1.一種適用于電機(jī)磁瓦的二次磨球配比定量控制裝置，包括定量容器(1)、連接管(2)、控流裝置Ⅰ(3)、存料室(4)、傳動(dòng)桿Ⅰ(5)、電機(jī)(6)、支架(7)、傳動(dòng)桿Ⅱ(8)、控流裝置Ⅱ(9)和混料室(10)，其特征在于：控流裝置Ⅰ(3)包括控流擋塊Ⅰ(3-1)、矩形轉(zhuǎn)盤(pán)(3-2)和十字凸臺(tái)(3-3)，控流擋塊Ⅰ(3-1)設(shè)置在矩形轉(zhuǎn)盤(pán)(3-2)上，并且控流擋塊Ⅰ(3-1)與矩形轉(zhuǎn)盤(pán)(3-2)是一個(gè)整體，十字凸臺(tái)(3-3)設(shè)置在矩形轉(zhuǎn)盤(pán)(3-2)上端；
控流裝置Ⅱ(9)包括控流擋塊Ⅱ(9-1)和連接桿(9-2)，連接桿(9-2)設(shè)置在控流擋塊Ⅱ(9-1)上；
定量容器(1)設(shè)置在連接管(2)下端，存料室(4)下端設(shè)有孔，連接管(2)與存料室(4)下端的孔相配合，并且連接管(2)與存料室(4)的外殼是一個(gè)整體，控流裝置Ⅰ(3)設(shè)置在存料室(4)內(nèi)部，并且控流裝置Ⅰ(3)上的控流擋塊Ⅰ(3-1)與存料室(4)下端的孔相配合，傳動(dòng)桿Ⅰ(5)與電機(jī)(6)相配合，并且傳動(dòng)桿Ⅰ(5)與控流裝置Ⅰ(3)中的十字凸臺(tái)(3-3)相配合，電機(jī)(6)設(shè)置在支架(7)上端，支架(7)設(shè)置在存料室(4)的外殼上，傳動(dòng)桿Ⅱ(8)的一端穿過(guò)存料室(4)的外殼與控流裝置Ⅰ(3)中的矩形轉(zhuǎn)盤(pán)(3-2)相配合，傳動(dòng)桿Ⅱ(8)的另一端與控流裝置Ⅱ(9)中的連接桿(9-2)相連，控流裝置Ⅱ(9)中的控流擋塊Ⅱ(9-1)與定量容器(1)下端的口相配合，混料室(10)設(shè)置在定量容器(1)下方。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于電機(jī)磁瓦的二次磨球配比定量控制裝置，其特征在于：所述的定量容器(1)是中空管。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于電機(jī)磁瓦的二次磨球配比定量控制裝置，其特征在于：所述的控流擋塊Ⅰ(3-1)與控流擋塊Ⅱ(9-1)均是中空的鋁合金擋塊。