鑲石表圈及鑲石方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
1.本發(fā)明涉及手表技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及鑲石表圈及鑲石方法。


背景技術(shù)：

2.表圈上經(jīng)常鑲嵌鉆石、水晶等鑲件進(jìn)行裝飾。但是目前的鑲嵌方式會(huì)容易使鑲件在鑲嵌的過程中從表圈上掉落，不但降低了鑲石的效率，而且還增加了鑲石的難度。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

3.為了解決目前的鑲嵌方式會(huì)容易使鑲件在鑲嵌的過程中從表圈上掉落的技術(shù)問題，本發(fā)明提供了鑲石表圈。
4.本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：
5.鑲石表圈，包括表圈本體，所述表圈本體包括外圈和內(nèi)圈，以及表圈頂面，所述表圈頂面上設(shè)有位于所述外圈和所述內(nèi)圈之間并用于承托鑲件的托槽，所述外圈在受沿其徑向方向的逼壓力時(shí)，所述外圈往其中心方向變形收攏，使所述托槽收窄，以將鑲件固定在所述托槽中。
6.如上所述的鑲石表圈，所述托槽包括設(shè)于所述外圈上的第一托槽，以及設(shè)于所述內(nèi)圈上的第二托槽，所述第一托槽和所述第二托槽對(duì)向設(shè)置，所述外圈在受沿其徑向方向的逼壓力時(shí)，使所述托槽收窄，所述第一托槽靠近所述第二托槽并共同夾持固定鑲件，以使鑲件嵌入所述托槽中，且鑲件頂面低于所述表圈頂面。
7.如上所述的鑲石表圈，所述托槽包括底面，從所述底面往所述第一托槽方向依次設(shè)置的第一斜面和第一過渡面，以及所述底面往所述第二托槽方向依次設(shè)置的第二斜面和第二過渡面。
8.如上所述的鑲石表圈，所述第一過渡面相對(duì)所述第一斜面往所述托槽外部方向傾斜。
9.如上所述的鑲石表圈，所述第二過渡面相對(duì)所述第二斜面往所述托槽內(nèi)部方向傾斜。
10.如上所述的鑲石表圈，所述第一過渡面與鑲件對(duì)應(yīng)位置的斜面的傾斜角度一致。
11.如上所述的鑲石表圈，所述表圈本體上設(shè)有定位槽，所述定位槽用于與定位蓋配合，以使定位蓋于所述內(nèi)圈內(nèi)側(cè)支撐所述內(nèi)圈。
12.本發(fā)明還公開了鑲石方法，包括以下步驟：
13.s1:裝鑲件，將表圈放置在治具上，將鑲件逐個(gè)放入表圈的托槽中，直至填充滿托槽；
14.s2:定位，將步驟s1中的表圈放置在表圈滾鑲設(shè)備的定位底座上；
15.s3:裝夾；將定位蓋插入定位底座，并使兩者固定連接，以將表圈夾緊；
16.s4:對(duì)位，調(diào)節(jié)頂壓件的位置，使得頂壓件與表圈的外圈相對(duì)應(yīng)；
17.s5:滾鑲，啟動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，帶動(dòng)表圈轉(zhuǎn)動(dòng)一圈或一圈以上，頂壓件對(duì)表圈的外圈進(jìn)
行逼壓；
18.s6:拆卸，將步驟s5中的表圈從定位底座上拆下。
19.如上所述的鑲石方法，所述表圈滾鑲設(shè)備包括機(jī)架，設(shè)于所述機(jī)架上的定位機(jī)構(gòu)，用于對(duì)位于所述定位機(jī)構(gòu)上的表圈進(jìn)行滾鑲的頂壓機(jī)構(gòu)，以及用于驅(qū)動(dòng)所述定位機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述頂壓機(jī)構(gòu)包括頂壓座，與所述頂壓座鉸接的頂壓件，以及用于調(diào)節(jié)所述頂壓件與所述定位機(jī)構(gòu)相對(duì)位置的調(diào)節(jié)組件，所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)，以及設(shè)于所述轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)上的爪盤，所述定位機(jī)構(gòu)設(shè)于所述爪盤上。
20.如上所述的鑲石方法，所述定位機(jī)構(gòu)包括供所述爪盤夾持的定位底座，以及與所述定位底座配合的定位蓋，所述定位蓋插入所述定位底座上，以將位于兩者之間的表圈夾持固定。
21.與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有如下優(yōu)點(diǎn)：
22.本發(fā)明的鑲石表圈，其上設(shè)有托槽，在鑲石的過程中，鑲件先放置在托槽上，并通過滾鑲的方式將鑲件進(jìn)行固定。在此過程中，鑲件一直位于托槽內(nèi)，能夠防止鑲件從表圈上掉落，降低鑲石的難度。
【附圖說明】
23.為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
24.圖1是本實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
25.圖2是圖1的半剖圖；
26.圖3是圖2的a處放大圖；
27.圖4是圖3的未放置鑲件的狀態(tài)示意圖；
28.圖5是表圈滾鑲設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
29.為了使本發(fā)明所解決的技術(shù)問題技術(shù)方案及有益效果更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。
30.鑲石表圈，包括表圈本體51，所述表圈本體51包括外圈52和內(nèi)圈53，以及表圈頂面54，所述表圈頂面54上設(shè)有位于所述外圈52和所述內(nèi)圈53之間并用于承托鑲件6的托槽55，所述外圈52在受沿其徑向方向的逼壓力時(shí)，所述外圈52往其中心方向變形收攏，使所述托槽55收窄，以將鑲件固定在所述托槽55中。
31.本發(fā)明的鑲石表圈，其上設(shè)有托槽，在鑲石的過程中，鑲件先放置在托槽上，并通過滾鑲的方式將鑲件進(jìn)行固定。在此過程中，鑲件一直位于托槽內(nèi)，能夠防止鑲件從表圈上掉落，降低鑲石的難度。
32.進(jìn)一步地，作為本方案的優(yōu)選實(shí)施方式而非限定，所述托槽55包括設(shè)于所述外圈52上的第一托槽551，以及設(shè)于所述內(nèi)圈53上的第二托槽552，所述第一托槽551和所述第二
托槽552對(duì)向設(shè)置，所述外圈52在受沿其徑向方向的逼壓力時(shí)，使所述托槽55收窄，所述第一托槽551靠近所述第二托槽552并共同夾持固定鑲件，以使鑲件嵌入所述托槽55中，且鑲件頂面61低于所述表圈頂面54。鑲件頂面低于表圈頂面，即鑲件完全嵌入托槽中，有利于防止鑲件在滾鑲的過程中掉落，而且能夠避免鑲件的頂面被刮花。
33.進(jìn)一步地，作為本方案的優(yōu)選實(shí)施方式而非限定，所述托槽55包括底面553，從所述底面553往所述第一托槽551方向依次設(shè)置的第一斜面554和第一過渡面555，以及所述底面553往所述第二托槽552方向依次設(shè)置的第二斜面556和第二過渡面557。在滾鑲之前，鑲件進(jìn)入托槽中，依靠第一過渡面和第二過渡面承托。托槽的截面呈v型結(jié)構(gòu)，使得滾鑲時(shí)外圈更容易往其中心處收攏。
34.進(jìn)一步地，作為本方案的優(yōu)選實(shí)施方式而非限定，所述第一過渡面555相對(duì)所述第一斜面往所述托槽55外部方向傾斜。第一過渡面用于承托鑲件，使得在滾鑲時(shí)，鑲件隨外圈收攏而移動(dòng)，鑲件與外圈的相對(duì)位置保持不變。
35.進(jìn)一步地，作為本方案的優(yōu)選實(shí)施方式而非限定，所述第二過渡面557相對(duì)所述第二斜面往所述托槽55內(nèi)部方向傾斜。在滾鑲時(shí)，鑲件隨外圈收攏而移動(dòng)，鑲件與外圈的相對(duì)位置保持不變，鑲件隨第二過渡面上升至落入第二托槽中，使得鑲件能夠保持水平。
36.進(jìn)一步地，作為本方案的優(yōu)選實(shí)施方式而非限定，所述第一過渡面555與鑲件對(duì)應(yīng)位置的斜面的傾斜角度一致。使得鑲件與第一過渡面保持貼合。
37.進(jìn)一步地，作為本方案的優(yōu)選實(shí)施方式而非限定，所述第一托槽551的寬度和所述第二托槽552的寬度均大于鑲件側(cè)面的寬度，所述第一托槽551和所述第二托槽552對(duì)鑲件進(jìn)行夾持固定時(shí)，鑲件上表面62與所述第一托槽551和所述第二托槽552之間均存有間隙。這樣能夠避免在滾鑲的過程中，對(duì)鑲件上表面進(jìn)行擠壓導(dǎo)致刮花。同時(shí)避免在滾鑲的過程中，托槽過窄導(dǎo)致鑲件的位置偏移或傾斜。
38.進(jìn)一步地，作為本方案的優(yōu)選實(shí)施方式而非限定，所述第一托槽551與所述第一過渡面555的連接位置，與所述第二托槽552與所述第二過渡面557的連接位置位于同一水平面上。使得鑲件在滾鑲后保持水平。
39.進(jìn)一步地，作為本方案的優(yōu)選實(shí)施方式而非限定，所述第一托槽551的寬度和所述第二托槽552的寬度均大于鑲件側(cè)面的寬度，所述第一托槽551和所述第二托槽552供鑲件沿兩者的寬度方向嵌入至承托于所述第一過渡面555上。鑲件在重力和托槽的限位下，保持與第一過渡面貼合。
40.進(jìn)一步地，作為本方案的優(yōu)選實(shí)施方式而非限定，所述底面553至所述第一托槽551與所述第一過渡面555的連接位置的距離，大于鑲件側(cè)面到其底部的距離。使得鑲件能在被第一托槽和第二托槽夾持的情況下，相對(duì)底面懸空。
41.進(jìn)一步地，作為本方案的優(yōu)選實(shí)施方式而非限定，所述表圈本體51上設(shè)有定位槽56，所述定位槽56用于與定位蓋配合，以使定位蓋于所述內(nèi)圈53內(nèi)側(cè)支撐所述內(nèi)圈53。外圈受逼壓時(shí)，壓力傳遞至內(nèi)圈，定位蓋用于支撐內(nèi)圈，防止內(nèi)圈變形。
42.本實(shí)施例還公開了鑲石方法，包括以下步驟：
43.s1:裝鑲件，將表圈放置在治具上，將鑲件逐個(gè)放入表圈的托槽中，直至填充滿托槽；
44.s2:定位，將步驟s1中的表圈放置在表圈滾鑲設(shè)備的定位底座上；
45.s3:裝夾；將定位蓋插入定位底座，并使兩者固定連接，以將表圈夾緊；
46.s4:對(duì)位，調(diào)節(jié)頂壓件的位置，使得頂壓件與表圈的外圈相對(duì)應(yīng)；
47.s5:滾鑲，啟動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，帶動(dòng)表圈轉(zhuǎn)動(dòng)一圈或一圈以上，頂壓件對(duì)表圈的外圈進(jìn)行逼壓；
48.s6:拆卸，將步驟s5中的表圈從定位底座上拆下。
49.表圈滾鑲設(shè)備，包括機(jī)架1，設(shè)于所述機(jī)架1上的定位機(jī)構(gòu)2，用于對(duì)位于所述定位機(jī)構(gòu)2上的表圈進(jìn)行滾鑲的頂壓機(jī)構(gòu)3，以及用于驅(qū)動(dòng)所述定位機(jī)構(gòu)2旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)4，所述頂壓機(jī)構(gòu)3包括頂壓座31，與所述頂壓座31鉸接的頂壓件32，以及用于調(diào)節(jié)所述頂壓件32與所述定位機(jī)構(gòu)2相對(duì)位置的調(diào)節(jié)組件33，所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)4包括轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)41，以及設(shè)于所述轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)41上的爪盤42，所述定位機(jī)構(gòu)2設(shè)于所述爪盤42上。通過使用轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)，帶動(dòng)爪盤上的定位機(jī)構(gòu)轉(zhuǎn)動(dòng)，從而帶動(dòng)表盤轉(zhuǎn)動(dòng)，使得頂壓件在對(duì)表圈進(jìn)行逼壓時(shí)，表圈受到均勻的逼壓力度，避免轉(zhuǎn)速不一，導(dǎo)致對(duì)表圈的逼壓時(shí)間過短或過快，導(dǎo)致逼壓效果不均勻。
50.進(jìn)一步地，作為本方案的優(yōu)選實(shí)施方式而非限定，所述調(diào)節(jié)組件33包括高度調(diào)節(jié)柱331，以及設(shè)于所述高度調(diào)節(jié)柱331上的緊固件332，所述頂壓座31與所述高度調(diào)節(jié)柱331插接配合并沿所述高度調(diào)節(jié)柱331周向方向轉(zhuǎn)動(dòng)，所述緊固件332用于頂壓在所述頂壓座31上以限制其相對(duì)所述高度調(diào)節(jié)柱331旋轉(zhuǎn)。頂壓座帶動(dòng)頂壓件旋轉(zhuǎn)至合適的位置后，通過緊固件固定，使得頂壓座與定位機(jī)構(gòu)的相對(duì)位置固定。
51.進(jìn)一步地，作為本方案的優(yōu)選實(shí)施方式而非限定，所述調(diào)節(jié)組件33包括串接所述頂壓件32與所述頂壓座31的預(yù)緊件333，所述預(yù)緊件333用于供所述頂壓件32與所述頂壓座31鉸接，并用于固定兩者的相對(duì)角度。預(yù)緊件可使頂壓件與頂壓座的相對(duì)角度固定。
52.進(jìn)一步地，作為本方案的優(yōu)選實(shí)施方式而非限定，所述調(diào)節(jié)組件33包括水平設(shè)于所述調(diào)節(jié)座上的調(diào)節(jié)件334，所述調(diào)節(jié)件334相對(duì)所述頂壓座31往靠近或遠(yuǎn)離所述頂壓件32的方向水平移動(dòng)，以使所述頂壓件32在頂壓表圈時(shí)對(duì)所述頂壓件32進(jìn)行限位。調(diào)節(jié)件的調(diào)節(jié)端朝向頂壓座的外部，且調(diào)節(jié)件的調(diào)節(jié)端延伸方向無遮擋，便于調(diào)節(jié)。
53.進(jìn)一步地，作為本方案的優(yōu)選實(shí)施方式而非限定，所述調(diào)節(jié)組件33還包括與所述調(diào)節(jié)件334螺紋配合的螺母335，所述調(diào)節(jié)件334與所述頂壓座31螺紋配合，所述螺母335用于限制所述調(diào)節(jié)件334與所述頂壓座31之間的相對(duì)位置。頂壓座上設(shè)有l(wèi)型的凸出部336，凸出部豎直設(shè)置，調(diào)節(jié)件與凸出部螺紋配合，再配合螺母，將調(diào)節(jié)件固定在凸出部上。
54.進(jìn)一步地，作為本方案的優(yōu)選實(shí)施方式而非限定，述調(diào)節(jié)件334的調(diào)節(jié)端位于所述頂壓座31外側(cè)，所述螺母335位于所述頂壓座31內(nèi)側(cè)。
55.進(jìn)一步地，作為本方案的優(yōu)選實(shí)施方式而非限定，所述定位機(jī)構(gòu)2包括供所述爪盤42夾持的定位底座21，以及與所述定位底座21配合的定位蓋22，所述定位蓋22插入所述定位底座21上，以將位于兩者之間的表圈夾持固定。定位蓋與定位底座同心插接，達(dá)到對(duì)表圈的固定效果。
56.進(jìn)一步地，作為本方案的優(yōu)選實(shí)施方式而非限定，所述頂壓座31上凹設(shè)有調(diào)節(jié)平面34，所述預(yù)緊件333的旋轉(zhuǎn)軸垂直于所述調(diào)節(jié)平面34。使得預(yù)緊件的調(diào)節(jié)端朝向外側(cè)，并無遮擋，便于調(diào)節(jié)。
57.進(jìn)一步地，作為本方案的優(yōu)選實(shí)施方式而非限定，所述頂壓座31上凹設(shè)有調(diào)節(jié)平面34，所述調(diào)節(jié)件334的旋轉(zhuǎn)軸與所述調(diào)節(jié)平面34平行，且垂直于所述頂壓座31的旋轉(zhuǎn)軸。
調(diào)節(jié)平面為調(diào)節(jié)件提供旋轉(zhuǎn)空間，調(diào)節(jié)件334的旋轉(zhuǎn)軸與調(diào)節(jié)平面34平行，使得調(diào)節(jié)件能夠平穩(wěn)地支撐頂壓件。
58.進(jìn)一步地，作為本方案的優(yōu)選實(shí)施方式而非限定，頂壓座31的旋轉(zhuǎn)軸、所述頂壓件32與所述調(diào)節(jié)件334的接觸點(diǎn)依次沿所述定位機(jī)構(gòu)2上的表圈徑向方向依次分布。這樣能夠減輕緊固件的受力，防止頂壓座受力轉(zhuǎn)動(dòng)。
59.本實(shí)施例的工作原理如下：
60.本發(fā)明的鑲石表圈，其上設(shè)有托槽，在鑲石的過程中，鑲件先放置在托槽上，并通過滾鑲的方式將鑲件進(jìn)行固定。在此過程中，鑲件一直位于托槽內(nèi)，能夠防止鑲件從表圈上掉落，降低鑲石的難度。
61.如上是結(jié)合具體內(nèi)容提供的實(shí)施方式，并不認(rèn)定本技術(shù)的具體實(shí)施只局限于這些說明。凡與本技術(shù)的方法結(jié)構(gòu)等近似雷同，或是對(duì)于本技術(shù)構(gòu)思前提下做出若干技術(shù)推演或替換，都應(yīng)當(dāng)視為本技術(shù)的保護(hù)范圍。