操作電壓的控制電路及其控制方法、存儲(chǔ)器的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體存儲(chǔ)器技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種操作電壓的控制電路及其控制方法、存儲(chǔ)器。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來(lái),在半導(dǎo)體存儲(chǔ)器迅速發(fā)展的過(guò)程中,由于DRAM、EFPROM、FLASH等先進(jìn)存儲(chǔ)器具有高密度、低功耗和低價(jià)格的優(yōu)點(diǎn),其已經(jīng)成為了計(jì)算機(jī)、移動(dòng)通信終端中普遍采用的存儲(chǔ)裝置?;诘凸摹⒌统杀镜囊?,存儲(chǔ)器的電源電壓通常比較低,例如2.5V、1.8V等,然而為了實(shí)現(xiàn)信息的“寫入”和“擦除”等操作,通常需要遠(yuǎn)高于電源電壓的編程電壓及擦除電壓,例如8V或12V等。因此,電荷泵電路廣泛應(yīng)用于存儲(chǔ)器中,用于通過(guò)較低的電源電壓獲得較高的編程電壓、擦除電壓等存儲(chǔ)器的操作電壓。
[0003]當(dāng)較高的操作電壓快速建立并施加到存儲(chǔ)單元上時(shí),會(huì)對(duì)存儲(chǔ)單元造成損傷,影響存儲(chǔ)單元的可靠性。為了防止這種現(xiàn)象的發(fā)生,需要控制操作電壓建立的速度,故在現(xiàn)有技術(shù)的閃存中,往往會(huì)設(shè)置控制電路對(duì)操作電壓的上升速度進(jìn)行控制。
[0004]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中一種閃存的擦除電壓控制電路的結(jié)構(gòu)示意圖,所述控制電路包括:
[0005]電荷泵11,用于輸出高壓HVE ;
[0006]鏡像恒流源12,包括:第一 PMOS晶體管P1、第二 PMOS晶體管P2、開關(guān)K和電流源Ibias,其中:第一 PMOS晶體管Pl的漏極、第一 PMOS晶體管Pl的柵極、第二 PMOS晶體管P2的柵極以及開關(guān)K的一端分別連接在一起,開關(guān)K的另一端連接電流源Ibias的一端,電流源Ibiiis的另一端接地;
[0007]電容C,電容C的一端接地;
[0008]NMOS晶體管N,其中:NM0S晶體管N的源極、第一 PMOS晶體管Pl的源極、第二 PMOS晶體管P2的源極和電荷泵11的輸出端連接在一起,第二 NMOS晶體管N2的柵極、第二 PMOS晶體管P2的漏極和電容C的另一端連接在一起,NMOS晶體管N的漏極輸出擦除電壓VEP。
[0009]圖2為圖1中擦除電壓的上升示意圖。其中:高壓HVE由電荷泵11產(chǎn)生并快速建立,當(dāng)開關(guān)K閉合時(shí),NMOS晶體管N導(dǎo)通,電容C開始充電,第二 PMOS晶體管P2的漏極電壓Gramp持續(xù)上升,擦除電壓VEP隨之持續(xù)上升,因此通過(guò)控制漏極電壓Gramp的上升速度來(lái)達(dá)到控制擦除電壓VEP慢速建立的目的。
[0010]分析圖1 的電路可知:VEP = Gramp-Vthl 且Gramp = HVE_Vth2,其中:Vthl 為NMOS晶體管N的閾值電壓,Vth2為第二 PMOS晶體管P2的閾值電壓。
[0011]但是,上述技術(shù)存在以下缺點(diǎn):
[0012]I)電荷泵11需要產(chǎn)生比擦除電壓VEP高的高壓HVE,從而提高了器件的功率,且提高了對(duì)相應(yīng)電子器件的性能要求;
[0013]2)在使用過(guò)程中(如:經(jīng)歷幾次擦除之后),NM0S晶體管N的閾值電壓Vthl會(huì)發(fā)生變化,從而導(dǎo)致擦除電壓VEP偏離目標(biāo)值,從而影響了器件的性能。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0014]本發(fā)明解決的問(wèn)題是提供一種操作電壓的控制電路及其控制方法、存儲(chǔ)器,在有效控制操作電壓建立的速度的基礎(chǔ)上,消除了因閾值電壓及其使用過(guò)程中的變化對(duì)器件功率和性能的影響。
[0015]為解決上述問(wèn)題,本發(fā)明提供一種操作電壓的控制電路,包括:
[0016]升壓?jiǎn)卧糜诋?dāng)接收到第一信號(hào)時(shí),進(jìn)行升壓處理以輸出升壓電壓;當(dāng)接收到第二信號(hào)時(shí),停止升壓處理,輸出的升壓電壓維持在當(dāng)前值;
[0017]分壓?jiǎn)卧?,用于?duì)所述升壓電壓進(jìn)行分壓處理以輸出分壓電壓,所述分壓?jiǎn)卧ǘ鄠€(gè)不同分壓系數(shù);
[0018]比較單元,用于對(duì)所述分壓電壓與基準(zhǔn)電壓進(jìn)行比較,當(dāng)所述分壓電壓小于基準(zhǔn)電壓時(shí),輸出第一信號(hào);當(dāng)所述分壓電壓大于基準(zhǔn)電壓時(shí),輸出第二信號(hào);
[0019]控制單元,用于對(duì)至少部分所述分壓系數(shù)進(jìn)行從大到小的切換控制,直至所述升壓電壓達(dá)到目標(biāo)電壓;
[0020]輸出單元,用于輸出所述升壓電壓。
[0021 ] 可選的,所述分壓?jiǎn)卧獮殡姾杀谩?br>[0022]可選的,所述分壓?jiǎn)卧ㄟ^(guò)電阻分壓方式、電容分壓方式或者晶體管分壓方式實(shí)現(xiàn)。
[0023]可選的,所述分壓?jiǎn)卧ǘ鄠€(gè)輸出端,所述輸出端的數(shù)目等于所述分壓系數(shù)的數(shù)目,每個(gè)輸出端對(duì)應(yīng)不同的分壓系數(shù)。
[0024]可選的,所述控制單元包括多個(gè)控制子單元,所述控制子單元的數(shù)目與所述分壓系數(shù)的數(shù)目相同,每個(gè)控制子單元包括:時(shí)鐘脈沖產(chǎn)生單元和開關(guān),所述開關(guān)的一端連接所述分壓?jiǎn)卧囊粋€(gè)輸出端,所述開關(guān)的另一端連接所述分壓?jiǎn)卧妮斎攵耍鰰r(shí)鐘脈沖產(chǎn)生單元用于產(chǎn)生時(shí)鐘脈沖信號(hào)以控制所述開關(guān)的開啟與關(guān)斷。
[0025]可選的,所述開關(guān)為NMOS晶體管,其源極連接所述分壓?jiǎn)卧?,其漏極連接所述比較單元,其柵極連接所述時(shí)鐘脈沖產(chǎn)生單元。
[0026]可選的,所述時(shí)鐘脈沖產(chǎn)生單元包括:譯碼電路和或非門,譯碼電路連接或非門的一個(gè)輸入端,或非門的另一個(gè)輸入端接收低電平信號(hào),或非門的輸出端連接所述開關(guān)。
[0027]可選的,所述第一信號(hào)為高電平信號(hào),所述第二信號(hào)為低電平信號(hào)。
[0028]為解決上述問(wèn)題,本發(fā)明還提供了一種包括上述操作電壓的控制電路的存儲(chǔ)器。
[0029]為解決上述問(wèn)題,本發(fā)明還提供了一種操作電壓的控制方法,包括:
[0030]提供初始電壓,對(duì)所述初始電壓進(jìn)行升壓處理,得到升壓電壓;
[0031]對(duì)所述升壓電壓進(jìn)行分壓處理,得到分壓電壓;
[0032]當(dāng)所述分壓電壓小于基準(zhǔn)電壓時(shí),繼續(xù)所述升壓處理,直至所述分壓電壓大于所述基準(zhǔn)電壓時(shí),停止所述升壓處理;
[0033]進(jìn)行切換處理,所述切換處理包括:停止所述升壓處理一段時(shí)間后,減小所述分壓處理的分壓系數(shù),使所述分壓電壓小于所述基準(zhǔn)電壓以繼續(xù)所述升壓處理,直至所述分壓電壓大于所述基準(zhǔn)電壓時(shí),停止所述升壓處理;
[0034]不斷重復(fù)上述切換處理,直至所述升壓電壓達(dá)到目標(biāo)電壓。
[0035]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的技術(shù)方案具有以下優(yōu)點(diǎn):在升壓處理和分壓處理的過(guò)程中,不斷將分壓電壓與基準(zhǔn)電壓進(jìn)行比較以決定是否停止升壓處理,并在停止升壓處理一段時(shí)間后,通過(guò)對(duì)分壓處理中分壓系數(shù)的減小,繼續(xù)進(jìn)行升壓處理,直至升壓電壓達(dá)到目標(biāo)電壓,從而將升壓過(guò)程分為多個(gè)階段,每個(gè)階段均包括上升過(guò)程和維持過(guò)程(即停止升壓),因此可以有效控制操作電壓的上升速度。同時(shí),由于升壓電壓就是操作電壓,從而消除了現(xiàn)有技術(shù)中因閾值電壓及其使用過(guò)程中的變化對(duì)器件功率和性能的影響。
【附圖說(shuō)明】
[0036]圖1是現(xiàn)有技術(shù)中閃存的擦除電壓控制電路的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0037]圖2是圖1中擦除電壓的上升示意圖;
[0038]圖3是本發(fā)明實(shí)施方式提供的操作電壓的控制電路的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0039]圖4是本發(fā)明實(shí)施例提供的操作電壓的控制電路的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0040]圖5是本發(fā)明實(shí)施例中五個(gè)時(shí)鐘脈沖信號(hào)的時(shí)序示意圖;
[0041]圖6是本發(fā)明實(shí)施例中升壓電壓和分壓電壓的時(shí)序不意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0042]正如【背景技術(shù)】部分所述,為了控制擦除電壓的上升速度,現(xiàn)有技術(shù)通過(guò)控制升壓電壓的上升速度來(lái)控制擦除電壓的上升速度,但擦除電壓比升壓電壓小一閾值電壓,且該閾值電壓非常不穩(wěn)定,從而提高了器件的功率,且降低了器件的性能。
[0043]針對(duì)上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明提供了一種操作電壓的控制電路及其控制方法、存儲(chǔ)器