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      一種掩模版圖優(yōu)化方法、程序產(chǎn)品、存儲(chǔ)介質(zhì)及設(shè)備與流程

      文檔序號(hào):40377649發(fā)布日期:2024-12-20 12:00閱讀:5來源:國知局
      一種掩模版圖優(yōu)化方法、程序產(chǎn)品、存儲(chǔ)介質(zhì)及設(shè)備與流程

      本發(fā)明涉及計(jì)算光刻,特別涉及一種掩模版圖優(yōu)化方法、程序產(chǎn)品、存儲(chǔ)介質(zhì)及設(shè)備。


      背景技術(shù):

      1、在光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的工作中,常常需要對缺陷信息進(jìn)行檢測和處理,在獲取缺陷信息時(shí)候,工作人員常??梢钥吹酱罅康娜毕菪畔?;在后期的迭代光刻修正的過程中,工作人員需要對特定的缺陷位置進(jìn)行修復(fù),并且需要關(guān)注這些主要缺陷的位置。

      2、目前光學(xué)規(guī)則檢查獲取的缺陷信息通常會(huì)記錄在數(shù)據(jù)庫中,工作人員可通過在數(shù)據(jù)庫中查找的方式來定位缺陷信息,但是對于比較大的版圖來說,數(shù)據(jù)庫也會(huì)變的十分的巨大,在進(jìn)行光學(xué)鄰近效應(yīng)修正迭代的過程中,對于之前定位過的缺陷信息,很難實(shí)現(xiàn)再定位。


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、為了解決現(xiàn)有的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正過程中對于之前定位過的缺陷信息很難實(shí)現(xiàn)再定位的問題,本發(fā)明提供一種掩模版圖優(yōu)化方法、程序產(chǎn)品、存儲(chǔ)介質(zhì)及設(shè)備。

      2、本發(fā)明為解決上述技術(shù)問題,提供如下的技術(shù)方案:一種掩模版圖優(yōu)化方法,所述方法包括:提供初始掩模版圖,對初始掩模版圖進(jìn)行光學(xué)鄰近效應(yīng)修正得到中間掩模版圖;檢測中間掩模版圖的缺陷以生成數(shù)據(jù)庫文件,數(shù)據(jù)庫文件中包含與每一所檢測缺陷對應(yīng)的缺陷數(shù)據(jù)組;通過第一圖形用戶界面對數(shù)據(jù)庫文件包含的缺陷數(shù)據(jù)組進(jìn)行實(shí)時(shí)顯示;接收在第一圖形用戶界面中對缺陷數(shù)據(jù)組的選擇指令,將所選擇的缺陷數(shù)據(jù)組記錄到第二圖形用戶界面并實(shí)時(shí)顯示;繼續(xù)進(jìn)行光學(xué)鄰近效應(yīng)的迭代修正,迭代過程中的每一輪修正結(jié)束后,根據(jù)新修正的中間掩模版圖更新數(shù)據(jù)庫文件;完成迭代修正后將最后一次迭代獲得的中間掩模版圖作為優(yōu)化掩模版圖輸出。

      3、優(yōu)選地,缺陷數(shù)據(jù)組包括對應(yīng)缺陷的類型信息、位置信息和數(shù)值信息。

      4、優(yōu)選地,所述方法還包括:提供第三圖形用戶界面用于展示中間掩模版圖,接收在第二圖形用戶界面中對缺陷數(shù)據(jù)組的選擇指令;從所選擇的缺陷數(shù)據(jù)組中獲取對應(yīng)缺陷的位置信息,根據(jù)獲取的位置信息在第三圖形用戶界面中定位顯示對應(yīng)缺陷。

      5、優(yōu)選地,第一圖形用戶界面和第二圖形用戶界面皆通過表格形式對缺陷數(shù)據(jù)組進(jìn)行顯示,第一圖形用戶界面和第二圖形用戶界面中的表格具備篩選和排序功能,第二圖形用戶界面還具備針對缺陷數(shù)據(jù)組的刪減功能。

      6、優(yōu)選地,通過光學(xué)規(guī)則檢查實(shí)現(xiàn)對中間掩模版圖的缺陷檢測,光學(xué)規(guī)則檢查時(shí)通過提供多種檢測器、檢測類型和檢測范圍,對中間掩模版圖在不同曝光條件下的曝光輪廓進(jìn)行檢查。

      7、優(yōu)選地,缺陷數(shù)據(jù)組還包括對應(yīng)缺陷的檢測器類型信息、檢測范圍信息和曝光條件信息。

      8、優(yōu)選地,在進(jìn)行光學(xué)鄰近效應(yīng)的迭代修正時(shí),可僅針對修正第二圖形用戶界面中展示的缺陷數(shù)據(jù)組所對應(yīng)的缺陷。

      9、本發(fā)明為解決上述技術(shù)問題,提供又一技術(shù)方案如下:一種程序產(chǎn)品,包括計(jì)算機(jī)程序/指令,所述計(jì)算機(jī)程序/指令被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如上所述的掩模版圖優(yōu)化方法的步驟。

      10、本發(fā)明為解決上述技術(shù)問題,提供又一技術(shù)方案如下:一種存儲(chǔ)介質(zhì),其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序/指令,所述計(jì)算機(jī)程序/指令被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如上所述的掩模版圖優(yōu)化方法的步驟。

      11、本發(fā)明為解決上述技術(shù)問題,提供又一技術(shù)方案如下:一種計(jì)算機(jī)設(shè)備,包括存儲(chǔ)器、處理器及存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器上的計(jì)算機(jī)程序,所述處理器執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序以實(shí)現(xiàn)如上所述的掩模版圖優(yōu)化方法的步驟。

      12、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明所提供的一種掩模版圖優(yōu)化方法、程序產(chǎn)品、存儲(chǔ)介質(zhì)及設(shè)備,具有如下的有益效果:

      13、1.本發(fā)明實(shí)施例提供的一種掩模版圖優(yōu)化方法,通過提供第一圖形用戶界面和第二圖形用戶界面,為工作人員提供可以對之前定位過的缺陷信息進(jìn)行快速重定位的功能,簡化了用戶在光學(xué)鄰近效應(yīng)修正過程中的操作步驟,提高了工作效率;具體的,先提供初始掩模版圖為后續(xù)的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正提供基礎(chǔ);對初始掩模版圖進(jìn)行光學(xué)鄰近效應(yīng)修正可以減少因光學(xué)鄰近效應(yīng)引起的偏差,利于提高掩模版圖的精準(zhǔn)度,檢測中間掩模版圖的缺陷,識(shí)別掩模版圖中的缺陷,為后續(xù)修正提供依據(jù),可以確保缺陷得到及時(shí)發(fā)現(xiàn)和修正,提高成品率;生成數(shù)據(jù)庫文件可以系統(tǒng)化記錄缺陷信息,方便缺陷信息的管理和利用;通過第一圖形用戶界面實(shí)時(shí)顯示缺陷數(shù)據(jù)組,提供直觀的缺陷信息展示方式,可以簡化用戶操作,提高效率,通過第二圖形用戶界面來記錄展示被選擇的缺陷數(shù)據(jù)組,可以在迭代修正缺陷的過程中實(shí)現(xiàn)重要缺陷地便捷關(guān)注和跟蹤。

      14、2.本發(fā)明實(shí)施例中,通過展示缺陷數(shù)據(jù)組中的類型信息、位置信息和數(shù)值信息,可以為工作人員提供全面的缺陷信息,幫助他們更有效地進(jìn)行缺陷管理、定位和修復(fù)工作;具體的,類型信息可以幫助工作人員了解缺陷的性質(zhì),例如是邊位置誤差、緊縮或者橋連等缺陷,從而更好地理解缺陷的成因和影響,不同類型缺陷的修復(fù)方法可能有所不同,了解缺陷類型有助于制定合理的修復(fù)計(jì)劃;位置信息使得工作人員能夠快速定位到缺陷發(fā)生的具體位置,便于進(jìn)行細(xì)致的檢查和修正,而且通過位置信息,工作人員可以跟蹤缺陷在不同修正輪次中的變化,評估修復(fù)效果;數(shù)值信息可以幫助工作人員量化缺陷的嚴(yán)重程度,數(shù)值信息的變化可以用來評估修復(fù)措施的有效性;綜上,通過提供多種類型的缺陷信息,工作人員可以更快地識(shí)別和定位問題,減少無效勞動(dòng),提高修復(fù)效率。

      15、3.本發(fā)明實(shí)施例中,通過提供第三圖形用戶界面用于展示中間掩模版圖,在第三圖形用戶界面上直接展示選定缺陷的位置,增強(qiáng)了缺陷信息的可視化效果,使得缺陷信息更加直觀易懂;根據(jù)第二圖形用戶界面中選定的缺陷數(shù)據(jù)組在第三圖形用戶界面中定位顯示對應(yīng)缺陷,可以顯著提高缺陷定位的準(zhǔn)確性和效率;通過自動(dòng)定位顯示缺陷,工作人員可以快速定位并處理缺陷,提高了整體的工作效率,自動(dòng)化的缺陷定位減少了人為查找缺陷時(shí)可能出現(xiàn)的錯(cuò)誤,提高了缺陷管理的準(zhǔn)確性。

      16、4.本發(fā)明實(shí)施例中,通過第一圖形用戶界面和第二圖形用戶界面中的表格形式顯示缺陷數(shù)據(jù)組,表格形式的展示使得缺陷信息更加清晰,減少了由于信息混亂而導(dǎo)致的錯(cuò)誤,提高了信息的可讀性,使得用戶可以方便地瀏覽和管理缺陷信息;表格具備篩選和排序功能,篩選功能使得用戶能夠快速找到關(guān)注的缺陷類型,而排序功能則幫助用戶按照缺陷的嚴(yán)重程度或其他指標(biāo)進(jìn)行排序,用戶可以根據(jù)需要快速定位特定類型的缺陷信息,提高了處理缺陷信息的效率。第二圖形用戶界面還具備針對缺陷數(shù)據(jù)組的刪減功能,使得用戶可以方便地去除不再需要的缺陷信息,簡化了缺陷信息的管理流程。

      17、5.本發(fā)明實(shí)施例中,通過提供多種檢測器、檢測類型和檢測范圍,可以實(shí)現(xiàn)對掩模版圖在不同曝光條件下的曝光輪廓進(jìn)行全面檢測,確保所有類型的缺陷都被發(fā)現(xiàn)。具體的,通過提供多種檢測器可以檢測不同類型的缺陷,如邊位置誤差、緊縮和橋連等,提高了檢測的全面性;可以根據(jù)不同的檢測需求選擇適當(dāng)?shù)臋z測類型,如基于規(guī)則的檢測、基于模型的檢測等,提高了檢測的靈活性,使得檢測過程能夠更好地適應(yīng)實(shí)際生產(chǎn)中的多樣化需求;可以根據(jù)需要設(shè)定不同的檢測范圍,如全局檢測、局部檢測等,提高了檢測的針對性,使得檢測過程更加高效;可以模擬不同的曝光條件,如不同的曝光劑量、焦點(diǎn)偏移等,以檢測掩模版圖在這些條件下的表現(xiàn),提高了檢測的真實(shí)性和可靠性,確保掩模版圖在實(shí)際生產(chǎn)中的表現(xiàn)符合設(shè)計(jì)要求。

      18、6.本發(fā)明實(shí)施例中,通過展示更詳細(xì)的缺陷數(shù)據(jù)組,可以進(jìn)一步提高工作人員的判斷和工作效率;通過提供檢測器類型信息,工作人員可以了解到檢測到的缺陷是由哪種類型的檢測器發(fā)現(xiàn)的,有助于更準(zhǔn)確地判斷缺陷的性質(zhì)和原因;通過提供檢測范圍信息,工作人員可以了解到缺陷是在哪個(gè)區(qū)域或范圍內(nèi)被發(fā)現(xiàn)的,有助于更精確地定位缺陷的位置;通過提供曝光條件信息,工作人員可以了解到缺陷是在哪種曝光條件下被發(fā)現(xiàn)的,有助于分析缺陷產(chǎn)生的原因,并據(jù)此調(diào)整曝光條件。

      19、7.本發(fā)明實(shí)施例中,通過僅針對第二圖形用戶界面中展示的缺陷數(shù)據(jù)組所對應(yīng)的缺陷進(jìn)行修正,可以確保每一次迭代修正都是基于最需要關(guān)注的缺陷進(jìn)行,這有助于提高缺陷修復(fù)的針對性,確保每一次修正都是有價(jià)值的,避免了對非關(guān)鍵缺陷的過度關(guān)注,這有助于提高缺陷修復(fù)的效率,減少修復(fù)缺陷所需的時(shí)間,加快掩模版圖優(yōu)化的進(jìn)程。

      20、8.為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明實(shí)施例還提供一種程序產(chǎn)品,包括計(jì)算機(jī)程序/指令,所述計(jì)算機(jī)程序/指令被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如上所述的掩模版圖優(yōu)化方法的步驟。本程序產(chǎn)品具有與上述掩模版圖優(yōu)化方法相同的有益效果,在此不做贅述。

      21、9.為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明實(shí)施例還提供一種存儲(chǔ)介質(zhì),其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序/指令,所述計(jì)算機(jī)程序/指令被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如上所述的掩模版圖優(yōu)化方法的步驟。本存儲(chǔ)介質(zhì)具有與上述掩模版圖優(yōu)化方法相同的有益效果,在此不做贅述。

      22、10.為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明實(shí)施例還提供一種計(jì)算機(jī)設(shè)備,包括存儲(chǔ)器、處理器及存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器上的計(jì)算機(jī)程序,所述處理器執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序以實(shí)現(xiàn)如上所述的掩模版圖優(yōu)化方法的步驟。本計(jì)算機(jī)設(shè)備具有與上述掩模版圖優(yōu)化方法相同的有益效果,在此不做贅述。

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