本發(fā)明涉及信號(hào)處理技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種擦除筆跡的識(shí)別方法和系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

畫(huà)圖功能為各類(lèi)智能終端(如個(gè)人計(jì)算機(jī)、平板電腦等)的操作系統(tǒng)所攜帶的畫(huà)圖軟件，以及各種圖像數(shù)據(jù)處理軟件具備的重要功能。對(duì)相應(yīng)畫(huà)板上的筆跡進(jìn)行擦除是上述畫(huà)圖功能中的重要內(nèi)容。

傳統(tǒng)方案在利用畫(huà)圖軟件或者圖像數(shù)據(jù)處理軟件上的擦除工具進(jìn)行畫(huà)板上相應(yīng)筆跡的擦除過(guò)程中，需要通過(guò)擦除工具(如橡皮擦或者擦除框等)選中相應(yīng)畫(huà)板上的筆跡，再檢測(cè)筆跡與相應(yīng)的擦除工具范圍之間的關(guān)系，根據(jù)檢測(cè)結(jié)果執(zhí)行上述擦除工具的擦除功能；比如，若某筆跡在擦除工具范圍內(nèi)，則利用擦除工具擦除上述擦除工具范圍內(nèi)的筆跡。在對(duì)筆跡與擦除工具范圍之間的關(guān)系進(jìn)行檢測(cè)的過(guò)程中，傳統(tǒng)方案需要對(duì)畫(huà)板上的各個(gè)筆跡進(jìn)行遍歷，以實(shí)現(xiàn)擦除工具范圍內(nèi)筆跡的檢測(cè)，該過(guò)程存在較大的遍歷工作量，容易影響擦除筆跡的效率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

基于此，有必要針對(duì)傳統(tǒng)方案在筆跡擦除的過(guò)程中，存在較大的遍歷工作量，容易影響擦除筆跡的效率的技術(shù)問(wèn)題，提供一種擦除筆跡的識(shí)別方法和系統(tǒng)。

一種擦除筆跡的識(shí)別方法，包括如下步驟：

獲取筆跡上斜率方向發(fā)生變化的筆跡拐點(diǎn)；所述筆跡拐點(diǎn)包括筆跡上的起始點(diǎn)、終止點(diǎn)以及兩側(cè)筆跡的斜率之積不為正的點(diǎn)；

分別以相鄰的兩個(gè)筆跡拐點(diǎn)為頂點(diǎn)構(gòu)建最小外接矩形，獲取與擦除工具范圍相交的最小外接矩形，得到若干個(gè)目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域；

分別對(duì)各個(gè)目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的筆跡進(jìn)行遍歷，識(shí)別落在所述擦除工具范圍內(nèi)的筆跡段。

一種擦除筆跡的識(shí)別系統(tǒng)，包括：

檢測(cè)模塊，獲取筆跡上斜率方向發(fā)生變化的筆跡拐點(diǎn)；所述筆跡拐點(diǎn)包括筆跡上的起始點(diǎn)、終止點(diǎn)以及兩側(cè)筆跡的斜率之積不為正的點(diǎn)；

構(gòu)建模塊，分別以相鄰的兩個(gè)筆跡拐點(diǎn)為頂點(diǎn)構(gòu)建最小外接矩形，獲取與擦除工具范圍相交的最小外接矩形，得到若干個(gè)目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域；

識(shí)別模塊，分別對(duì)各個(gè)目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的筆跡進(jìn)行遍歷，識(shí)別落在所述擦除工具范圍內(nèi)的筆跡段。

上述擦除筆跡的識(shí)別方法和系統(tǒng)，可以檢測(cè)筆跡上的筆跡拐點(diǎn)，根據(jù)上述筆跡拐點(diǎn)構(gòu)建相應(yīng)的最小外接矩形，以此獲取與相應(yīng)擦除工具范圍相交的目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域，再對(duì)各個(gè)目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的筆跡進(jìn)行遍歷，識(shí)別落在所述擦除工具范圍內(nèi)的筆跡段，以對(duì)落在所述擦除工具范圍內(nèi)的筆跡段進(jìn)行擦除等處理，其中僅需對(duì)相應(yīng)目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的筆跡進(jìn)行遍歷，使遍歷工作量得到有效的降低，有助于降低相應(yīng)擦除過(guò)程的工作量，從而提高了筆跡的擦除效率。

附圖說(shuō)明

圖1為一個(gè)實(shí)施例的擦除筆跡的識(shí)別方法流程圖；

圖2為一個(gè)實(shí)施例的筆跡示意圖；

圖3為一個(gè)實(shí)施例的筆跡示意圖；

圖4為一個(gè)實(shí)施例的擦除筆跡的識(shí)別系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的擦除筆跡的識(shí)別方法和系統(tǒng)的具體實(shí)施方式作詳細(xì)描述。

參考圖1，圖1所示為一個(gè)實(shí)施例的擦除筆跡的識(shí)別方法流程圖，包括如下步驟：

S10，獲取筆跡上斜率方向發(fā)生變化的筆跡拐點(diǎn)；所述筆跡拐點(diǎn)包括筆跡上的起始點(diǎn)、終止點(diǎn)以及兩側(cè)筆跡的斜率之積不為正的點(diǎn)；

上述筆跡為用戶通過(guò)鼠標(biāo)或者觸摸筆等輸入工具輸入相應(yīng)畫(huà)板上的筆跡，筆跡上某點(diǎn)對(duì)應(yīng)的斜率可以為該點(diǎn)切線的斜率，斜率符號(hào)通常與筆跡的變化趨勢(shì)相關(guān)。

若上述筆跡如圖2所示，則該筆跡的筆跡拐點(diǎn)包括：起始點(diǎn)A點(diǎn)、C點(diǎn)、D點(diǎn)和終止點(diǎn)E點(diǎn)；其中，C點(diǎn)和D點(diǎn)兩側(cè)筆跡的斜率之積為負(fù)。其中B點(diǎn)為該筆跡上的其他點(diǎn)。

S20，分別以相鄰的兩個(gè)筆跡拐點(diǎn)為頂點(diǎn)構(gòu)建最小外接矩形，獲取與擦除工具范圍相交的最小外接矩形，得到若干個(gè)目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域；

上述步驟可以構(gòu)建一個(gè)筆跡上述任意相鄰兩個(gè)筆跡拐點(diǎn)之間的最小外接矩形，以保證所構(gòu)建的矩形區(qū)域在包括相應(yīng)筆跡的基礎(chǔ)上，面積范圍達(dá)到最小，以減小后續(xù)在該矩形區(qū)域進(jìn)行遍歷的工作量。如圖2所示，筆跡的筆跡拐點(diǎn)包括：起始點(diǎn)A點(diǎn)、C點(diǎn)、D點(diǎn)和終止點(diǎn)E點(diǎn)，則所構(gòu)建矩形區(qū)域?yàn)椋篈點(diǎn)和C點(diǎn)之間的最小外接矩形51，C點(diǎn)和D點(diǎn)之間的最小外接矩形52，D點(diǎn)和E點(diǎn)之間的最小外接矩形53。

上述擦除工具范圍內(nèi)為橡皮擦或者擦除框等擦除工具在畫(huà)板上對(duì)應(yīng)的擦除范圍，擦除工具范圍的尺寸參數(shù)可以由相應(yīng)用戶設(shè)置，其通常為一個(gè)矩形范圍。上述橡皮擦或者擦除框可以如圖2所述的矩形范圍61，如圖2所示，與擦除工具范圍相交的最小外接矩形，即目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域?yàn)榫匦螀^(qū)域51和矩形區(qū)域53。

S30，分別對(duì)各個(gè)目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的筆跡進(jìn)行遍歷，識(shí)別落在所述擦除工具范圍內(nèi)的筆跡段。

上述步驟僅對(duì)各個(gè)目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的筆跡進(jìn)行遍歷，無(wú)需相應(yīng)畫(huà)板對(duì)應(yīng)的所有區(qū)域進(jìn)行遍歷，有效降低了遍歷工作量。參考圖2所示，目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域?yàn)榫匦螀^(qū)域51和矩形區(qū)域53，可以分別對(duì)矩形區(qū)域51和矩形區(qū)域53，以識(shí)別落在擦除工具范圍61內(nèi)的筆跡段EF，再對(duì)上述落在擦除工具范圍61內(nèi)的筆跡段,EF進(jìn)行擦除等處理。

本發(fā)明提供的擦除筆跡的識(shí)別方法，可以檢測(cè)筆跡上的筆跡拐點(diǎn)，根據(jù)上述筆跡拐點(diǎn)構(gòu)建相應(yīng)的最小外接矩形，以此獲取與相應(yīng)擦除工具范圍相交的目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域，再對(duì)各個(gè)目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的筆跡進(jìn)行遍歷，識(shí)別落在所述擦除工具范圍內(nèi)的筆跡段，以對(duì)落在所述擦除工具范圍內(nèi)的筆跡段進(jìn)行擦除等處理，其中僅需對(duì)相應(yīng)目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的筆跡進(jìn)行遍歷，使遍歷工作量得到有效的降低，有助于降低相應(yīng)擦除過(guò)程的工作量，從而提高了筆跡的擦除效率。

在一個(gè)實(shí)施例中，若落在所述擦除工具范圍61內(nèi)的筆跡段為矩形區(qū)域51內(nèi)AB上的筆跡段GB，則可以利用擦除工具將筆跡段GB進(jìn)行擦除，使筆跡AC變成兩段筆跡AG和BC。在后續(xù)擦除筆跡的識(shí)別過(guò)程中，再分別針對(duì)這兩段筆跡AG和BC進(jìn)行筆跡拐點(diǎn)的獲取以及相應(yīng)最小外界矩形的構(gòu)建，從所構(gòu)建的最小外界矩形中獲取目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域，對(duì)上述目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的筆跡進(jìn)行遍歷，以識(shí)別落在所述擦除工具范圍內(nèi)的筆跡段；進(jìn)一步縮小了下一次遍歷的區(qū)域范圍，從而使遍歷工作量得到減小。

在一個(gè)實(shí)施例中，上述獲取筆跡上斜率方向發(fā)生變化的筆跡拐點(diǎn)的過(guò)程可以包括：

檢測(cè)所述筆跡各處對(duì)應(yīng)的斜率；

在檢測(cè)到斜率的符號(hào)發(fā)生變化時(shí)，確定斜率符號(hào)發(fā)生變化所對(duì)應(yīng)的目標(biāo)點(diǎn)；其中，所述目標(biāo)點(diǎn)兩側(cè)的筆跡斜率的符號(hào)相反；

將所述目標(biāo)點(diǎn)以及所述筆跡上的起始點(diǎn)和終止點(diǎn)確定為筆跡的筆跡拐點(diǎn)。

上述筆跡各處對(duì)應(yīng)的斜率可以為筆跡上各處的點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的切線斜率。上述目標(biāo)點(diǎn)一側(cè)的筆跡斜率與目標(biāo)點(diǎn)另一側(cè)的筆跡斜率正負(fù)符號(hào)相反，例如，若目標(biāo)點(diǎn)左側(cè)的筆跡斜率為正，則目標(biāo)點(diǎn)右側(cè)的筆跡斜率為負(fù)。

在一個(gè)實(shí)施例中，上述獲取筆跡上斜率方向發(fā)生變化的筆跡拐點(diǎn)的過(guò)程可以包括：

獲取所述筆跡在畫(huà)板所在坐標(biāo)系對(duì)應(yīng)的筆跡函數(shù)；

計(jì)算筆跡函數(shù)的一階導(dǎo)數(shù)，求所述筆跡函數(shù)上使一階導(dǎo)數(shù)的值為零的目標(biāo)點(diǎn)；

將所述目標(biāo)點(diǎn)以及所述筆跡上的起始點(diǎn)和終止點(diǎn)確定為筆跡的筆跡拐點(diǎn)。

上述畫(huà)板通常為一個(gè)較大的矩形區(qū)域，畫(huà)板所在坐標(biāo)系可以以畫(huà)板的下邊界為橫軸(x軸)，以畫(huà)板的左邊界為縱軸(y軸)。

本實(shí)施例可以通過(guò)對(duì)筆跡進(jìn)行采樣取點(diǎn)，通過(guò)筆跡上多個(gè)筆跡點(diǎn)之間的關(guān)系特征獲取筆跡在畫(huà)板所在坐標(biāo)系對(duì)應(yīng)的筆跡函數(shù)，求上述筆跡函數(shù)的一階導(dǎo)數(shù)，通過(guò)計(jì)算使上述一階倒數(shù)為零的點(diǎn)，確定上述筆跡函數(shù)上的各個(gè)極點(diǎn)，以得到相應(yīng)的目標(biāo)點(diǎn)，從而進(jìn)行筆跡拐點(diǎn)的確定，所確定的筆跡拐點(diǎn)具有較高的準(zhǔn)確性。

在一個(gè)實(shí)施例中，上述獲取與擦除工具范圍相交的最小外接矩形的過(guò)程可以包括：

獲取各個(gè)最小外接矩形在畫(huà)板上的矩形坐標(biāo)范圍；

獲取擦除工具范圍對(duì)應(yīng)的擦除坐標(biāo)范圍；

檢測(cè)與所述擦除坐標(biāo)范圍存在交集的矩形坐標(biāo)范圍，將檢測(cè)得到的矩形坐標(biāo)范圍對(duì)應(yīng)的最小外接矩形確定為與擦除工具范圍相交的最小外接矩形。

上述矩形坐標(biāo)范圍為各個(gè)最小外接矩形在畫(huà)板所在坐標(biāo)系對(duì)應(yīng)的矩形坐標(biāo)范圍。擦除坐標(biāo)范圍為擦除工具在畫(huà)板所在坐標(biāo)系對(duì)應(yīng)的擦除范圍。

在一個(gè)實(shí)施例中，上述獲取筆跡上斜率方向發(fā)生變化的筆跡拐點(diǎn)的過(guò)程可以包括：

在所述筆跡上采樣取點(diǎn)，得到所述筆跡上的多個(gè)筆跡點(diǎn)；其中，任意相鄰兩個(gè)點(diǎn)之間的橫坐標(biāo)之差或者縱坐標(biāo)之差為設(shè)定值；

計(jì)算所述筆跡上任意相鄰兩個(gè)筆跡點(diǎn)之間線段的斜率，確定各個(gè)斜率的符號(hào)；

在斜率的符號(hào)發(fā)生變化時(shí)，獲取斜率符號(hào)不同的相鄰兩個(gè)斜率分別對(duì)應(yīng)的筆跡點(diǎn)，將兩個(gè)斜率對(duì)應(yīng)的公共筆跡點(diǎn)確定為目標(biāo)點(diǎn)；

將所述目標(biāo)點(diǎn)以及所述筆跡上的起始點(diǎn)和終止點(diǎn)確定為筆跡的筆跡拐點(diǎn)。

上述設(shè)定值可以設(shè)置為一個(gè)較小的值，如0.01等值，以使筆跡上采樣得到的筆跡點(diǎn)可以完整表征相應(yīng)筆跡各處的變化趨勢(shì)。如圖2所示，筆跡段BC至筆跡段CD之間的斜率發(fā)送發(fā)生變化，C點(diǎn)筆跡段BC和筆跡段CD之間的公共點(diǎn)，即為上述兩個(gè)斜率對(duì)應(yīng)的公共筆跡點(diǎn)為C點(diǎn)，

作為一個(gè)實(shí)施例，上述設(shè)定值的取值范圍為筆跡所在畫(huà)板對(duì)應(yīng)的坐標(biāo)系的單位長(zhǎng)度的百分之一至十分之一。

本實(shí)施例將設(shè)定值的取值范圍設(shè)置為筆跡所在畫(huà)板對(duì)應(yīng)的坐標(biāo)系的單位長(zhǎng)度的百分之一至十分之一，即設(shè)定值為筆跡所在畫(huà)板對(duì)應(yīng)的坐標(biāo)系的單位長(zhǎng)度的百分之一至十分之一這一范圍內(nèi)的任意值，使每相鄰兩個(gè)筆跡點(diǎn)之間橫坐標(biāo)之差或者縱坐標(biāo)之差足夠小，以此采樣得到的筆跡點(diǎn)可以完整表征相應(yīng)筆跡各處的變化趨勢(shì)。

在一個(gè)實(shí)施例中，上述分別對(duì)各個(gè)目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的筆跡進(jìn)行遍歷，識(shí)別落在所述擦除工具范圍內(nèi)的筆跡段的過(guò)程可以包括：

檢測(cè)任意一個(gè)目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域內(nèi)各個(gè)筆跡點(diǎn)，確定所述目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的首筆跡點(diǎn)；

從所述首筆跡點(diǎn)開(kāi)始，依次檢測(cè)目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的各個(gè)筆跡點(diǎn)是否落在所述擦除工具范圍內(nèi)；

將落在所述擦除工具范圍內(nèi)的筆跡點(diǎn)之間的筆跡確定為落在所述擦除工具范圍內(nèi)的筆跡段。

作為一個(gè)實(shí)施例，上述從所述首筆跡點(diǎn)開(kāi)始，依次檢測(cè)目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的各個(gè)筆跡點(diǎn)是否落在所述擦除工具范圍內(nèi)的過(guò)程可以包括：

從所述首筆跡點(diǎn)開(kāi)始，依次獲取各個(gè)筆跡點(diǎn)對(duì)應(yīng)的坐標(biāo)值，并獲取擦除工具范圍對(duì)應(yīng)的擦除坐標(biāo)范圍；

若所述筆跡點(diǎn)對(duì)應(yīng)的坐標(biāo)值在所述擦除坐標(biāo)范圍內(nèi)，則判定所述筆跡點(diǎn)落在所述擦除工具范圍內(nèi)。

本實(shí)施例中，任意一個(gè)目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的各個(gè)筆跡點(diǎn)的坐標(biāo)值均為遞增或者均為遞減，從首筆跡點(diǎn)開(kāi)始，依次檢測(cè)各個(gè)筆跡點(diǎn)是否落在所述擦除工具范圍內(nèi)，僅需從首筆跡點(diǎn)開(kāi)始，朝一個(gè)方向(增大的方向或者減小的方向)進(jìn)行相應(yīng)的檢測(cè)，因而具有較高的檢測(cè)效率。

作為一個(gè)實(shí)施例，上述將落在所述擦除工具范圍內(nèi)的筆跡點(diǎn)之間的筆跡確定為落在所述擦除工具范圍內(nèi)的筆跡段的過(guò)程包括：

獲取第一個(gè)落在所述擦除工具范圍內(nèi)的筆跡點(diǎn)，得到首擦除點(diǎn)；

獲取最后一個(gè)落在所述擦除工具范圍內(nèi)的筆跡點(diǎn)，得到末擦除點(diǎn)；

將落在所述首擦除點(diǎn)和末擦除點(diǎn)之間的筆跡確定為落在所述擦除工具范圍內(nèi)的筆跡段。

本實(shí)施例中，確定落在所述擦除工具范圍內(nèi)的筆跡段這一過(guò)程中，首先確定首擦除點(diǎn)和末擦除點(diǎn)，通過(guò)檢查上述首擦除點(diǎn)和末擦除點(diǎn)之間的筆跡進(jìn)行待擦除的筆跡段(落在所述擦除工具范圍內(nèi)的筆跡段)的確定，在保證準(zhǔn)確性的基礎(chǔ)上，提高了待擦除筆跡段的確定效率。

參考圖4，圖4所示為一個(gè)實(shí)施例的擦除筆跡的識(shí)別系統(tǒng)結(jié)果示意圖，包括：

檢測(cè)模塊10，獲取筆跡上斜率方向發(fā)生變化的筆跡拐點(diǎn)；所述筆跡拐點(diǎn)包括筆跡上的起始點(diǎn)、終止點(diǎn)以及兩側(cè)筆跡的斜率之積不為正的點(diǎn)；

構(gòu)建模塊20，分別以相鄰的兩個(gè)筆跡拐點(diǎn)為頂點(diǎn)構(gòu)建最小外接矩形，獲取與擦除工具范圍相交的最小外接矩形，得到若干個(gè)目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域；

識(shí)別模塊30，分別對(duì)各個(gè)目標(biāo)檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的筆跡進(jìn)行遍歷，識(shí)別落在所述擦除工具范圍內(nèi)的筆跡段。

本發(fā)明提供的擦除筆跡的識(shí)別系統(tǒng)與本發(fā)明提供的擦除筆跡的識(shí)別方法一一對(duì)應(yīng)，在所述擦除筆跡的識(shí)別方法的實(shí)施例闡述的技術(shù)特征及其有益效果均適用于擦除筆跡的識(shí)別系統(tǒng)的實(shí)施例中，特此聲明。

以上所述實(shí)施例的各技術(shù)特征可以進(jìn)行任意的組合，為使描述簡(jiǎn)潔，未對(duì)上述實(shí)施例中的各個(gè)技術(shù)特征所有可能的組合都進(jìn)行描述，然而，只要這些技術(shù)特征的組合不存在矛盾，都應(yīng)當(dāng)認(rèn)為是本說(shuō)明書(shū)記載的范圍。

以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本發(fā)明的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對(duì)發(fā)明專(zhuān)利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。因此，本發(fā)明專(zhuān)利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。