1.一種基于深度強化學(xué)習(xí)的光刻加工區(qū)快響應(yīng)調(diào)度方法,其特征在于,包括以下步驟:
2.如權(quán)利要求1所述的基于深度強化學(xué)習(xí)的光刻加工區(qū)快響應(yīng)調(diào)度方法,其特征在于:
3.如權(quán)利要求2所述的基于深度強化學(xué)習(xí)的光刻加工區(qū)快響應(yīng)調(diào)度方法,其特征在于:
4.如權(quán)利要求3所述的基于深度強化學(xué)習(xí)的光刻加工區(qū)快響應(yīng)調(diào)度方法,其特征在于:
5.如權(quán)利要求4所述的基于深度強化學(xué)習(xí)的光刻加工區(qū)快響應(yīng)調(diào)度方法,其特征在于:
6.一種光刻加工區(qū)快響應(yīng)調(diào)度系統(tǒng),與晶圓制造系統(tǒng)通信連接,其特征在于,包括:模型模塊、數(shù)據(jù)交互模塊、光刻加工區(qū)快響應(yīng)調(diào)度控制模塊,
7.如權(quán)利要求6所述的光刻加工區(qū)快響應(yīng)調(diào)度系統(tǒng),其特征在于:
8.如權(quán)利要求6所述的光刻加工區(qū)快響應(yīng)調(diào)度系統(tǒng),其特征在于:
9.一種計算機可讀存儲介質(zhì),其上存儲有計算機程序指令,所述計算機程序指令被處理器執(zhí)行時實現(xiàn)如權(quán)利要求1~8中任意一項所述的基于深度強化學(xué)習(xí)的光刻加工區(qū)快響應(yīng)調(diào)度方法中的步驟。