連接孔6的出口連通。為了真空吸收裝置7與連接孔6的出口連通方便，優(yōu)選將連接孔6的出口設(shè)置在支撐部2的下端。真空吸收裝置7啟動(dòng)后，吸收孔5和連接孔6的內(nèi)部形成流向真空吸收裝置7的氣流，位于吸收孔5周圍的小顆粒8將被吸入吸收孔5，從而達(dá)到排出小顆粒8的目的。
[0040]容易理解的是，吸收孔5可以為圓孔或方孔，連接孔6可以為圓孔或方孔，只要便于形成即可。限位頂針I(yè)與支撐部2可以采用鑄造的方式連同吸收孔5與連接孔6—并形成，也可以先形成限位頂針I(yè)與支撐部2的實(shí)體，然后再通過(guò)鉆孔的方式形成吸收孔5與連接孔6。
[0041]在生產(chǎn)實(shí)踐中，摩擦產(chǎn)生的小顆粒8中，尺寸超過(guò)0.3μπι的小顆粒會(huì)很容易導(dǎo)致周圍器件損壞，因此，本實(shí)施例的頂針限位機(jī)構(gòu)的吸收孔5的最小口徑優(yōu)選范圍為1.5?
4.5mm，連接孔6的最小口徑的優(yōu)選范圍為0.8?3.5mm,以保證可能造成損壞的小顆粒都可以被吸收、排出。
[0042]為了使本實(shí)施例的頂針限位機(jī)構(gòu)能夠高效地吸收、排出小顆粒8，與吸收孔5連通的真空吸收裝置7優(yōu)選設(shè)置成能夠產(chǎn)生0.3?0.5Mpa的負(fù)壓。根據(jù)試驗(yàn)測(cè)得，這樣的頂針限位機(jī)構(gòu)能夠保證對(duì)小顆粒的有效吸收率在99%以上。
[0043]本實(shí)施例的頂針限位機(jī)構(gòu)具有三孔設(shè)計(jì)的限位頂針和開(kāi)設(shè)有連接孔的支撐部，并配備了真空吸收裝置，使該頂針限位機(jī)構(gòu)不僅能夠?qū)暹M(jìn)行支撐、固定起到限位的功能，還能夠吸收、排出摩擦產(chǎn)生的小顆粒，提高產(chǎn)品的良率。
[0044]實(shí)施例2:
[0045]本實(shí)施例提供一種頂針限位機(jī)構(gòu)，該頂針限位機(jī)構(gòu)與實(shí)施例1的頂針限位機(jī)構(gòu)具有類似的結(jié)構(gòu)，其與實(shí)施例1的區(qū)別在于:限位頂針的外形為柱狀，吸收孔開(kāi)設(shè)在限位頂針的上表面和/或側(cè)面。
[0046]圖5為本實(shí)施例的頂針限位機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖，如圖5所示，支撐部2、驅(qū)動(dòng)部3、連接孔6以及真空吸收裝置7的結(jié)構(gòu)位置均與實(shí)施例1中的相同，這里不再贅述。
[0047]本實(shí)施例中，限位頂針I(yè)的外形為柱狀，這里的柱狀可以是橫截面為圓形或多邊形的柱狀，優(yōu)選設(shè)計(jì)成橫截面為圓形的柱狀。限位頂針I(yè)的側(cè)面開(kāi)設(shè)有一個(gè)吸收孔5，限位頂針I(yè)的上表面也開(kāi)設(shè)有一個(gè)吸收孔5，這樣的限位頂針結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、便于生產(chǎn)制造，且吸收小顆粒8的效果較好。
[0048]圖6為限位頂針的另一種布置吸收孔的形式示意圖，如圖6所示，限位頂針I(yè)的側(cè)面可以設(shè)計(jì)成開(kāi)設(shè)有四個(gè)吸收孔5的結(jié)構(gòu)，四個(gè)吸收孔5以限位頂針I(yè)的中心線為中心均勻?qū)ΨQ分布。這樣的限位頂針不僅結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、便于生產(chǎn)制造，而且吸收小顆粒8的效果更佳。
[0049]當(dāng)然，限位頂針開(kāi)設(shè)吸收孔的形式不僅局限于上述兩種形式，也可以有其他類似的形式，例如，僅在上述限位頂針的側(cè)面或上表面開(kāi)設(shè)吸收孔，或者在上述限位頂針的側(cè)面或上表面開(kāi)設(shè)多個(gè)吸收孔、并按不同的形式排列吸收孔，或者將限位頂針設(shè)計(jì)成其他形狀、相應(yīng)地開(kāi)設(shè)吸收孔等，這些類似的變型方式與本實(shí)用新型的技術(shù)方案實(shí)質(zhì)相同，均該視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
[0050]實(shí)施例3:
[0051]本實(shí)施例提供一種頂針限位機(jī)構(gòu)，其具有與實(shí)施例1或?qū)嵤├?的頂針限位機(jī)構(gòu)類似的結(jié)構(gòu)，其與實(shí)施例1或?qū)嵤├?的區(qū)別在于:支撐部的側(cè)面開(kāi)設(shè)有吸收孔。
[0052]圖7為本實(shí)施例的頂針限位機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖，如圖7所示，限位頂針1、驅(qū)動(dòng)部3、連接孔6以及真空吸收裝置7的結(jié)構(gòu)位置均與實(shí)施例1中頂針限位機(jī)構(gòu)的相應(yīng)結(jié)構(gòu)相同，這里不再贅述。
[0053]本實(shí)施例中，支撐部2的側(cè)面開(kāi)設(shè)有一個(gè)吸收孔5。在測(cè)試過(guò)程中，少量沒(méi)有被限位頂針I(yè)上方的吸收孔5及時(shí)吸收的小顆粒8會(huì)向下墜落，由于位于限位頂針I(yè)下方的支撐部2同樣開(kāi)設(shè)有吸收孔5，因此當(dāng)向下墜落的小顆粒8到達(dá)支撐部2的吸收孔5附近時(shí)將會(huì)被吸收、排出，從而可以進(jìn)一步徹底吸收、排出摩擦產(chǎn)生的小顆粒8。
[0054]本實(shí)施例的頂針限位機(jī)構(gòu)不僅在限位頂針上開(kāi)設(shè)有吸收孔，還在支撐部上開(kāi)設(shè)有吸收孔，可實(shí)現(xiàn)多重吸收排出摩擦產(chǎn)生的小顆粒，進(jìn)一步提高了產(chǎn)品的良率。
[0055]實(shí)施例4:
[0056]本實(shí)施例提供一種測(cè)試設(shè)備，該測(cè)設(shè)設(shè)備包括實(shí)施例1?3任一一種頂針限位機(jī)構(gòu)。
[0057]本實(shí)施例的測(cè)試設(shè)備在對(duì)基板進(jìn)行測(cè)試的過(guò)程中，測(cè)設(shè)設(shè)備所包括的頂針限位機(jī)構(gòu)不僅能對(duì)基板起到支撐、固定的限位作用，還能吸收、排出因摩擦產(chǎn)生的大量顆粒，提高了產(chǎn)品的良率，避免了設(shè)備故障，減少了設(shè)備維護(hù)成本。
[0058]可以理解的是，以上實(shí)施方式僅僅是為了說(shuō)明本實(shí)用新型的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本實(shí)用新型并不局限于此。對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本實(shí)用新型的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種頂針限位機(jī)構(gòu)，包括限位頂針、支撐部、驅(qū)動(dòng)部，所述支撐部設(shè)置于所述驅(qū)動(dòng)部上方，所述限位頂針設(shè)置于所述支撐部上方，所述限位頂針以及所述支撐部隨所述驅(qū)動(dòng)部移動(dòng)，其特征在于，還包括真空吸收裝置，所述限位頂針開(kāi)設(shè)有吸收孔，所述支撐部開(kāi)設(shè)有連接孔，所述吸收孔通過(guò)所述連接孔與所述真空吸收裝置連通。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的頂針限位機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述限位頂針包括第一頂針部和位于所述第一頂針部上方的第二頂針部，所述第二頂針部的底端面積小于所述第一頂針部的頂端面積，所述第一頂針部的頂端未被所述第二頂針部覆蓋的區(qū)域開(kāi)設(shè)有至少一個(gè)所述吸收孔，所述第二頂針部的側(cè)面開(kāi)設(shè)有至少一個(gè)所述吸收孔。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的頂針限位機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述第一頂針部和所述第二頂針部的外形均為長(zhǎng)方體狀。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的頂針限位機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述限位頂針的外形為柱狀。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的頂針限位機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述限位頂針的側(cè)面開(kāi)設(shè)有至少一個(gè)所述吸收孔，和/或，所述限位頂針的頂端開(kāi)設(shè)有至少一個(gè)所述吸收孔。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的頂針限位機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述支撐部的外形為柱狀。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的頂針限位機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述連接孔的入口位于所述支撐部的上表面，所述連接孔的出口位于所述支撐部的側(cè)面，所述真空吸收裝置與所述連接孔的所述出口連通。8.根據(jù)權(quán)利要求1?7任一所述的頂針限位機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述支撐部的側(cè)面開(kāi)設(shè)有至少一個(gè)所述吸收孔。9.根據(jù)權(quán)利要求1?7任一所述的頂針限位機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述吸收孔為圓孔或方孔，所述連接孔為圓孔或方孔。10.一種測(cè)試設(shè)備，其特征在于，包括權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的頂針限位機(jī)構(gòu)。
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種頂針限位機(jī)構(gòu)和測(cè)試設(shè)備，屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域，其可解決現(xiàn)有的頂針限位機(jī)構(gòu)對(duì)基板限位時(shí)，由于反復(fù)摩擦產(chǎn)生大量小顆粒，從而影響產(chǎn)品良率和損壞設(shè)備的問(wèn)題。本實(shí)用新型的頂針限位機(jī)構(gòu)包括限位頂針、支撐部、驅(qū)動(dòng)部，所述支撐部設(shè)置于所述驅(qū)動(dòng)部上方，所述限位頂針設(shè)置于所述支撐部上方，所述限位頂針以及所述支撐部隨所述驅(qū)動(dòng)部移動(dòng)，還包括真空吸收裝置，所述限位頂針開(kāi)設(shè)有吸收孔，所述支撐部與所述吸收孔對(duì)應(yīng)的區(qū)域開(kāi)設(shè)有連接孔，所述吸收孔通過(guò)所述連接孔與所述真空吸收裝置連通。本實(shí)用新型的頂針限位機(jī)構(gòu)能夠有效吸收、排出摩擦產(chǎn)生的小顆粒，保證產(chǎn)品良率，避免設(shè)備損壞。
【IPC分類】G01D11/00
【公開(kāi)號(hào)】CN205280104
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201620005904
【發(fā)明人】袁洪光, 胡巖, 張宇, 趙吾陽(yáng), 魏悅, 王振, 姜偉, 任志明
【申請(qǐng)人】成都京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
【公開(kāi)日】2016年6月1日
【申請(qǐng)日】2016年1月4日