本發(fā)明涉及光學(xué)指紋識別領(lǐng)域，尤其涉及一種光學(xué)指紋傳感器模組。

背景技術(shù)：

指紋成像識別技術(shù)，是通過指紋傳感器采集到人體的指紋圖像，然后與系統(tǒng)里的已有指紋成像信息進(jìn)行比對，來判斷正確與否，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)身份識別的技術(shù)。由于其使用的方便性，以及人體指紋的唯一性，指紋識別技術(shù)已經(jīng)大量應(yīng)用于各個領(lǐng)域。比如公安局、海關(guān)等安檢領(lǐng)域，樓宇的門禁系統(tǒng)，以及個人電腦和手機(jī)等消費(fèi)品領(lǐng)域等等。

指紋成像識別技術(shù)的實(shí)現(xiàn)方式有光學(xué)成像、電容成像、超聲成像等多種技術(shù)。相對來說，光學(xué)指紋成像技術(shù)，其成像效果相對較好，設(shè)備成本相對較低。

現(xiàn)有光學(xué)指紋傳感器模組的結(jié)構(gòu)有待改進(jìn)，性能有待提高。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明解決的問題是提供一種光學(xué)指紋傳感器模組，以提高所述光學(xué)指紋傳感器模組的性能，從而提高采用所述光學(xué)指紋傳感器模組獲得的指紋圖像質(zhì)量。

為解決上述問題，本發(fā)明提供一種光學(xué)指紋傳感器模組，包括：保護(hù)層；光學(xué)指紋傳感器，所述光學(xué)指紋傳感器位于所述保護(hù)層下方；背光源，所述背光源位于所述保護(hù)層下方；所述背光源位于所述光學(xué)指紋傳感器的側(cè)邊；所述光學(xué)指紋傳感器和所述保護(hù)層之間還具有光學(xué)墊高層；所述背光源發(fā)出的光線從所述光學(xué)墊高層進(jìn)入所述保護(hù)層。

可選的，所述光學(xué)墊高層與所述光學(xué)指紋傳感器和所述保護(hù)層直接層疊，或者所述光學(xué)墊高層與所述光學(xué)指紋傳感器和所述保護(hù)層直接粘貼。

可選的，所述背光源發(fā)出的光線從所述光學(xué)墊高層的側(cè)面進(jìn)入所述光學(xué)墊高層，再從所述光學(xué)墊高層進(jìn)入所述保護(hù)層，并在所述保護(hù)層上表面發(fā)生 部分反射，反射光線透過所述保護(hù)層后重新返回進(jìn)入所述光學(xué)墊高層，再從所述光學(xué)墊高層進(jìn)入所述光學(xué)指紋傳感器。

可選的，所述光學(xué)墊高層的折射率為1.2以上。

可選的，所述背光源與所述光學(xué)指紋傳感器之間具有間隔。

可選的，所述保護(hù)層為單層或者多層結(jié)構(gòu)，所述保護(hù)層的上表面、下表面、所述光學(xué)墊高層上表面、下表面和所述光學(xué)指紋傳感器上表面的至少其中一個表面具有濾光層。

可選的，所述背光源包括至少一個led燈，所述led燈的光為近紫外光、紫色光、藍(lán)色光、綠色光、黃色光、紅色光、近紅外光或白色光。

可選的，所述背光源包括兩個或兩個以上led燈，所述兩個或兩個以上led燈均勻地分布在所述保護(hù)層的下方，所述led燈的光為近紫外光、紫色光、藍(lán)色光、綠色光、黃色光、紅色光、近紅外光或白色光。

可選的，所述背光源的出光面前面具有聚光透鏡，所述聚光透鏡能夠使所述背光源的光線轉(zhuǎn)換為平行光或近平行光，所述背光源的光線先進(jìn)入所述聚光透鏡，再進(jìn)入所述光學(xué)墊高層的側(cè)面。

可選的，所述光學(xué)墊高層用于接收背光源發(fā)出光線的側(cè)面具有光增透層，所述光增透層能夠增加所述背光源的光線進(jìn)入所述光學(xué)墊高層的比例。

可選的，所述光學(xué)墊高層的側(cè)面為聚光面，所述聚光面將所述背光源發(fā)出的光線轉(zhuǎn)換為平行光或近平行光。

可選的，所述聚光面為斜面、球冠面、橢球冠面、圓錐側(cè)面或者棱錐側(cè)面。

可選的，所述聚光面具有光增透層，所述光增透層能夠增加所述背光源的光線進(jìn)入所述透光介質(zhì)的比例。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的技術(shù)方案具有以下優(yōu)點(diǎn)：

本發(fā)明的技術(shù)方案中，通過將光學(xué)指紋傳感器和背光源同時(shí)設(shè)置在保護(hù)層下方，背光源設(shè)置在位于光學(xué)指紋傳感器的側(cè)邊，并且在光學(xué)指紋傳感器和保護(hù)層之間設(shè)置光學(xué)墊高層，從而使光學(xué)指紋傳感器和保護(hù)層之間的距離 增大，擴(kuò)大光學(xué)指紋傳感器接收光線區(qū)域的寬度，從而提高光學(xué)指紋傳感器模組采集的指紋圖像質(zhì)量。更加重要的是，由于光學(xué)墊高層的存在，背光源的光線進(jìn)入保護(hù)層之前被光學(xué)墊高層所調(diào)整，因此，相應(yīng)光線在保護(hù)層上表面的入射角度能夠增大，因此，相應(yīng)入射光線在保護(hù)層上表面和空氣的界面中會發(fā)生全反射，而在手指指紋與保護(hù)層上表面接觸的界面則正常地進(jìn)行反射和折射等光學(xué)現(xiàn)象，此時(shí)，手指指紋圖像的不同位置(即谷位置和脊位置)對比度會明顯改善，指紋圖像質(zhì)量提高。

附圖說明

圖1是一種光學(xué)指紋傳感器模組的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本發(fā)明第一實(shí)施例所提供的光學(xué)指紋傳感器模組的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是本發(fā)明第一實(shí)施例所提供的光學(xué)指紋傳感器模組剖面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是本發(fā)明第二實(shí)施例所提供的光學(xué)指紋傳感器模組剖面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5是本發(fā)明第三實(shí)施例所提供的光學(xué)指紋傳感器模組剖面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6是本發(fā)明第四實(shí)施例所提供的光學(xué)指紋傳感器模組剖面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖7是本發(fā)明第五實(shí)施例所提供的光學(xué)指紋傳感器模組剖面結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

一種光學(xué)指紋傳感器模組如圖1所示，包括保護(hù)層100、光學(xué)指紋傳感器110和背光源120。背光源120位于保護(hù)層100下方，光學(xué)指紋傳感器110直接接觸層疊于保護(hù)層100下方。背光源120位于光學(xué)指紋傳感器110的側(cè)邊。此時(shí)，背光源120發(fā)出的光線照射進(jìn)入保護(hù)層100的入射角a較小，因此，光學(xué)指紋傳感器110能夠接收到反射光的區(qū)域?qū)挾萢較小，導(dǎo)致光學(xué)指紋傳感器110大部分區(qū)域無法運(yùn)用于指紋圖像采集，因此圖1所示光學(xué)指紋傳感器模組性能有待提高，圖1所示光學(xué)指紋傳感器模組采集到的指紋圖像質(zhì)量有待提高。

更加重要的是，為了采集更高質(zhì)量的指紋圖像，通常希望在入射光線到達(dá)保護(hù)層100上表面時(shí)，能夠在保護(hù)層100上表面與空氣的第一界面(指紋 谷位置與保護(hù)層100上表面之間會有空氣)發(fā)生全反射，并且在保護(hù)層100上表面與指紋接觸位置(指紋脊位置能夠與保護(hù)層上表面接觸)的第二界面正常進(jìn)行折射和反射(即不發(fā)生全反射)，從而提高指紋不同位置(谷位置和脊位置)的對比度，提高指紋圖像質(zhì)量。而圖1所示的指紋傳感器模組無法實(shí)現(xiàn)上述第一界面發(fā)生全反射且第二界面不發(fā)生全反射的情況，因此，圖1所示光學(xué)指紋傳感器模組無法提高指紋圖像質(zhì)量。

為此，本發(fā)明提供一種光學(xué)指紋傳感器模組，將光學(xué)指紋傳感器和背光源同時(shí)設(shè)置在保護(hù)層下方，背光源設(shè)置在位于光學(xué)指紋傳感器的側(cè)邊，并且在光學(xué)指紋傳感器和保護(hù)層之間設(shè)置光學(xué)墊高層，從而使光學(xué)指紋傳感器和保護(hù)層之間的距離增大，擴(kuò)大光學(xué)指紋傳感器接收光線區(qū)域的寬度，從而提高光學(xué)指紋傳感器模組采集的指紋圖像質(zhì)量。

為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更為明顯易懂，下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實(shí)施例做詳細(xì)的說明。

本發(fā)明第一實(shí)施例提供一種光學(xué)指紋傳感器模組，請結(jié)合參考圖2和圖3。圖2是所述光學(xué)指紋傳感器模組的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。圖3是所述光學(xué)指紋傳感器模組的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。圖3可視為圖2沿dd點(diǎn)劃線剖切后得到的剖面示意圖。所述光學(xué)指紋傳感器模組包括保護(hù)層200、光學(xué)指紋傳感器210和背光源220。背光源220位于保護(hù)層200下方，光學(xué)指紋傳感器210位于保護(hù)層200下方。背光源220位于光學(xué)指紋傳感器210的側(cè)邊。光學(xué)指紋傳感器210和保護(hù)層200之間還具有光學(xué)墊高層230。

需要說明的是，圖2中，光學(xué)墊高層230和背光源220顯示為虛線，因?yàn)樗鼈儗?shí)際上是被保護(hù)層200所覆蓋，因此用虛線表示。需要說明的是，其它實(shí)施例中，在俯視方向上，保護(hù)層200可以不覆蓋背光源220。并且，圖2中，光學(xué)墊高層230和光學(xué)指紋傳感器210的俯視形狀和面積都相同，因此，光學(xué)墊高層230完全覆蓋光學(xué)指紋傳感器210。其它實(shí)施例中，光學(xué)墊高層230和指紋傳感器210的俯視形狀和面積也可以不完全相同，例如，光學(xué)墊高層230的俯視面積可以大于光學(xué)指紋傳感器210的俯視面積。

本實(shí)施例中，背光源220發(fā)出的光線從光學(xué)墊高層230進(jìn)入保護(hù)層200。 具體的，背光源220發(fā)出的光線從光學(xué)墊高層230的側(cè)面進(jìn)入光學(xué)墊高層230本身，再從光學(xué)墊高層230進(jìn)入保護(hù)層200，并在保護(hù)層200上表面發(fā)生反射和折射等光學(xué)現(xiàn)象，反射光線透過保護(hù)層200后重新返回進(jìn)入光學(xué)墊高層230，再從光學(xué)墊高層230進(jìn)入光學(xué)指紋傳感器210。

為了使背光源220發(fā)出的光線從光學(xué)墊高層230進(jìn)入保護(hù)層200(也就是說，進(jìn)入保護(hù)層200的光線一定先經(jīng)過光學(xué)墊高層230)，而不是未經(jīng)過光學(xué)墊高層230就進(jìn)入保護(hù)層200，本實(shí)施例中，可以采用兩個方面的做法：一方面可以通過調(diào)整背光源220發(fā)出光線的光線范圍，從而使光線僅照射光學(xué)墊高層230的側(cè)面；另一方面，可以如圖3所示，在保護(hù)層200下表面中，會被背光源220發(fā)出光線照射到的區(qū)域涂布遮光層240(如圖3所示)，從而防止光線未經(jīng)過光學(xué)墊高層230就進(jìn)入保護(hù)層200。

本實(shí)施例中，設(shè)置進(jìn)入保護(hù)層200的光線一定先經(jīng)過光學(xué)墊高層230，以避免存在未經(jīng)過光學(xué)墊高層230就進(jìn)入保護(hù)層200的光線，從而防止這些光線以不同于其它光線的反射角度和位置照射到光學(xué)指紋傳感器210，造成指紋圖像變模糊。

本實(shí)施例中，背光源220位于光學(xué)指紋傳感器210的左側(cè)邊，并且位于左側(cè)下方。其它實(shí)施例中，背光源220也可以位于光學(xué)指紋傳感器210的其它側(cè)邊，并且側(cè)下方(斜下方)。

背光源220位于光學(xué)指紋傳感器210的側(cè)邊下方，意味著背光源220不位于光學(xué)指紋傳感器210正下方。所述光學(xué)指紋傳感器210正下方是指從俯視方向上向下看，光學(xué)指紋傳感器210能夠覆蓋的部分。由于背光源220位于光學(xué)指紋傳感器210的側(cè)邊下方而不是正下方，因此，圖2中可以同時(shí)看到背光源220和光學(xué)指紋傳感器210，并且兩者不重疊。此時(shí)，背光源220可以不包括導(dǎo)光板等結(jié)構(gòu)。

結(jié)合圖2和圖3可知，當(dāng)背光源220位于光學(xué)指紋傳感器210的側(cè)邊下方時(shí)，背光源220發(fā)出的光線能夠不經(jīng)過光學(xué)指紋傳感器210(或者其它會阻擋光線的結(jié)構(gòu))，而是通過空氣或真空到達(dá)光學(xué)墊高層230側(cè)面，從而有利于減小所述光學(xué)指紋傳感器模組體積，有利于將更多背光源220發(fā)出的光線運(yùn) 用于指紋圖像采集，有利于獲得更好的指紋圖像。

本實(shí)施例中，光學(xué)指紋傳感器210、光學(xué)墊高層230和保護(hù)層200三者直接層疊，“直接層疊”指光學(xué)指紋傳感器210和光學(xué)墊高層230至少有部分接觸，光學(xué)墊高層230和保護(hù)層200之間至少有部分接觸，當(dāng)三者均為扁平基板時(shí)，可以恰好是如圖3中所示層疊形態(tài)。

其它實(shí)施例中，可以是所述光學(xué)墊高層與所述保護(hù)層直接粘貼，也可以是所述光學(xué)墊高層與所述光學(xué)指紋傳感器和所述保護(hù)層直接粘貼?！爸苯诱迟N”時(shí)，所述保護(hù)層、所述光學(xué)墊高層和所述光學(xué)指紋傳感器之間可以通過膠層層疊粘接。所述膠層可以是光學(xué)膠層，所述光學(xué)膠層的材料具體可以是熱敏光學(xué)膠層、光敏光學(xué)膠層或光學(xué)雙面膠帶。其它實(shí)施例中，光學(xué)墊高層230的側(cè)面可以具有光增透層(未顯示)，從而使更多光線能夠從光學(xué)墊高層230的側(cè)面進(jìn)入光學(xué)墊高層230。

本實(shí)施例中，背光源220與光學(xué)墊高層230之間可以具有間隔(未標(biāo)注)。所述間隔的存在可以保證背光源220與光學(xué)墊高層230之間不直接接觸。所述間隔的具體大小可以根據(jù)設(shè)計(jì)需要而定。例如在一個例子中，所述間隔的大小可以大于等于所述背光源220的寬度。其它實(shí)施例中，背光源220與光學(xué)墊高層230之間也可以沒有間隔，即背光源220與光學(xué)墊高層230直接接觸，此時(shí)，需要保證背光源220發(fā)出的光線全部或者大部分為斜向上的光線，可以有少量水平方向發(fā)射的光線，但要避免斜向下發(fā)射的光線，以防止光線未經(jīng)過保護(hù)層200而照射到光學(xué)指紋傳感器210。

本實(shí)施例中，背光源220為點(diǎn)光源，例如為一個led燈。所述led燈的光可以為近紫外光、紫色光、藍(lán)色光、綠色光、黃色光、紅色光、近紅外光或白色光。

本實(shí)施例中，保護(hù)層200為單層結(jié)構(gòu)，即保護(hù)層200可以為一個基板，如圖3所示。其它實(shí)施例中，保護(hù)層200也可以為多層結(jié)構(gòu)。

圖2和圖3雖未顯示，但是，其它實(shí)施例中，保護(hù)層200的上表面、下表面和光學(xué)指紋傳感器210上表面的至少其中之一，可以具有濾光層。所述濾光層可以用于過濾環(huán)境光或改變保護(hù)層200或光學(xué)指紋傳感器210的外觀 顏色。

本實(shí)施例中，光學(xué)指紋傳感器210可以為基于硅晶圓的以cmos工藝制作的圖像傳感器，也可以是基于玻璃基板的以tft工藝制作的圖像傳感器。

本實(shí)施例所提供的光學(xué)指紋傳感器模組中，通過將光學(xué)指紋傳感器210和背光源220同時(shí)設(shè)置在保護(hù)層200下方，背光源220設(shè)置在位于光學(xué)指紋傳感器210的側(cè)邊，并且在光學(xué)指紋傳感器210和保護(hù)層200之間設(shè)置光學(xué)墊高層230，從而使光學(xué)指紋傳感器210和保護(hù)層200之間的距離增大，擴(kuò)大光學(xué)指紋傳感器210接收光線區(qū)域的寬度(光學(xué)指紋傳感器210接收光線區(qū)域的寬度為寬度b，對比圖1和圖3可知寬度b遠(yuǎn)大于寬度a)，從而提高光學(xué)指紋傳感器模組采集的指紋圖像質(zhì)量。

本實(shí)施例中，背光源220發(fā)出的光線通過光學(xué)墊高層230后，再進(jìn)入保護(hù)層200時(shí)，相應(yīng)光線與保護(hù)層200上表面中用于接觸指紋的區(qū)域所成的夾角為銳角。此時(shí)，背光源220發(fā)出的光線能夠按相應(yīng)的偏移量(所述偏移量指圖3中的水平方向偏移距離)在保護(hù)層200上表面和手指指紋的界面發(fā)生反射和折射等現(xiàn)象，并使大部分有效反射光線照射到光學(xué)指紋傳感器210的感光區(qū)域中(具體照射到離相應(yīng)反射點(diǎn)基本相同偏移距離處的感光像素中)，因此，整個光學(xué)指紋傳感器模組不需要導(dǎo)光板和聚光透鏡等結(jié)構(gòu)，就能夠?qū)崿F(xiàn)指紋圖像的識別，形成清晰的指紋圖像，并且簡化了結(jié)構(gòu)，降低了成本。

更加重要的是，由于光學(xué)墊高層230的存在，根據(jù)幾何光學(xué)原理可知，圖3中，背光源220的光線進(jìn)入保護(hù)層200之前被光學(xué)墊高層230所調(diào)整，因此，相應(yīng)光線在保護(hù)層200上表面的入射角度能夠增大，因此，相應(yīng)入射光線更加容易在保護(hù)層200上表面和空氣的界面中會發(fā)生全反射，而在手指指紋與保護(hù)層200上表面接觸的界面則正常地進(jìn)行反射和折射等光學(xué)現(xiàn)象，此時(shí)，手指指紋圖像的不同位置(即谷位置和脊位置)對比度會明顯改善，指紋圖像質(zhì)量提高。

本實(shí)施例中，為了更好地使上述不同位置發(fā)生不同的折射和反射現(xiàn)象，光學(xué)墊高層230的折射率可以選擇為1.2以上。

本發(fā)明第二實(shí)施例提供另一種光學(xué)指紋傳感器模組，請參考圖4。圖4是 所述光學(xué)指紋傳感器模組的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。所述光學(xué)指紋傳感器模組包括保護(hù)層300、光學(xué)指紋傳感器310和背光源(未標(biāo)注)。保護(hù)層300上表面用于手指接觸按壓。光學(xué)指紋傳感器310位于保護(hù)層300下方，背光源也位于保護(hù)層300下方，且背光源位于光學(xué)指紋傳感器310的側(cè)邊。同時(shí)，光學(xué)指紋傳感器310和保護(hù)層300之間具有光學(xué)墊高層340，保護(hù)層300、光學(xué)墊高層340和光學(xué)指紋傳感器310三者直接層疊。

請返回參考圖3，由于led等點(diǎn)光源的出射光有一定的發(fā)散角，當(dāng)僅有一個led燈作為背光源時(shí)(可以參考前述實(shí)施例相應(yīng)內(nèi)容)，背光源的出射光和反射光與平行光差別較大。也就是說，照射到保護(hù)層上表面各處的光的角度會有較大差別，最終導(dǎo)致不同反射點(diǎn)的反射光入射到光學(xué)指紋傳感器感光像素的偏離距離不同，從而使指紋圖像會有畸變。

為了解決上述指紋圖像畸變問題，本實(shí)施例中，所述背光源包括四個led燈，由于平面顯示的原因，圖4所示剖面中僅顯示了其中的兩個led燈，分別為led燈320和led燈330。四個led燈均勻分布在保護(hù)層的下方，同時(shí)均勻分布在光學(xué)指紋傳感器310側(cè)邊，或者四個燈同時(shí)均勻分布在光學(xué)指紋傳感器310的四個角。此時(shí)，四個led燈發(fā)出的光線雖然各自都可能是非平行光，但是同時(shí)利用這四個led燈，可以實(shí)現(xiàn)對非平行光時(shí)的圖像畸變的矯正。具體的，四個led燈可以采取輪流采圖(輪流采圖指四個燈按時(shí)序先后分別進(jìn)行采圖)的方式，然后通過圖像處理，做畸變校正，提高指紋圖像質(zhì)量，提高指紋識別準(zhǔn)確性。

其它實(shí)施例中，當(dāng)光學(xué)指紋傳感器310的俯視圖形為規(guī)則多邊形時(shí)，為了令多個led燈均勻分布在保護(hù)層的下方，在俯視方向上，可以使得相應(yīng)的多個led燈以光學(xué)指紋傳感器310的俯視圖形中心為對稱點(diǎn)，呈中心對稱或者軸對稱的方式，均勻分布在光學(xué)指紋傳感器310周邊。均勻分布時(shí)，可以使得相鄰led燈之間間距相等。

本實(shí)施例中，led燈的光可以為近紫外光、紫色光、藍(lán)色光、綠色光、黃色光、紅色光、近紅外光或白色光。

其它實(shí)施例中，背光源也可以包括兩個led燈，兩個led燈均勻分布在 保護(hù)層的下方。例如，其中一個led燈位于光學(xué)指紋傳感器310左側(cè)邊，另一個led燈位于光學(xué)指紋傳感器310右側(cè)邊，也進(jìn)行輪流采圖。其它實(shí)施例中，背光源可以包括三個以上led燈，三個以上led燈均勻分布在保護(hù)層的下方，也進(jìn)行輪流采圖。

更多本實(shí)施例所提供的光學(xué)指紋傳感器模組的結(jié)構(gòu)和優(yōu)點(diǎn)可以參考前述實(shí)施例相應(yīng)內(nèi)容。

本發(fā)明第三實(shí)施例提供另一種光學(xué)指紋傳感器模組，請參考圖5。圖5是所述光學(xué)指紋傳感器模組的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。所述光學(xué)指紋傳感器模組包括保護(hù)層400、光學(xué)指紋傳感器410和背光源420。保護(hù)層400上表面用于手指430接觸按壓。背光源420位于保護(hù)層400下方，光學(xué)指紋傳感器410位于保護(hù)層400下方。背光源420位于光學(xué)指紋傳感器410的側(cè)邊。保護(hù)層400和光學(xué)指紋傳感器410之間具有光學(xué)墊高層430，保護(hù)層400、光學(xué)墊高層430和光學(xué)指紋傳感器410三者直接層疊。

本實(shí)施例中，光學(xué)墊高層430用于接收背光源發(fā)出光線的側(cè)面具有光增透層440，光增透層440能夠增加所述背光源的光線進(jìn)入光學(xué)墊高層430的比例。

更多本實(shí)施例所提供的光學(xué)指紋傳感器模組的結(jié)構(gòu)和優(yōu)點(diǎn)可以參考前述實(shí)施例相應(yīng)內(nèi)容。

本發(fā)明第四實(shí)施例提供另一種光學(xué)指紋傳感器模組，請參考圖6。圖6是所述光學(xué)指紋傳感器模組的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。所述光學(xué)指紋傳感器模組包括保護(hù)層500、光學(xué)指紋傳感器510和背光源520。保護(hù)層500上表面用于手指接觸按壓。背光源520位于保護(hù)層500下方，光學(xué)指紋傳感器510位于保護(hù)層500下方。背光源520位于光學(xué)指紋傳感器510的側(cè)邊。光學(xué)指紋傳感器510和保護(hù)層500之間具有光學(xué)墊高層530，保護(hù)層500、光學(xué)墊高層530和光學(xué)指紋傳感器510三者直接粘貼在一起(三者之間通過膠層粘貼，所述膠層未顯示)。

本實(shí)施例中，背光源520的出光面前面具有聚光透鏡540，聚光透鏡540能夠使背光源520的光線轉(zhuǎn)換為平行光或近平行光(所述近平行光指光線之 間的角度差異小于10度)，背光源520的光線先進(jìn)入聚光透鏡540，再進(jìn)入光學(xué)墊高層530。即增加聚光透鏡540，使入射光為平行或近平行光，從而解決指紋圖像畸變的問題。

更多本實(shí)施例所提供的光學(xué)指紋傳感器模組的結(jié)構(gòu)和優(yōu)點(diǎn)可以參考前述實(shí)施例相應(yīng)內(nèi)容。

本發(fā)明第五實(shí)施例提供另一種光學(xué)指紋傳感器模組，請參考圖7。圖7是所述光學(xué)指紋傳感器模組的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。所述光學(xué)指紋傳感器模組包括保護(hù)層600、光學(xué)指紋傳感器610和背光源620。保護(hù)層600上表面用于手指接觸按壓。背光源620位于保護(hù)層600下方，光學(xué)指紋傳感器610位于保護(hù)層600下方。背光源620位于光學(xué)指紋傳感器610的側(cè)邊。光學(xué)指紋傳感器610和保護(hù)層600之間還具有光學(xué)墊高層630，光學(xué)指紋傳感器610、光學(xué)墊高層630和保護(hù)層600三者從下到上直接層疊。

本實(shí)施例中，光學(xué)墊高層630的側(cè)面為聚光面，所述聚光面將所述背光源發(fā)出的光線轉(zhuǎn)換為平行光或近平行光，從而提高指紋成像質(zhì)量。

本實(shí)施例中，光學(xué)墊高層630可以為玻璃層、塑料層或者光學(xué)膠層，光學(xué)墊高層630的折射率可以調(diào)整在1.2以上，從而使光學(xué)墊高層630更好地提高光學(xué)指紋傳感器模組所采集的指紋圖像質(zhì)量。

本實(shí)施例中，所述聚光面可以為斜面、球冠面、橢球冠面、圓錐側(cè)面或者棱錐側(cè)面。

需要說明的是，其它實(shí)施例中，光學(xué)墊高層630的側(cè)表面上還可以具有光增透層(未示出)，所述光增透層能夠增加背光源620的光線進(jìn)入光學(xué)墊高層630的比例，從而增大指紋圖像信號值。

更多本實(shí)施例所提供的光學(xué)指紋傳感器模組的結(jié)構(gòu)和優(yōu)點(diǎn)可以參考前述實(shí)施例相應(yīng)內(nèi)容。

雖然本發(fā)明披露如上，但本發(fā)明并非限定于此。任何本領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，均可作各種更動與修改，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以權(quán)利要求所限定的范圍為準(zhǔn)。