一種利用oasis圖形陣列壓縮版圖數(shù)據(jù)的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本申請涉及一種集成電路版圖數(shù)據(jù)的處理方法，特別是涉及一種集成電路版圖數(shù) 據(jù)的壓縮方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 光學(xué)臨近修正（OPC，optical proximity correction)是通過預(yù)先改變光刻掩模 版上的圖形形狀和尺寸，例如預(yù)先補(bǔ)償線寬偏差（linewidth bias)、線末段縮短（line-end shortening)、拐角圓滑（corner rounding),并采用修正邊緣布局錯(cuò)誤或特征參數(shù)偏 差等措施，使得這些改變正好能夠補(bǔ)償曝光系統(tǒng)所造成的光學(xué)臨近效應(yīng)（〇PE，Optical Proximity Effect),從而使得光刻后娃片上圖形與設(shè)計(jì)圖形基本一致。
[0003] 對于關(guān)鍵尺寸在0. 13 y m以下的半導(dǎo)體制造工藝而言，對版圖進(jìn)行光學(xué)臨近修正 是最重要的步驟之一。這可以顯著提高集成電路生產(chǎn)時(shí)的圖形準(zhǔn)確度，進(jìn)而提高成品率，然 而也使得版圖數(shù)據(jù)大小顯著增加。統(tǒng)計(jì)發(fā)現(xiàn)，集成電路產(chǎn)品在進(jìn)行光學(xué)臨近修正之后的版 圖數(shù)據(jù)大小通常為進(jìn)行光學(xué)臨近修正之前的版圖數(shù)據(jù)大小的5~10倍。這是由于光學(xué)臨 近修正是基于版圖的各層進(jìn)行的，會將原本各層圖形之間的調(diào)用關(guān)系取消，而對每一層的 圖形都詳細(xì)記錄。例如原本在多個(gè)層中都存在相同圖形A，因而只需詳細(xì)記錄一次，以后調(diào) 用即可。而光學(xué)臨近修正則取消這種調(diào)用關(guān)系，改為在每一層中都詳細(xì)記錄該圖形A，因此 會使版圖數(shù)據(jù)文件的大小顯著增加。
[0004] 統(tǒng)計(jì)資料表明，0. 13i!m~90nm工藝的版圖數(shù)據(jù)文件在光學(xué)臨近修正后可以達(dá)到 幾個(gè)G甚至上百G，數(shù)據(jù)量非常龐大。版圖數(shù)據(jù)過大對于光刻掩膜版的制造是極為不利的。 首先，傳輸版圖數(shù)據(jù)將花費(fèi)大量時(shí)間。如果版圖數(shù)據(jù)文件的大小達(dá)到ITB即IO12字節(jié)，那么 傳輸時(shí)間將長達(dá)一天。其次，制造光刻掩膜版的部門對版圖數(shù)據(jù)的處理時(shí)間也將線性增長。 再次，存儲版圖數(shù)據(jù)文件也將占用大量存儲空間。因此，提高版圖數(shù)據(jù)的壓縮比就顯得至關(guān) 重要。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本申請所要解決的技術(shù)問題是提供一種壓縮版圖數(shù)據(jù)的方法，該方法利用OASIS 格式所提供的圖形陣列對OASIS格式的版圖數(shù)據(jù)文件進(jìn)行快速壓縮
[0006] 為解決上述技術(shù)問題，本申請利用OASIS圖形陣列壓縮版圖數(shù)據(jù)的方法包括如下 步驟：
[0007] 第1步，在OASIS格式的版圖數(shù)據(jù)的每一層中將所有相似圖形歸為一個(gè)集合；所述 相似圖形是指在同一層中的形狀和尺寸均相同的圖形；
[0008] 第2步，對每一個(gè)相似圖形集合，取其中所有圖形單元的同一點(diǎn)作為參考點(diǎn)，記錄 所有參考點(diǎn)的坐標(biāo)；
[0009] 第3步，對于具有三個(gè)以下參考點(diǎn)的每一個(gè)相似圖形集合，直接進(jìn)入第4步；
[0010] 對于具有四個(gè)以上參考點(diǎn)的每一個(gè)相似圖形集合，判斷以這些參考點(diǎn)為頂點(diǎn)是否 能形成平行四邊形；如果是，且所形成的平行四邊形為矩形，則以第一類圖形陣列來描述矩 形各頂點(diǎn)所對應(yīng)的圖形單元；如果是，但所形成的平行四邊形不是矩形，則以第六類圖形陣 列來描述平行四邊形各頂點(diǎn)所對應(yīng)的圖形單元；如果否，則進(jìn)入第4步；
[0011] 第4步，對于僅具有兩個(gè)圖形單元的相似圖形集合，不用圖形陣列來描述；
[0012] 對于具有三個(gè)以上圖形單元的每一個(gè)相似圖形集合，判斷該相似圖形集合中是否 有三個(gè)以上的參考點(diǎn)共線，稱為參考直線；如果有兩條以上參考直線，則將該相似圖形集合 分拆為兩個(gè)以上，分拆后的每個(gè)相似圖形集合僅對應(yīng)一條參考直線，然后進(jìn)入第5步；如果 有一條參考直線，則進(jìn)入第5步；如果無參考直線，則對該相似圖形集合不用圖形陣列來描 述；
[0013] 第5步，判斷參考直線是否平行于X軸或Y軸，以及該參考直線上的所有參考點(diǎn)是 否均勻分布；
[0014] -如果該參考直線平行于X軸且位于該參考直線上的所有參考點(diǎn)均勻分布，則 以第二類圖形陣列來描述該參考直線上的所有參考點(diǎn)對應(yīng)的圖形單元；
[0015] -如果該參考直線平行于X軸且位于該參考直線上的所有參考點(diǎn)不是均勻分 布，則以第四類圖形陣列來描述該參考直線上的所有參考點(diǎn)對應(yīng)的圖形單元；
[0016] --如果該參考直線平行于Y軸且位于該參考直線上的所有參考點(diǎn)均勻分布，則 以第三類圖形陣列來描述該參考直線上的所有參考點(diǎn)對應(yīng)的圖形單元；
[0017] --如果該參考直線平行于Y軸且位于該參考直線上的所有參考點(diǎn)不是均勻分 布，則以第五類圖形陣列來描述該參考直線上的所有參考點(diǎn)對應(yīng)的圖形單元；
[0018] -如果該參考直線既不平行于X軸也不平行于Y軸，但位于該參考直線上的所 有參考點(diǎn)均勻分布，則以第七類圖形陣列來描述該參考直線上的所有參考點(diǎn)對應(yīng)的圖形單 元；
[0019] -否則，對該相似圖形集合不用圖形陣列來描述。
[0020] 通用的壓縮算法例如zip壓縮算法，是基于二進(jìn)制數(shù)據(jù)文件的代碼的重復(fù)性進(jìn)行 壓縮。本申請則是利用了光學(xué)臨近修正以后的集成電路版圖在每一層中均存在大量重復(fù)圖 形的特點(diǎn)，以O(shè)ASIS圖形陣列對符合條件的多個(gè)圖形統(tǒng)一描述，從而實(shí)現(xiàn)對OASIS格式的版 圖數(shù)據(jù)文件進(jìn)行無損壓縮，具有很強(qiáng)的針對性、很好的可靠性、很高的壓縮比。
[0021] 本申請所述壓縮版圖數(shù)據(jù)的方法可以放在Calibre等驗(yàn)證工具做完光學(xué)臨近修 正之后進(jìn)行。該方法主要涉及坐標(biāo)計(jì)算，由計(jì)算機(jī)自動執(zhí)行的速度非常快，因而處理效率很 高。以很短的處理時(shí)間換取較大的版圖數(shù)據(jù)壓縮比，是富有價(jià)值的。實(shí)驗(yàn)表明，本申請可以 將版圖數(shù)據(jù)文件的大小普遍減小30%~50%，個(gè)別情況下甚至可達(dá)70%以上，這大大縮短了 版圖數(shù)據(jù)文件的傳送時(shí)間。
【附圖說明】
[0022] 圖Ia~圖Ig是OASIS格式提供的七種圖形陣列的示意圖；
[0023] 圖2a~圖2d是本申請利用OASIS圖形陣列壓縮版圖數(shù)據(jù)的方法的流程圖；
[0024] 圖3是疊加方案一的流程圖；
[0025] 圖4是疊加方案二的流程圖；
[0026] 圖5是疊加方案二的流程圖；
[0027] 圖6是一層版圖的簡單示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0028] 目前版圖數(shù)據(jù)文件的主流格式有GDSII、OASIS兩種，后者出現(xiàn)得較晚，但具備許 多優(yōu)勢，正在得到日益廣泛的使用。相比于⑶SII格式，OASIS格式提供了較多的圖形陣列 存儲方式。所述圖形陣列是指在平面上按一定規(guī)律分布的多個(gè)形狀和尺寸均相同的圖形。
[0029] OASIS格式的版圖數(shù)據(jù)文件所支持的圖形陣列包括如下七類：
[0030] 請參閱圖la，第一類圖形陣列是在X軸和Y軸方向均勻分布的二維陣列。假設(shè)為 m行Xn列，如果以單個(gè)圖形進(jìn)行存儲，則每個(gè)圖形需要7字節(jié)，因而總共需要7XmXn字 節(jié)。而采用第一類圖形陣列進(jìn)行存儲，僅需要11字節(jié)，壓縮比為llA7XmXn)。
[0031] 請參閱圖lb，第二類圖形陣列是在X軸方向均勻分布的一維陣列。假設(shè)為m個(gè)，如 果以單個(gè)圖形進(jìn)行存儲，則每個(gè)圖形需要7字節(jié)，因而總共需要7Xm字節(jié)。而采用第二類 圖形陣列進(jìn)行存儲，僅需要9字節(jié)，壓縮比為9八7Xm)。
[0032] 請參閱圖lc，第三類圖形陣列是在Y軸方向均勻分布的一維陣列。假設(shè)為n個(gè)，如 果以單個(gè)圖形進(jìn)行存儲，則每個(gè)圖形需要7字節(jié)，因而總共