組分及氣體分壓。由于EUV輻照材料測試設(shè)備長時間工作后樣品腔室C通過流量調(diào)節(jié)閥(未示出)流入氣體分析單元C5的氣體會累積，破壞氣體分析單元C5的正常工作環(huán)境壓力，因此，本實(shí)用新型將氣體分析單元C5通過閥門(未示出)與收集鏡腔室B的真空栗單元BI相連。這樣，當(dāng)氣體分析單元C5中工作氣壓過高時，可以開啟真空栗單元B1、打開氣體分析單元C5與真空栗單元BI之間的閥門(未示出)，讓真空栗單元BI直接對氣體分析單元C5的工作管道抽氣，確保氣體分析單元C5能夠正常工作。
[0028]為使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合具體實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。
[0029]圖3是本實(shí)用新型的適合EUV輻照材料測試設(shè)備的抽真空系統(tǒng)的一個實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖3所示，該裝置分為EUV光源腔室真空系統(tǒng)(圖中I部分)、收集鏡腔室真空系統(tǒng)(圖中II部分)、樣品腔室真空系統(tǒng)(圖中III部分)。
[0030]EUV光源腔室真空系統(tǒng)(圖中I部分)，包括與EUV光源腔室A連接的真空栗單元Al和真空計(jì)單元A2。在該實(shí)施例中，如但不限如的舉例，真空栗單元Al采用“主栗+前級栗”的方式對EUV光源腔室A抽真空，主栗選為分子栗All，前級栗選為機(jī)械栗A12。在分子栗All和EUV光源腔室A之間為一個插板閥A13 ;在分子栗All和機(jī)械栗A12之間用三通連接，三通的第三端口通過閥門A14 (如角閥)連接到EUV光源腔室A上；各栗組、閥門、三通之間用柔性波紋管連接。真空計(jì)單元A2包括第一真空計(jì)A21和第二真空計(jì)A22，二者均直接安裝到EUV光源腔室A上，用于測量EUV光源腔室A的真空度，第一真空計(jì)A21和第二真空計(jì)A22分別為大量程粗精度的粗測真空計(jì)和小量程高精度的精測真空計(jì)，如但不限如的舉例，第一真空計(jì)A21為普通規(guī)管(測量范圍從超高真空到I個大氣壓以上)，第二真空計(jì)A22為薄膜規(guī)管(測量范圍包含EUV光源腔室A的工作壓力范圍)。
[0031]當(dāng)從I個大氣壓開始對EUV光源腔室A抽真空時，先打開角閥A14，用機(jī)械栗A12對EUV光源腔室A進(jìn)行旁抽，通過觀測普通規(guī)管A21當(dāng)抽到約1Pa左右的壓力時，打開分子栗All和插板閥A13并關(guān)閉角閥A14對EUV光源腔室A進(jìn)行主抽，直至抽到要求的真空壓力。
[0032]該實(shí)施例中，EUV光源腔室A還包括工作氣體源單元，工作氣體源單元包括工作氣體氣瓶A51，減壓閥門A52和截止閥門A53。此外，可在截止閥門A53和EUV光源腔室A間加一個流量控制單元(圖中未畫出)，以精確控制流入到EUV光源腔室A的流量。對DPP光源，工作氣體氣瓶A51中一般為Xe氣或者Xe和&的混合氣體，可通過薄膜規(guī)管A22的示數(shù)用該流量控制單元調(diào)節(jié)工作氣體氣瓶A51中工作氣體進(jìn)入到EUV光源腔室A中的進(jìn)氣量。
[0033]如前所述，在EUV光源腔室A和收集鏡腔室B之間通過第一插板閥A3連接，在第一插板閥A3上有通氣管道，第一插板閥A3通過該管道與第一氣源A4連通。第一氣源A4包括氣瓶A41、減壓閥門A42和截止閥門A43，氣瓶A41依次通過減壓閥門A42和截止閥門A43與第一插板閥A3連接?？稍诮刂归y門A43和第一插板閥A3之間連接一個流量控制單元(圖中未畫出)用來調(diào)節(jié)氣體進(jìn)氣量。這樣，當(dāng)EUV光源開始工作時，第一插板閥A3打開，第一氣源A4向第一插板閥A3注入緩沖氣體并流入其兩端的光源腔室A和收集鏡腔室B，氣瓶A41內(nèi)為對EUV輻照吸收率較小的緩沖氣體，如H2氣、Ar氣或He氣，或者至少兩種緩沖氣體的混合氣體，用于阻止產(chǎn)生EUV輻照時附帶產(chǎn)生的污染物由EUV光源腔室A向收集鏡腔室B擴(kuò)散。當(dāng)EUV光源不工作且需要打開EUV光源腔室A時，氣瓶A41內(nèi)為干燥N2氣，用于保持EUV光源腔室A的清潔，有效減少真空恢復(fù)時間。
[0034]收集鏡腔室真空系統(tǒng)(圖中II部分)包括與收集鏡腔室B連接的真空栗單元BI和真空計(jì)單元B2。如但不限如的舉例，真空栗單元BI也采用“主栗+前級栗”的方式對收集鏡腔室B抽真空，主栗選為分子栗BI I，前級栗選為機(jī)械栗B12。在分子栗Bll和收集鏡腔室B之間為一個插板閥B13 ;在分子栗Bll和機(jī)械栗B12之間用三通連接，三通的第三端口通過閥門B14(如角閥)連接到收集鏡腔室B上；各栗組、閥門、三通之間用柔性波紋管連接。真空計(jì)單元B2包括第一真空計(jì)B21和第二真空計(jì)B22，二者均直接安裝到收集鏡腔室B上，用于測量收集鏡腔室B的真空度，第一真空計(jì)B21和第二真空計(jì)B22分別為大量程粗精度的粗測真空計(jì)和小量程高精度的精測真空計(jì)，如但不限如的舉例，第一真空計(jì)B21為普通規(guī)管(測量范圍從超高真空到I個大氣壓以上)，第二真空計(jì)B22為薄膜規(guī)管(測量范圍包含收集鏡腔室B的工作壓力范圍)。當(dāng)從I個大氣壓開始對收集鏡腔室B抽真空時，先打開角閥B14，用機(jī)械栗B12對收集鏡腔室B進(jìn)行旁抽，通過觀測普通規(guī)管B21當(dāng)抽到約1Pa左右的壓力時，打開分子栗Bll和插板閥B13并關(guān)閉角閥B14對收集鏡腔室B進(jìn)行主抽，直至抽到要求的真空壓力。
[0035]如前所述，在收集鏡腔室B和樣品腔室C之間通過第二插板閥B3連接，在第二插板閥B3上有通氣管道，第二插板閥B3通過該管道與第二氣源B4連通。第二氣源B4包括氣瓶B41、減壓閥門B42和截止閥門B43，氣瓶B41依次通過減壓閥門B42和截止閥門B43與第二插板閥B3連接?？稍诮刂归y門B43和第二插板閥B3之間連接一個流量控制單元(圖中未畫出)用來調(diào)節(jié)氣體進(jìn)氣量。當(dāng)EUV光源開始工作時，第一插板閥A3和第二插板閥B3打開，收集鏡腔室B中的收集鏡開始接收并反射EUV輻照，同時第二氣源B4向第二插板閥B3注入緩沖氣體并流入其兩端的收集鏡腔室B和樣品腔室C，氣瓶B41內(nèi)為對EUV輻照吸收率較小的緩沖氣體，如H2氣、Ar氣或He氣，或者至少兩種緩沖氣體的混合氣體，用于阻止樣品腔室C中產(chǎn)生的污染物由樣品腔室C向收集鏡腔室B擴(kuò)散。當(dāng)該EUV輻照材料測試設(shè)備不工作且需要打開收集鏡腔室B時，氣瓶B41內(nèi)為干燥隊(duì)氣，用于保持收集鏡腔室清潔，有效減少真空恢復(fù)時間。
[0036]樣品腔室真空系統(tǒng)(圖中III部分)包括與樣品腔室C連接的真空栗單元Cl和真空計(jì)單元C2。如但不限如的舉例，真空栗單元Cl也用“主栗+前級栗”的方式對樣品腔室C抽真空，主栗選為分子栗C11，前級栗選為機(jī)械栗C12。在分子栗Cll和樣品腔室C之間為一個插板閥C13 ;在分子栗Cll和機(jī)械栗C12之間用三通連接，三通的第三端口通過閥門C14(如角閥)連接到樣品腔室C上；各栗組、閥門、三通之間用柔性波紋管連接。真空計(jì)單元C2包括第一真空計(jì)C21和第二真空計(jì)C22，二者均直接安裝到樣品腔室C上，用于測量樣品腔室C的真空度，第一真空計(jì)C21和第二真空計(jì)C22分別為大量程粗精度的粗測真空計(jì)和小量程高精度的精測真空計(jì)，如但不限如的舉例，第一真空計(jì)C21為普通規(guī)管(測量范圍從超高真空到I個大氣壓以上)，第二真空計(jì)C22為薄膜規(guī)管(測量范圍包含樣品腔室C的工作壓力范圍)。當(dāng)從I個大氣壓開始對樣品腔室C抽真空時，先打開角閥C14，用機(jī)械栗C12對樣品腔室C進(jìn)行旁抽，通過觀測普通規(guī)管C21當(dāng)抽到約1Pa左右的壓力時，打開分子栗Cll和插板閥C13并關(guān)閉角閥C14對樣品腔室C進(jìn)行主抽，直至抽到要求的真空壓力。
[0037]該實(shí)施例中，樣品腔室C還包括第三氣源，第三氣源包括氣瓶C41、減壓閥門C42和截止閥門C43，并且，可在截止閥門C43和樣品腔室C之間連接一個流量控制單元(圖中未畫出)用來調(diào)節(jié)氣體進(jìn)氣量。當(dāng)該EUV輻照材料測試設(shè)備不工作且需要打開樣品腔室C時，氣瓶C41內(nèi)為干燥隊(duì)氣，用于保持樣品腔室清潔，有效減少真空恢復(fù)時間。
[0038]該實(shí)施例中，氣體分析單元C5包括氣體分析儀C51、流量調(diào)節(jié)閥C52和第三真空計(jì)C53，氣體分析儀C51為四極質(zhì)譜計(jì)，流量調(diào)節(jié)閥C52為面密封閥，第三真空計(jì)C53為普通規(guī)管(測量范圍從超高真空到I個大氣壓以上)。四極質(zhì)譜計(jì)C51和樣品腔室C之間通過面密封閥C52連接，第三真空計(jì)C53連接到四極質(zhì)譜計(jì)C51。四極質(zhì)譜計(jì)C51的工作環(huán)境壓力需小于0.0lPa,而樣品腔室C中的工作氣壓一般為幾Pa量級，通過調(diào)節(jié)面密封閥C52的流導(dǎo)可控制樣品腔室C通過面密封閥C52流入四極質(zhì)譜計(jì)C51的氣體流量。
[0039]另外，在該實(shí)施例中，在四極質(zhì)譜計(jì)C51和收集鏡腔室B的真空栗單元BI之間通過閥門B5連接，該閥門B5例如為角閥。這樣，長時間工作后，樣品腔室C流入四極質(zhì)譜計(jì)C51的氣體會累積，破壞四極質(zhì)譜計(jì)C51的正常工作環(huán)境壓力，所以需要將四極質(zhì)譜計(jì)C51通過角閥B5與收集鏡腔室B的真空栗單元BI相連。如但不限如的舉例，在該實(shí)施例中，四極質(zhì)譜計(jì)C51接入插板閥B13和分子栗Bll之間。這樣，通過調(diào)節(jié)面密封閥C52和打開分子栗Bll和機(jī)械栗B12，使四極質(zhì)譜計(jì)C51保持正常工作，能夠監(jiān)測