磁粉檢測測深孔型試塊的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型屬于磁粉檢測用試塊領(lǐng)域，具體涉及一種磁粉檢測測深孔型試塊。
【背景技術(shù)】
[0002]T(FD檢測由于技術(shù)的特殊性，在工件的上、下兩個表面會存在盲區(qū)。與下表面盲區(qū)相比，上表面盲區(qū)范圍更大，對檢測可靠性的影響也更大。在實際TOFD檢測中對上下表面盲區(qū)可輔以磁粉檢測，來減少上下表面盲區(qū)。
[0003]磁粉檢測適用于檢測鐵磁性材料表面和近表面缺陷；其檢測范圍為:1、鐵鎳基鐵磁性材料、未加工的原材料(如鋼坯)；2、加工的半成品、成品件及在役與使用過的工件;3、管材、棒材、板材、形材和鍛鋼件鑄鋼件及焊接件;4、工件表面和近表面的延伸方向與磁力線方向盡量垂直的缺陷，在此條件下其不適用于檢測延伸方向與磁力線方向夾角小于20度的缺陷;5、工件表面和近表面較小的缺陷，在此條件下不適用于檢測淺而寬的缺陷。
[0004]目前磁粉檢測的時候需要使用磁粉試塊的缺點為:無法確定檢測深度，故無法的得出缺陷的位置。
【實用新型內(nèi)容】
[0005]本實用新型旨在提供一種使用效果好的磁粉檢測測深孔型試塊。
[0006]為解決上述技術(shù)問題，本實用新型提供了如下技術(shù)方案:磁粉檢測測深孔型試塊，試塊上分布有數(shù)個相對試塊垂直設(shè)置的平底孔，每兩個平底孔之間的深度差最小為0.4?
0.6mm；平底孔的最小深度為2.4?2.6mm，平底孔的深度比試塊的高度差至少為0.9?1.lmm。
[0007]所述試塊呈長方體狀，試塊橫截面呈正方形，數(shù)個平底孔均勻分布于試塊的水平對稱軸和垂直對稱軸上；
[0008]數(shù)個平底孔的位置相對于試塊的中心點中心對稱;沿試塊的水平對稱軸和垂直對稱軸，從距離試塊中心點最近的4個平底孔到試塊外側(cè)的方向，平底孔的深度依次增加或者依次減小，相鄰平底孔之間的深度差為0.8?1.2mm;距離試塊的中心點最近的4個平底孔的深度分別為2.4?2.6mm、2.9?3.lmm、比試塊高度小0.9?1.lmm、比試塊高度小1.4~1.6mm0
[0009]距離試塊中心點最近的平底孔與試塊中心點之間的距離為6?10mm，相鄰平底孔之間的距離為4?6mm。
[0010]平底孔的直徑均為2mm。
[0011]所述試塊長度為200mm，寬度為200mm，高度為8mm ；
[0012]試塊上共有20個平底孔，距離試塊中心點最近的4個平底孔的深度分別為2.5mm、3mm、7mm、6.5mm；
[0013]在試塊的水平對稱軸上，從深度為2.5mm的平底孔起到試塊外側(cè)的方向，平底孔的深度分別為2.5mm、3.5mm、4.5mm、5.5mm、6.5mm；
[0014]在試塊的水平對稱軸上，從深度為7mm的平底孔起到試塊外側(cè)的方向，平底孔的深度分另lJ 為 7臟、6mm、5mm、4mm、3mm;
[0015]在試塊的垂直對稱軸上，從深度為6.5mm的平底孔起到試塊外側(cè)的方向，平底孔的深度分別為6.5mm、5.5mm、4.5mm、3.5mm、2.5mm；
[0016]在試塊的垂直對稱軸上，從深度為3mm的平底孔起到試塊外側(cè)的方向，平底孔的深度分另lJ 為 3mm、4mm、5mm、6mm、7mm。
[0017]通過以上技術(shù)方案，本實用新型的有益效果為:
[0018]1.平底孔相對于試塊垂直設(shè)置，從而準(zhǔn)確得出平底孔的深度;每兩個平底孔之間的深度差最小為0.4?0.6mm或為0.4?0.6mm的整數(shù)倍，從而使得試塊上分布足夠的平底孔，提高檢測深度的精度;平底孔的最深深度為比試塊高度小0.9?1.1mm，避免平底孔的深度與試塊高度之差過小造成平底孔穿透試塊的現(xiàn)象。
[0019]2.平底孔在水平對稱軸和垂直對稱軸上垂直分布，從而提高不同磁化方向?qū)θ毕莸臋z出率；
[0020]3.相鄰平底孔之間的距離為4?6_，避免了在平底孔之間出現(xiàn)較大的盲區(qū)；
[0021 ] 4.平底孔的直徑均為2mm，一次檢測即可完成對該深度的檢測，從而提高檢測靈敏度。
【附圖說明】
[0022]圖1為本實用新型結(jié)構(gòu)不意圖；
[0023]圖2為圖1左視圖。
【具體實施方式】
[0024]如圖1和圖2所示的磁粉檢測測深孔型試塊I，包括試塊I，試塊I呈長方體狀且試塊I的橫截面為正方形，試塊I的材質(zhì)與被檢測的材料的材質(zhì)相同或近似，以保證檢測結(jié)果的可參考性。
[0025]在試塊I上均勻分布有數(shù)個平底孔2，每兩個平底孔2的深度差為0.4-0.6mm，或為
0.4?0.6mm的整數(shù)倍，從而使得能夠測到試塊較多的深度。如果按平底孔2的深度進行排列，貝IJ相鄰平底孔2之間的深度差為0.4?0.6mm，提高了檢測深度精度的精確性。同時平底孔2均相對于試塊I垂直設(shè)置，從而提高不同磁化方向?qū)θ毕莸臋z出率。
[0026]對于平底孔2的位置限定如下:平底孔2在試塊I的水平對稱軸和垂直對稱軸上均勻分布。平底孔2的位置相對于試塊I的中心點中心對稱，從而使得平底孔2在試塊I上的分布更加整齊，便于磁粉檢測。距離試塊I中心點最近的平底孔2與試塊I中心點之間的距離為6?10_，相鄰平底孔2之間的距離為4?6mm，以充分提高檢測時涉及的范圍，避免了在平底孔之間缺陷磁痕顯示相互干擾。
[0027]對于平底孔2的直徑限定如下:平底孔2的直徑為2_，一次檢測即可完成對該深度的檢測，從而一方面提高磁粉檢測的靈敏度，另一方面使得試塊I上可以分布更多的平底孔2，提尚檢測深度精度。
[0028]對于平底孔2的深度限定如下:沿距離試塊I中心點最近的4個平底孔2到試塊I夕卜側(cè)的方向，平底孔2的深度依次增加或者依次減小，從而在進行磁粉檢測的時候可以得到一個逐漸變化的檢測深度。相鄰平底孔2的深度差為0.8?1.2mm，優(yōu)選為lmm;因磁粉檢測的檢測深度近似為I?2_，故相鄰平底孔的深度差為0.8?1.2mm，可以提高檢測結(jié)果的準(zhǔn)確性，盡量減少檢測過程中的深度盲區(qū)，提高檢測深度的精度。同時，保證平底孔2的深度與試塊I高度之差最小為0.9?1.1_，優(yōu)選為lmm。當(dāng)平底孔2的深度與試塊I的高度差過小時，容易出現(xiàn)平底孔2穿透試塊I的現(xiàn)象