]對(duì)于在相關(guān)技術(shù)中使用ITO作為觸摸電極圖案的觸摸屏面板，為了形成一個(gè)觸摸電極圖案，需要將ITO沉積在支承構(gòu)件上以形成光致抗蝕劑層，并且需要進(jìn)行曝光、顯影、蝕刻和剝離處理來對(duì)ITO進(jìn)行圖案化。此外，當(dāng)期望在已形成的ITO觸摸電極圖案上形成另外的ITO觸摸電極圖案時(shí)，在已形成的ITO觸摸電極圖案與另外的ITO觸摸電極圖案之間設(shè)置單獨(dú)的另外的支承構(gòu)件。因此，處理成本根據(jù)另外的基體材料的使用而增加，并且整個(gè)觸摸屏面板的厚度增加，使得難以制造超薄觸摸屏面板。然而，在制造根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方案的觸摸屏面板的方法中，可以通過在第一絕緣層20和第一觸摸電極圖案40上設(shè)置上部光致抗蝕劑膜130和形成在上部光致抗蝕劑膜130上的下部透明導(dǎo)電層150來形成觸摸電極圖案，并且僅進(jìn)行用于圖案化的曝光和顯影。因此，蝕刻處理和剝離處理等不是必需的，使得可以根據(jù)處理數(shù)目的減少而降低處理成本和處理時(shí)間，可以降低處理難度，并且另外的基體材料的使用不是必需的，使得可以降低處理成本，并且可以制造超薄觸摸屏。
[0096]此外，當(dāng)期望在已形成的ITO觸摸電極圖案上形成另外的ITO觸摸電極圖案時(shí)，可以在已形成的ITO觸摸電極圖案與另外的ITO觸摸電極圖案之間形成絕緣層而非支承構(gòu)件。在該種情況下，僅在已形成的ITO觸摸電極圖案和另外的ITO觸摸電極圖案的交叉點(diǎn)處形成絕緣層以使觸摸屏面板的厚度的增加最小化。當(dāng)通過上述方法形成絕緣層時(shí)，在工藝中增加單獨(dú)的掩模處理是不利的，并且難以準(zhǔn)確地使絕緣層對(duì)準(zhǔn)。因此，在制造根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方案的觸摸屏面板的方法中，其中用于形成第二觸摸電極圖案50的上部光致抗蝕劑膜130被硬化的第二絕緣層30使第一觸摸電極圖案40絕緣于第二觸摸電極圖案50，使得形成用于使第一觸摸電極圖案40絕緣于第二觸摸電極圖案50的單獨(dú)的絕緣層的工藝不是必需的。
[0097] 已參照附圖更加具體地描述了本發(fā)明的示例性實(shí)施方案，但本發(fā)明本質(zhì)上不限于該示例性實(shí)施方案，而是可以在本發(fā)明的技術(shù)精神的范圍內(nèi)進(jìn)行各種修改和執(zhí)行。因此，本文中公開的各種示例性實(shí)施方案不意圖限制該技術(shù)精神而是結(jié)合下面的權(quán)利要求所表明的真實(shí)的范圍和精神來描述。因此，上述實(shí)施方案全部是示例性的而非限于有限的形式。應(yīng)基于以下所附的權(quán)利要求來理解本發(fā)明的范圍，并且應(yīng)理解的是，包含在與權(quán)利要求等同的范圍內(nèi)的技術(shù)精神屬于本發(fā)明。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種觸摸屏面板，包括: 支承構(gòu)件； 第一絕緣層，所述第一絕緣層形成在所述支承構(gòu)件上，并且包括交替設(shè)置的觸摸電極圖案支承部和連接部； 第一觸摸電極圖案，所述第一觸摸電極圖案形成在所述第一絕緣層的所述觸摸電極圖案支承部上； 第二絕緣層，所述第二絕緣層形成在所述第一絕緣層和所述第一觸摸電極圖案上，并且包括交替設(shè)置的觸摸電極圖案支承部和連接部；以及 第二觸摸電極圖案，所述第二觸摸電極圖案形成在所述第二絕緣層的所述觸摸電極圖案支承部上， 其中，所述第一絕緣層的所述觸摸電極圖案支承部的厚度大于所述第一絕緣層的所述連接部的厚度，并且 所述第二絕緣層的所述觸摸電極圖案支承部的厚度大于所述第二絕緣層的所述連接部的厚度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏面板，其中，所述第一絕緣層和所述第二絕緣層由光致抗蝕劑材料形成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏面板，其中，所述第一觸摸電極圖案和所述第二觸摸電極圖案是透明導(dǎo)電圖案。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的觸摸屏面板，其中，所述透明導(dǎo)電圖案由包含金屬的導(dǎo)電材料形成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏面板，其中，所述第一觸摸電極圖案沿第一方向延伸，并且 所述第二觸摸電極圖案沿垂直于所述第一方向的第二方向延伸。
6.一種觸摸屏面板，包括: 支承構(gòu)件； 第一光敏樹脂層，所述第一光敏樹脂層形成在所述支承構(gòu)件的一個(gè)表面上，并且具有凸部和凹部； 第一導(dǎo)電圖案，所述第一導(dǎo)電圖案形成在所述第一光敏樹脂層的所述凸部上； 第二光敏樹脂層，所述第二光敏樹脂層形成在所述第一光敏樹脂層和所述第一導(dǎo)電圖案上，并且包括具有第一厚度的第一部以及具有大于所述第一厚度的第二厚度的第二部；以及 第二導(dǎo)電圖案，所述第二導(dǎo)電圖案形成在所述第二光敏樹脂層的所述第二部上。
7.—種制造觸摸屏面板的方法，包括: 在支承構(gòu)件上設(shè)置下部光致抗蝕劑膜以及形成在所述下部光致抗蝕劑膜上的下部透明導(dǎo)電層； 通過對(duì)所述下部光致抗蝕劑膜曝光若干次來形成第一光致抗蝕劑硬化層，所述第一光致抗蝕劑硬化層包括交替設(shè)置的觸摸電極圖案支承部和連接部； 通過對(duì)所述下部光致抗蝕劑膜進(jìn)行顯影來形成第一透明導(dǎo)電圖案； 在所述第一光致抗蝕劑硬化層和所述第一透明導(dǎo)電圖案上設(shè)置上部光致抗蝕劑膜以及形成在所述上部光致抗蝕劑膜上的上部透明導(dǎo)電層； 通過對(duì)所述上部光致抗蝕劑膜曝光若干次來形成第二光致抗蝕劑硬化層，所述第二光致抗蝕劑硬化層包括交替設(shè)置的觸摸電極圖案支承部和連接部；以及通過對(duì)所述上部光致抗蝕劑膜進(jìn)行顯影來形成第二透明導(dǎo)電圖案。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，所述第一透明導(dǎo)電圖案和所述第二透明導(dǎo)電圖案包括含金屬的導(dǎo)電材料。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，所述形成第一光致抗蝕劑硬化層包括: 通過對(duì)所述下部光致抗蝕劑膜進(jìn)行曝光來形成所述第一光致抗蝕劑硬化層的觸摸電極圖案支承部；以及 通過對(duì)所述下部光致抗蝕劑膜進(jìn)行曝光來形成所述第一光致抗蝕劑硬化層的連接部，所述第一光致抗蝕劑硬化層的所述連接部的厚度小于所述第一光致抗蝕劑硬化層的所述觸摸電極圖案支承部的厚度。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中，所述形成第一光致抗蝕劑硬化層的所述觸摸電極圖案支承部包括通過設(shè)置掩膜來對(duì)所述下部光致抗蝕劑膜進(jìn)行曝光，所述掩模的與所述第一光致抗蝕劑硬化層的所述觸摸電極圖案支承部對(duì)應(yīng)的區(qū)域是開放的，以與所述下部透明導(dǎo)電層接觸。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中，所述形成所述第一光致抗蝕劑硬化層的連接部包括通過設(shè)置掩膜來對(duì)所述下部光致抗蝕劑膜進(jìn)行曝光，所述掩模的與所述第一光致抗蝕劑硬化層的所述觸摸電極圖案支承部以及所述第一光致抗蝕劑硬化層的所述連接部對(duì)應(yīng)的區(qū)域是開放的，以與所述下部透明導(dǎo)電層分隔開。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中，所述形成所述第一光致抗蝕劑硬化層的連接部包括對(duì)所述下部光致抗蝕劑膜的整個(gè)區(qū)域進(jìn)行曝光。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中，所述第一透明導(dǎo)電圖案形成在所述第一光致抗蝕劑硬化層的所述觸摸電極圖案支承部上。
14.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，所述形成第二光致抗蝕劑硬化層包括: 通過對(duì)所述上部光致抗蝕劑膜進(jìn)行曝光來形成所述第二光致抗蝕劑硬化層的觸摸電極圖案支承部；以及 通過對(duì)所述上部光致抗蝕劑膜進(jìn)行曝光來形成所述第二光致抗蝕劑硬化層的連接部，所述第二光致抗蝕劑硬化層的所述連接部的厚度小于所述第二光致抗蝕劑硬化層的所述觸摸電極圖案支承部的厚度。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述第二透明導(dǎo)電圖案形成在所述第一光致抗蝕劑硬化層的所述觸摸電極圖案支承部上。
【專利摘要】公開了一種觸摸屏面板以及制造觸摸屏面板的方法。觸摸屏面板包括：支承構(gòu)件；第一絕緣層，該第一絕緣層形成在支承構(gòu)件上，并且包括交替設(shè)置的觸摸電極圖案支承部和連接部；第一觸摸電極圖案，該第一觸摸電極圖案形成在第一絕緣層的觸摸電極圖案支承部上；第二絕緣層，該第二絕緣層形成在第一絕緣層和第一觸摸電極圖案上，并且包括交替設(shè)置的觸摸電極圖案支承部和連接部；以及第二觸摸電極圖案，該第二觸摸電極圖案形成在第二絕緣層的觸摸電極圖案支承部上，其中，第一絕緣層的觸摸電極圖案支承部的厚度大于第一絕緣層的連接部的厚度，并且第二絕緣層的觸摸電極圖案支承部的厚度大于第二絕緣層的連接部的厚度。
【IPC分類】G06F3-044
【公開號(hào)】CN104571751
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410553743
【發(fā)明人】金奇煥, 李基成, 金成珍, 金熙英, 金光鉉, 黃芝銀
【申請(qǐng)人】日造顛示器股份有限公司
【公開日】2015年4月29日
【申請(qǐng)日】2014年10月17日