公知的技術(shù)的具體的說明判斷為不必要地可使本發(fā)明的主旨模糊不清的情況下省略其詳細(xì)的說明。而且，后述的用語是考慮本發(fā)明中的功能而定義的用語，其有時(shí)因用戶、運(yùn)用者的意圖或慣例等而變化。因此，其定義必須基于本說明書的全部?jī)?nèi)容。
[0040]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的缺陷檢測(cè)系統(tǒng)，作為用于檢測(cè)光透射率比光反射率低的檢查對(duì)象體(例如，不透明材料)上的缺陷的系統(tǒng)，包含:對(duì)上述檢查對(duì)象體照射光的光源；在上述光源與上述檢查對(duì)象體之間配置的光屏蔽掩模；和接收從上述檢查對(duì)象體反射的光而捕捉上述檢查對(duì)象體的圖像的攝像設(shè)備，能夠?qū)⒂糜跈z測(cè)光不易透過的檢查對(duì)象體上的缺陷(例如，劃痕缺陷)的反射光學(xué)系檢查的性能最大化。
[0041]圖1為表示根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的缺陷檢測(cè)系統(tǒng)的圖。圖1是從檢查對(duì)象體150的寬度方向觀看缺陷檢測(cè)系統(tǒng)100的側(cè)面圖。
[0042]圖1的缺陷檢測(cè)系統(tǒng)100適合對(duì)檢查對(duì)象體150進(jìn)行檢查、檢測(cè)檢查對(duì)象體150上的缺陷。例如，圖1中，缺陷檢測(cè)系統(tǒng)100能夠邊使檢查對(duì)象體150(例如，使用不透明的傳送帶這樣的移送手段向右側(cè))移動(dòng)邊對(duì)檢查對(duì)象體150進(jìn)行檢查。此外，檢查對(duì)象體150的光反射率比檢查對(duì)象體150的光透射率大的情形(例如，檢查對(duì)象體150為不透明材料的情形)下，利用了缺陷檢測(cè)系統(tǒng)100的反射光學(xué)系檢查與透過光學(xué)系檢查相比，使更正確的缺陷檢測(cè)成為可能。例如，檢查對(duì)象體150可以是包含ITO(氧化銦錫)層的基板。
[0043]如圖1中圖示那樣，缺陷檢測(cè)系統(tǒng)100包含光源110、光屏蔽掩模120和攝像設(shè)備130。此外，缺陷檢測(cè)系統(tǒng)100能夠還包含聚光透鏡140。
[0044]光源110以對(duì)檢查對(duì)象體150照射光的方式構(gòu)成。因此，為了攝像設(shè)備130的攝像，缺陷檢測(cè)系統(tǒng)100能夠使用光源110對(duì)檢查對(duì)象體150照明。例如，缺陷檢測(cè)系統(tǒng)100能夠還包含控制部(未圖示)，該控制部使得利用光源110對(duì)檢查對(duì)象體150提供光。幾個(gè)實(shí)施例中，這樣的控制部為了光源110的光量的調(diào)節(jié)、光源110的光照射角度的調(diào)節(jié)等，能夠提供與用于控制光源110的用戶輸入的接收相適合的用戶界面。
[0045]在相關(guān)領(lǐng)域中，在光學(xué)檢查中使用的光源可無特別限制地作為光源110使用。例如，LED 燈(Light Emitting D1de Lamp)、金屬齒化物燈(Metal Halide Lamp)這樣的齒素?zé)簟晒鉄?、白熾電燈泡等可作為光?10使用。此外，對(duì)從光源110照射的光的種類并無特別限定，作為例子，能夠列舉白色光、綠色光、青色光、紅色光、紅外線、這些的適當(dāng)?shù)慕M合等。此外，光源110可以是長(zhǎng)邊或短邊具有片狀制品的寬度以上的長(zhǎng)度或者一邊具有片狀制品的寬度以上的長(zhǎng)度的正方形狀。另一方面，可通過檢查對(duì)象體150的移送速度對(duì)從光源110照射光的時(shí)區(qū)間進(jìn)行調(diào)節(jié)。
[0046]根據(jù)幾個(gè)實(shí)施例，可使用用于收集從光源110射出的光的聚光透鏡140。將這樣的聚光透鏡140配置在光源110與光屏蔽掩模120之間?？蛇m當(dāng)?shù)剡x擇聚光透鏡140的形態(tài)、材質(zhì)和焦點(diǎn)距離這樣的光學(xué)特性，并無特別限制。
[0047]如圖1中圖不那樣，將光屏蔽掩模120配置在光源110與檢查對(duì)象體150之間。光屏蔽掩模120只要適合于將從光源110發(fā)出的光的一部屏蔽，則對(duì)其種類和形態(tài)并無特別限定。例如，光屏蔽掩模120可以是適當(dāng)?shù)膶挾鹊暮谏M縫。
[0048]圖2為用于說明根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的缺陷檢測(cè)系統(tǒng)中來自光源的光被光屏蔽掩模散射的圖。
[0049]如圖2中圖示那樣，光屏蔽掩模120將經(jīng)過聚光透鏡140而入射到光屏蔽掩模12