本發(fā)明涉及引線框架制作，具體為一種引線框架制作圖紙的設(shè)計(jì)方法。

背景技術(shù)：

1、引線框架作為集成電路中的主要結(jié)構(gòu)材料，可起到散熱、支撐和固定芯片的基本作用，以及連接外部電路和傳遞電信號(hào)的關(guān)鍵作用。隨著科技水平的發(fā)展，集成電路市場的規(guī)模不斷擴(kuò)大，基于此對(duì)引線框架的需求量和性能要求也在逐漸提高；所以，在制作引線框架時(shí)，應(yīng)當(dāng)盡量提高生產(chǎn)效率以及產(chǎn)品的合格率和穩(wěn)定性。制作引線框架包括若干環(huán)節(jié)，其中位于前端的是設(shè)計(jì)環(huán)節(jié)，該環(huán)節(jié)中需要根據(jù)客戶要求設(shè)計(jì)出能夠投入后續(xù)制作環(huán)節(jié)的引線框架制作圖紙；基于引線框架制作圖紙所進(jìn)行的后續(xù)環(huán)節(jié)中包括蝕刻環(huán)節(jié)，該環(huán)節(jié)中需要采用蝕刻設(shè)備對(duì)基材進(jìn)行蝕刻處理。

2、現(xiàn)有的蝕刻工藝中，存在著側(cè)蝕反應(yīng)這一不可避免的問題，其具體是指對(duì)于蝕刻對(duì)象所形成的蝕刻效果，不僅會(huì)沿著垂直方向（即深度方向）進(jìn)行，還會(huì)在蝕刻對(duì)象邊緣的側(cè)面方向上進(jìn)行一定程度的腐蝕，進(jìn)而會(huì)導(dǎo)致蝕刻對(duì)象的線條或圖形的側(cè)面寬度發(fā)生變化。在需要應(yīng)用蝕刻工藝的各產(chǎn)品制作技術(shù)中，為應(yīng)對(duì)此問題，通常采用的是蝕刻補(bǔ)償設(shè)計(jì)的方式，即在產(chǎn)品制作圖紙的設(shè)計(jì)環(huán)節(jié)中，對(duì)產(chǎn)品制作圖紙進(jìn)行補(bǔ)償設(shè)計(jì)，以確保蝕刻后的圖形尺寸符合要求。例如公開號(hào)為cn117460170a的中國專利提供了一種提高覆銅陶瓷基板蝕刻工藝均勻性的菲林設(shè)計(jì)，其中的具體步驟包括s3.根據(jù)補(bǔ)償量測試進(jìn)行蝕刻量補(bǔ)償。

3、因此，現(xiàn)有的引線框架制作技術(shù)中，在前端的設(shè)計(jì)環(huán)節(jié)，通常是先由客戶提供訂單所需產(chǎn)品的圖紙，然后引線框架制造商再結(jié)合自己的蝕刻設(shè)備補(bǔ)償系數(shù)對(duì)圖紙進(jìn)行若干次反復(fù)的修改和測試，直至形成合格穩(wěn)定的引線框架制作圖紙，引線框架制作圖紙上為經(jīng)過若干次反復(fù)修改后的產(chǎn)品圖案。然而，這種方式存在著以下局限性：其一，對(duì)于種類繁多的不同產(chǎn)品，每次都需要單獨(dú)進(jìn)行多次的修改和測試，并且在過程中還要考慮圖案尺寸、形狀以及基材厚度等各種因素，因此工作量大、效率低，會(huì)導(dǎo)致費(fèi)時(shí)費(fèi)力，進(jìn)而會(huì)造成制作引線框架的周期較長。其二，制作引線框架時(shí)，在進(jìn)行蝕刻處理前需要先對(duì)基材表面覆蓋的干膜進(jìn)行曝光、顯影處理，由于曝光機(jī)的最小分辨率和干膜的解像性、附著性的影響，曝光機(jī)所實(shí)際實(shí)現(xiàn)的曝光效果與理想的曝光效果之間會(huì)存在誤差；若在設(shè)計(jì)圖紙時(shí)不考慮此誤差，也會(huì)造成蝕刻后所實(shí)際形成的產(chǎn)品圖案不完全符合客戶要求，進(jìn)而會(huì)影響產(chǎn)品的合格率和穩(wěn)定性。

4、綜上所述，本發(fā)明提供一種引線框架制作圖紙的設(shè)計(jì)方法。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的在于提供一種引線框架制作圖紙的設(shè)計(jì)方法，以解決上述背景技術(shù)中所提到的，現(xiàn)有的引線框架制作技術(shù)中，所采用的引線框架制作圖紙的設(shè)計(jì)方法存在著工作量大、效率低、周期長以及合格率與穩(wěn)定性不夠理想的問題。

2、本發(fā)明是采用以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：

3、一種引線框架制作圖紙的設(shè)計(jì)方法，包括如下步驟：

4、步驟s1：根據(jù)客戶提供的目標(biāo)產(chǎn)品圖紙，獲取引線框架需求圖案；

5、步驟s2：對(duì)引線框架需求圖案進(jìn)行環(huán)式處理，以形成引線框架測試圖紙；

6、步驟s3：對(duì)引線框架測試圖紙進(jìn)行合格性驗(yàn)證；

7、其中，所述步驟s2中的進(jìn)行環(huán)式處理包括如下子步驟：

8、步驟s2-1：在引線框架需求圖案上形成側(cè)蝕抵消環(huán)；

9、所述側(cè)蝕抵消環(huán)用于抵消制作引線框架時(shí)蝕刻工序中側(cè)蝕反應(yīng)的影響；

10、步驟s2-2：在側(cè)蝕抵消環(huán)的基礎(chǔ)上形成參數(shù)兼容環(huán)；

11、所述參數(shù)兼容環(huán)用于兼容制作引線框架時(shí)設(shè)備參數(shù)和干膜參數(shù)的影響。

12、本發(fā)明所提供的設(shè)計(jì)方法中，通過對(duì)引線框架需求圖案進(jìn)行環(huán)式處理，可以形成用于抵消側(cè)蝕反應(yīng)影響的側(cè)蝕抵消環(huán)、用于兼容設(shè)備參數(shù)和干膜參數(shù)影響的參數(shù)兼容環(huán)；在進(jìn)行蝕刻環(huán)節(jié)時(shí)，只需要在參數(shù)兼容環(huán)上進(jìn)行顯影處理和蝕刻處理，便可以得到引線框架需求圖案?；谇笆龅膫?cè)蝕抵消環(huán)和參數(shù)兼容環(huán)，可以有效提高蝕刻后實(shí)際圖案與客戶所要求圖案之間的匹配度，從而能夠提高產(chǎn)品的合格率和穩(wěn)定性；并且，對(duì)于采用同參數(shù)設(shè)備、干膜和基材厚度的不同種類圖案，側(cè)蝕抵消環(huán)和參數(shù)兼容環(huán)能夠同等適用，由此使得進(jìn)行設(shè)計(jì)時(shí)不需要在考慮圖案尺寸、形狀的同時(shí)，對(duì)不同種類圖案單獨(dú)進(jìn)行多次的反復(fù)修改和測試，而是通過環(huán)式處理進(jìn)行統(tǒng)一把控，進(jìn)而可以大大節(jié)省工作量、提高工作效率，從而能夠有效縮短引線框架的制作周期。

13、進(jìn)一步地，所述步驟s2-1中：在引線框架需求圖案的基礎(chǔ)上，獲取引線框架需求圖案的各邊均向其內(nèi)側(cè)縮小同樣距離后形成的側(cè)蝕抵消環(huán)邊，所述同樣距離為側(cè)蝕抵消線寬；所述側(cè)蝕抵消環(huán)邊與引線框架需求圖案各邊之間形成的環(huán)即為側(cè)蝕抵消環(huán)。

14、進(jìn)一步地，所述步驟s2-2中：在側(cè)蝕抵消環(huán)邊的基礎(chǔ)上，獲取側(cè)蝕抵消環(huán)邊向其內(nèi)側(cè)縮小一定距離后形成的參數(shù)兼容環(huán)邊，所述一定距離為最小理想線寬；所述參數(shù)兼容環(huán)邊與側(cè)蝕抵消環(huán)邊之間形成的環(huán)即為參數(shù)兼容環(huán)。

15、進(jìn)一步地，所述側(cè)蝕抵消線寬根據(jù)蝕刻設(shè)備的側(cè)蝕量決定，所述設(shè)備的側(cè)蝕量通過使用全孔測試板進(jìn)行蝕刻試驗(yàn)獲得；其中，側(cè)蝕抵消線寬=（蝕刻試驗(yàn)測量值-全孔測試板標(biāo)準(zhǔn)值）×1000÷2×（引線框架定位孔標(biāo)準(zhǔn)值÷全孔測試板標(biāo)準(zhǔn)值）2，式中的蝕刻試驗(yàn)測量值為蝕刻后全孔測試板上圓孔的實(shí)際直徑、全孔測試板標(biāo)準(zhǔn)值為要求的蝕刻后全孔測試板上圓孔的標(biāo)準(zhǔn)直徑、引線框架定位孔標(biāo)準(zhǔn)值為引線框架客戶要求的蝕刻后定位孔的標(biāo)準(zhǔn)直徑。

16、進(jìn)一步地，所述最小理想線寬根據(jù)曝光設(shè)備的最小分辨率以及干膜的解像性參數(shù)和附著性參數(shù)決定；最小理想線寬=?max{曝光機(jī)的最小分辨率，干膜的解像性參數(shù)，干膜的附著性參數(shù)}。

17、進(jìn)一步地，所述步驟s3中：進(jìn)行合格性驗(yàn)證時(shí)，獲取驗(yàn)證結(jié)果為是否合格以及不合格時(shí)存在的誤差；若驗(yàn)證結(jié)果為合格，則將被驗(yàn)證的引線框架測試圖紙投入制作工序；若驗(yàn)證結(jié)果為不合格，則重復(fù)進(jìn)行步驟s2和步驟s3，直至驗(yàn)證結(jié)果為合格；在重復(fù)進(jìn)行步驟s2時(shí)，根據(jù)所獲取的不合格時(shí)存在的誤差，相應(yīng)調(diào)整側(cè)蝕抵消環(huán)和參數(shù)兼容環(huán)的大小。

18、進(jìn)一步地，當(dāng)引線框架需求圖案為規(guī)則圖形，則在形成側(cè)蝕抵消環(huán)或參數(shù)兼容環(huán)時(shí)，以該規(guī)則圖形的中心為基點(diǎn)，按照側(cè)蝕抵消線寬或最小理想線寬對(duì)該規(guī)則圖形的各邊同時(shí)進(jìn)行縮小。

19、進(jìn)一步地，當(dāng)引線框架需求圖案為不屬于引腳類產(chǎn)品形狀的不規(guī)則圖形，則在形成側(cè)蝕抵消環(huán)或參數(shù)兼容環(huán)時(shí)，按照側(cè)蝕抵消線寬或最小理想線寬對(duì)該不規(guī)則圖形的各邊依次進(jìn)行縮小。

20、進(jìn)一步地，當(dāng)引線框架需求圖案為屬于引腳類產(chǎn)品形狀的不規(guī)則圖形，若圖形中存在≥90°的角，則在形成側(cè)蝕抵消環(huán)或參數(shù)兼容環(huán)時(shí)，用側(cè)蝕抵消環(huán)或參數(shù)兼容環(huán)的半徑對(duì)該≥90°的角進(jìn)行倒角處理。

21、進(jìn)一步地，當(dāng)引線框架需求圖案為屬于引腳類產(chǎn)品形狀的不規(guī)則圖形，若圖形中存在相連接的線條與圓弧，則在形成側(cè)蝕抵消環(huán)或參數(shù)兼容環(huán)時(shí)，先按照側(cè)蝕抵消線寬或最小理想線寬對(duì)該不規(guī)則圖形的各線條與圓弧依次進(jìn)行縮小，然后連接縮小后相斷開的線條與圓弧。

22、本發(fā)明實(shí)現(xiàn)的有益效果是：

23、提供一種引線框架制作圖紙的設(shè)計(jì)方法，通過設(shè)置形成側(cè)蝕抵消環(huán)和參數(shù)兼容環(huán)的環(huán)式處理，能夠抵消制作引線框架時(shí)側(cè)蝕反應(yīng)的影響，并且兼容設(shè)備參數(shù)和干膜參數(shù)的影響；基于此，將使用本設(shè)計(jì)方法所形成的引線框架測試圖紙投產(chǎn)后，可得到與客戶所要求圖案之間匹配度較高的實(shí)際圖案，從而能夠提高引線框架產(chǎn)品的合格率和穩(wěn)定性。與現(xiàn)有技術(shù)中引線框架制造商結(jié)合自己的蝕刻設(shè)備補(bǔ)償系數(shù)對(duì)圖紙進(jìn)行若干次反復(fù)修改和測試的方法相比，本設(shè)計(jì)方法可以通過環(huán)式處理對(duì)不同種類圖案進(jìn)行統(tǒng)一把控，并且不需要若干次的反復(fù)修改和測試，進(jìn)而可以大大節(jié)省工作量、提高工作效率，從而能夠有效縮短引線框架的制作周期。