本實(shí)用新型涉及伺服控制領(lǐng)域，特別是涉及一種伺服控制高精度對位旋轉(zhuǎn)平臺(tái)。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有的二維平面內(nèi)的自動(dòng)對位平臺(tái)多為SSY模式，主要由三個(gè)伺服馬達(dá)成三角形分布組成，當(dāng)想要補(bǔ)正平臺(tái)往某一方向移動(dòng)一定距離時(shí)，需三個(gè)伺服電機(jī)按照一定的算法公式計(jì)算各自移動(dòng)的距離，以實(shí)現(xiàn)平臺(tái)的補(bǔ)正。

現(xiàn)有的對位平臺(tái)結(jié)構(gòu)在補(bǔ)正時(shí)，需要三個(gè)伺服馬達(dá)合作完成，算法復(fù)雜；沒有相對獨(dú)立的運(yùn)動(dòng)，補(bǔ)正動(dòng)作相對繁瑣，分析動(dòng)作及控制過程困難，角度補(bǔ)正范圍有限；結(jié)構(gòu)復(fù)雜，機(jī)構(gòu)維護(hù)成本及生產(chǎn)成本也相對較高。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型主要解決的技術(shù)問題是提供一種伺服控制高精度對位旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，能夠?qū)崿F(xiàn)簡化組裝、控制補(bǔ)正算法計(jì)算，降低生產(chǎn)成本的目的。

為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用的一個(gè)技術(shù)方案是：提供一種伺服控制高精度對位旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，包括：底座、X補(bǔ)正模塊、Y補(bǔ)正模塊和θ補(bǔ)正模塊，所述X補(bǔ)正模塊設(shè)置于底座上，所述Y補(bǔ)正模塊設(shè)置于X補(bǔ)正模塊上，所述θ補(bǔ)正模塊設(shè)置于Y補(bǔ)正模塊上；

所述X補(bǔ)正模塊包括：X向補(bǔ)正底座、伺服馬達(dá)A、絲桿組件A、連接塊A，所述X向補(bǔ)正底座通過滑塊與X向直線導(dǎo)軌設(shè)置于底座上，所述伺服馬達(dá)A設(shè)置于底座的一側(cè)，所述伺服馬達(dá)A的主軸連接絲桿組件A，所述絲桿組件A處設(shè)置有連接塊A，所述連接塊A連接至X向直線導(dǎo)軌對應(yīng)的滑塊；

所述Y補(bǔ)正模塊包括：Y向補(bǔ)正底座、伺服馬達(dá)B、絲桿組件B、連接塊B，所述Y向補(bǔ)正底座通過滑塊與Y向直線導(dǎo)軌設(shè)置于X向補(bǔ)正底座上，所述Y向直線導(dǎo)軌垂直于X向直線導(dǎo)軌，所述伺服馬達(dá)B設(shè)置于底座的一側(cè)，所述伺服馬達(dá)B的主軸連接絲桿組件B，所述絲桿組件B處設(shè)置有連接塊B，所述連接塊B連接至Y向直線導(dǎo)軌對應(yīng)的滑塊；

所述θ補(bǔ)正模塊包括：DD旋轉(zhuǎn)馬達(dá)和θ補(bǔ)正平臺(tái)，所述DD旋轉(zhuǎn)馬達(dá)設(shè)置于Y向補(bǔ)正底座上，所述θ補(bǔ)正平臺(tái)設(shè)置于DD旋轉(zhuǎn)馬達(dá)上。

優(yōu)選的，所述絲桿組件A的一端通過聯(lián)軸器A連接至伺服馬達(dá)A的主軸，所述聯(lián)軸器A固定于固定塊A處，所述固定塊A固定于底座上，所述絲桿組件A的另一端設(shè)置有限位塊A，所述連接塊A設(shè)置于聯(lián)軸器A與限位塊A之間。

優(yōu)選的，所述絲桿組件B的一端通過聯(lián)軸器B連接至伺服馬達(dá)B的主軸，所述聯(lián)軸器B固定于固定塊B處，所述固定塊B固定于底座上，所述絲桿組件B的另一端設(shè)置有限位塊B，所述連接塊B設(shè)置于聯(lián)軸器B與限位塊B之間。

優(yōu)選的，所述絲桿組件A和絲桿組件B均采用研磨級(jí)滾珠絲桿。

本實(shí)用新型的有益效果是：本實(shí)用新型與現(xiàn)有對位平臺(tái)相比，該對位旋轉(zhuǎn)平臺(tái)可在X/Y/θ三個(gè)方向獨(dú)立補(bǔ)正，無需計(jì)算相互關(guān)系，大幅度降低控制算法的計(jì)算；采用研磨級(jí)滾珠絲桿傳動(dòng)，精密級(jí)直線導(dǎo)軌導(dǎo)向，補(bǔ)正精度大大提高；由于θ方向由DD旋轉(zhuǎn)馬達(dá)單獨(dú)補(bǔ)正，可實(shí)現(xiàn)360°補(bǔ)正，大幅提高了對位旋轉(zhuǎn)平臺(tái)的旋轉(zhuǎn)對位范圍；整組對位旋轉(zhuǎn)平臺(tái)結(jié)構(gòu)緊湊，模塊化設(shè)計(jì)，便于在自動(dòng)化設(shè)備上自由搭載，組裝簡單快捷，維護(hù)方便；相互獨(dú)立的模塊化設(shè)計(jì)使得生產(chǎn)加工成本大幅下降，提高了企業(yè)效益及競爭力。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型一種伺服控制高精度對位旋轉(zhuǎn)平臺(tái)一較佳實(shí)施例的立體結(jié)構(gòu)示意圖；

附圖中各部件的標(biāo)記如下：1、底座，2、X向補(bǔ)正底座，3、Y向補(bǔ)正底座，4、θ補(bǔ)正平臺(tái)，5、連接塊A，6、伺服馬達(dá)A，7、限位塊A，8、絲桿組件A，9、聯(lián)軸器A，10、固定塊A，11、X向直線導(dǎo)軌，12、伺服馬達(dá)B，13、絲桿組件B，14、Y向直線導(dǎo)軌， 15、聯(lián)軸器B，16、連接塊B，17、限位塊B，18、固定塊B，19、DD旋轉(zhuǎn)馬達(dá)。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)闡述，以使本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對本實(shí)用新型的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。

請參閱圖1，本實(shí)用新型實(shí)施例包括：

一種伺服控制高精度對位旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，包括：底座1、X補(bǔ)正模塊、Y補(bǔ)正模塊和θ補(bǔ)正模塊，所述X補(bǔ)正模塊設(shè)置于底座1上，所述Y補(bǔ)正模塊設(shè)置于X補(bǔ)正模塊上，所述θ補(bǔ)正模塊設(shè)置于Y補(bǔ)正模塊上；

所述X補(bǔ)正模塊包括：X向補(bǔ)正底座2、伺服馬達(dá)A6、絲桿組件A8、連接塊A5，所述X向補(bǔ)正底座2通過滑塊與X向直線導(dǎo)軌11設(shè)置于底座1上，所述伺服馬達(dá)A6設(shè)置于底座1的一側(cè)，所述伺服馬達(dá)A6的主軸連接絲桿組件A，8所述絲桿組件A8處設(shè)置有連接塊A5，所述連接塊A5連接至X向直線導(dǎo)軌11對應(yīng)的滑塊；

所述Y補(bǔ)正模塊包括：Y向補(bǔ)正底座3、伺服馬達(dá)B12、絲桿組件B13、連接塊B16，所述Y向補(bǔ)正底座3通過滑塊與Y向直線導(dǎo)軌14設(shè)置于X向補(bǔ)正底座2上，所述Y向直線導(dǎo)軌14垂直于X向直線導(dǎo)軌11，所述伺服馬達(dá)B12設(shè)置于底座1的一側(cè)，所述伺服馬達(dá)B12的主軸連接絲桿組件B13，所述絲桿組件B13處設(shè)置有連接塊B16，所述連接塊B16連接至Y向直線導(dǎo)軌14對應(yīng)的滑塊；

所述θ補(bǔ)正模塊包括：DD旋轉(zhuǎn)馬達(dá)19和θ補(bǔ)正平臺(tái)4，所述DD旋轉(zhuǎn)馬達(dá)19設(shè)置于Y向補(bǔ)正底座3上，所述θ補(bǔ)正平臺(tái)4設(shè)置于DD旋轉(zhuǎn)馬達(dá)19上。

本實(shí)用新型的工作原理如下所示：待補(bǔ)正產(chǎn)品搭載于θ補(bǔ)正平臺(tái)4上，補(bǔ)正前，計(jì)算機(jī)先將補(bǔ)正位移分解為X/Y/θ三個(gè)方向的獨(dú)立分位移，然后將X向的補(bǔ)正參數(shù)信號(hào)傳遞給平臺(tái)底座1上的伺服馬達(dá)A6，伺服馬達(dá)A6通過聯(lián)軸器A9帶動(dòng)絲桿組件A8，連接塊A5連接絲桿組件A8與X向直線導(dǎo)軌11對應(yīng)的滑塊，以實(shí)現(xiàn)X向補(bǔ)正；與此同時(shí)，Y向的補(bǔ)正參數(shù)信號(hào)傳遞給底座1上的伺服馬達(dá)B12，通過聯(lián)軸器B15帶動(dòng)絲桿組件B13，連接塊B16連接絲桿組件B13與Y向直線導(dǎo)軌14對應(yīng)的滑塊，以實(shí)現(xiàn)Y向補(bǔ)正，θ向的補(bǔ)正參數(shù)信號(hào)傳遞給Y向補(bǔ)正底座3上的DD旋轉(zhuǎn)馬達(dá)19，DD旋轉(zhuǎn)馬達(dá)19帶動(dòng)θ補(bǔ)正平臺(tái)4實(shí)現(xiàn)θ向的補(bǔ)正，最終實(shí)現(xiàn)待補(bǔ)正產(chǎn)品X/Y/θ三個(gè)方向的相互獨(dú)立對位補(bǔ)正。

以上所述僅為本實(shí)用新型的實(shí)施例，并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍，凡是利用本實(shí)用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。