顯示面板、觸控顯示裝置、顯示面板制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本公開涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體地涉及一種顯示面板及其制作方法、觸控顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在社會需求信息化的同時，人們對信息顯示有著極大的需求，目前市場上最為通用的顯示方式則是液晶顯示器。液晶顯示器利用電場控制液晶旋轉(zhuǎn)來實現(xiàn)灰度顯示，借助彩膜進(jìn)而實現(xiàn)彩色顯示。它具有薄型、輕量、低功耗等優(yōu)良的性能，并且早已應(yīng)用于電腦、電視以及移動終端設(shè)備顯示器。
[0003]為了更好地實現(xiàn)人機交互功能，觸控屏應(yīng)運而生，但是觸控屏中待解決的問題還非常多。特別地，電容觸控屏中一個非常重要的光學(xué)問題，也就是莫爾紋(m0ir6 fringe)問題嚴(yán)重制約著產(chǎn)品的開發(fā)，因而也是設(shè)計時要考慮的約束因素之一。
[0004]圖la、lb、lc分別示意性示出已知的顯示面板100。圖1a所示的第一基板101具有第一周期性結(jié)構(gòu)，圖1b所示的第二基板102具有第二周期性結(jié)構(gòu)。第一基板101和第二基板102堆疊制作顯示面板100時，由于位置偏差等原因，第一和第二周期性結(jié)構(gòu)之間空間拍頻產(chǎn)生間距(pitch)為Pl的莫爾紋，如圖1c所示。該莫爾紋將直接影響產(chǎn)品的視覺效果，降低用戶的視覺體驗。
[0005]目前，通常嘗試將與莫爾紋相關(guān)的周期性結(jié)構(gòu)非均勻化來解決上述莫爾紋問題。但是，這會使得產(chǎn)品工藝難度增大并且降低產(chǎn)品良率。因此，本領(lǐng)域中存在對一種莫爾紋減輕或消除的顯示面板及其制作方法的需求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本公開的目的在于減輕或解決前文所提到的問題的一個或多個。具體而言，本公開提出增加一層新膜層來到減輕或者消除莫爾紋的效果，從而改善產(chǎn)品的視覺效果并且改善用戶的視覺體驗。
[0007]在第一方面，提供了一種顯示面板，所述顯示面板包括第一基板和第二基板，所述第一基板具有第一周期性結(jié)構(gòu)，所述第二基板具有第二周期性結(jié)構(gòu)并且布置在所述第一基板上；并且所述顯示面板還包括莫爾紋抑制層，所述莫爾紋抑制層布置在所述第二基板上并且減小由所述第一和第二周期性結(jié)構(gòu)形成的莫爾紋的間距。
[0008]目前，一般采用使第一周期性結(jié)構(gòu)或第二周期性結(jié)構(gòu)非均勻化的方法來減輕或者消除莫爾紋，但是這會導(dǎo)致工藝難度增大并且降低產(chǎn)品良率。在本公開中，通過在顯示面板中另外提供莫爾紋抑制層，由此減輕或者消除由第一和第二周期性結(jié)構(gòu)之間的空間拍頻產(chǎn)生的莫爾紋，提高顯示面板的顯示質(zhì)量并且改善用戶的視覺體驗。根據(jù)本公開的方案，通過增加一層額外的莫爾紋抑制層即可減輕或者消除莫爾紋，使得工藝難度降低并且提高產(chǎn)品良率。該方案可以用于產(chǎn)品開發(fā)前的避免莫爾紋風(fēng)險設(shè)計，也可以用于產(chǎn)品開發(fā)完成后解決莫爾紋問題。此外，該方案采用簡便的設(shè)計，對所述莫爾紋抑制層的工藝無特殊要求，較為容易實現(xiàn)。
[0009]優(yōu)選地，所述莫爾紋抑制層可以具有第三周期性結(jié)構(gòu)。
[0010]根據(jù)本公開，所述莫爾紋抑制層具有第三周期性結(jié)構(gòu)，使得所述莫爾紋抑制層制作簡單。此外，通過布置第三周期性結(jié)構(gòu)，利用所述第一、第二和第三周期性結(jié)構(gòu)之間的相互作用，可以形成間距減小的莫爾紋或者完全消除莫爾紋。
[0011]優(yōu)選地，所述第三周期性結(jié)構(gòu)與所述第一周期性結(jié)構(gòu)相同；或者所述第三周期性結(jié)構(gòu)與所述第二周期性結(jié)構(gòu)相同。
[0012]根據(jù)本公開，可以從第一基板的第一周期性結(jié)構(gòu)提取莫爾紋抑制層的第三周期性結(jié)構(gòu)，或者可以從第二基板的第二周期性結(jié)構(gòu)提取莫爾紋抑制層的第三周期性結(jié)構(gòu)，這樣實現(xiàn)起來較為方便有效。
[0013]優(yōu)選地，所述第三周期性結(jié)構(gòu)不同于所述第一和第二周期性結(jié)構(gòu)，并且具有長方形或菱形格柵。
[0014]根據(jù)本公開，所述第三周期性結(jié)構(gòu)可以不同于所述第一和第二周期性結(jié)構(gòu)，并且具有長方形或菱形格柵。因此，本公開的莫爾紋抑制層的設(shè)計非常靈活，并且易于實現(xiàn)。另夕卜，通過調(diào)整所述第三周期性結(jié)構(gòu)的周期，可以有效地減小所述莫爾紋的間距。
[0015]優(yōu)選地，所述第三周期性結(jié)構(gòu)相對于所述第一和第二周期性結(jié)構(gòu)偏移布置。
[0016]根據(jù)本公開，通過相對于所述第一和第二周期性結(jié)構(gòu)偏移所述第三周期性結(jié)構(gòu)，可以有效地減小莫爾紋的間距。
[0017]優(yōu)選地，所述第三周期性結(jié)構(gòu)相對于所述第一和第二周期性結(jié)構(gòu)偏轉(zhuǎn)布置。
[0018]根據(jù)本公開，通過相對于所述第一和第二周期性結(jié)構(gòu)偏轉(zhuǎn)所述第三周期性結(jié)構(gòu)，由此可以利用第一、第二和第三周期性結(jié)構(gòu)之間的相互作用使得這三者形成的莫爾紋的間距減小，從而達(dá)到減輕或者消除莫爾紋的目的。
[0019]優(yōu)選地，所述第三周期性結(jié)構(gòu)相對于所述第一周期性結(jié)構(gòu)的偏轉(zhuǎn)角為-5°至
5° ο
[0020]根據(jù)本公開，第一和第二周期性結(jié)構(gòu)之間的偏轉(zhuǎn)角一般為-5°至5°，通過將所述莫爾紋抑制層的第三周期性結(jié)構(gòu)與所述第一基板的第一周期性結(jié)構(gòu)之間的偏轉(zhuǎn)角布置為-5。至5°，可以有效地減輕或者消除莫爾紋。
[0021]優(yōu)選地，所述莫爾紋抑制層可以包括承載層和形成于所述承載層上的所述第三周期性結(jié)構(gòu)。
[0022]根據(jù)本公開，該方案采用簡便的設(shè)計，對所述莫爾紋抑制層的工藝無特殊要求，較為容易實現(xiàn)。
[0023]優(yōu)選地，所述承載層可以由聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)形成，并且所述第三周期性結(jié)構(gòu)可以為由納米銀、石墨烯或銅形成的導(dǎo)電網(wǎng)格。
[0024]根據(jù)本公開，可以利用已知的金屬網(wǎng)格(metal mesh)技術(shù)，在諸如PET的承載層上形成導(dǎo)電網(wǎng)格。
[0025]優(yōu)選地，所述承載層可以由電介質(zhì)材料形成，并且所述第三周期性結(jié)構(gòu)可以由透光性不同于所述承載層的材料形成。
[0026]根據(jù)本公開，利用具有不同透光性的電介質(zhì)材料形成所述承載層和所述第三周期性結(jié)構(gòu)，有助于降低成本。
[0027]優(yōu)選地，所述莫爾紋抑制層可以直接形成于所述第二基板上。
[0028]根據(jù)本公開，可以直接在所述第二基板上沉積電介質(zhì)材料的承載層并且形成相應(yīng)第三周期性結(jié)構(gòu)，使得制作簡單。
[0029]優(yōu)選地，所述莫爾紋抑制層可以為與所述第二基板可分離的部件。
[0030]根據(jù)本公開，所述莫爾紋抑制層可以是分離部件，由此可以通過貼合方式布置在所述第二基板上。在所述莫爾紋抑制層為分離部件的情況下，在將所述莫爾紋抑制層貼合到第二基板上時，可以調(diào)整所述莫爾紋抑制層，有利于更好地消除莫爾紋。此外，所述莫爾紋抑制層可以獨立地預(yù)先制作，然后貼合到第二基板上，由此可以降低工藝線占用時間，有助于降低顯示面板的生產(chǎn)成本。
[0031]優(yōu)選地，所述第一基板可以為彩膜基板，以及所述第二基板可以為觸摸基板。
[0032]根據(jù)本公開，所述彩膜基板上的黑矩陣形成所述第一周期性結(jié)構(gòu)，所述觸摸基板上的金屬網(wǎng)格觸摸電極形成所述第二周期性結(jié)構(gòu)。目前廠商積極推進(jìn)金屬網(wǎng)格技術(shù)以替代ITO用于觸控顯示(即GlM方案)，但是金屬網(wǎng)格的周期性結(jié)構(gòu)將會與液晶模組中彩膜基板上黑矩陣的周期性結(jié)構(gòu)產(chǎn)生空間拍頻效應(yīng)，由此產(chǎn)生人眼可識別的莫爾紋。本公開可以有效地解決GlM方案中的莫爾紋問題。
[0033]在第二方面，本公開提供了一種觸摸顯示裝置，其包括上文所述的顯示面板。
[0034]在第三方面，本公開提供了一種顯示面板的制作方法，包括:
51、準(zhǔn)備第一基板，其具有第一周期性結(jié)構(gòu)；
52、在所述第一基板上布置第二基板，其具有第二周期性結(jié)構(gòu)；以及
53、在所述第二基板上布置莫爾紋抑制層以減小由所述第一和第二周期性結(jié)構(gòu)形成的莫爾紋的間距。
[0035]優(yōu)選地，所述步驟S3可以包括:在所述第二基板上布置所述莫爾紋抑制層，其中所述莫爾紋抑制層具有第三周期性結(jié)構(gòu)。
[0036]優(yōu)選地，所述步驟S3可以包括:在所述第二基板上布置所述莫爾紋抑制層，其中從所述第一周期性結(jié)構(gòu)或所述第二周期性結(jié)構(gòu)提取所述莫爾紋抑制層的第三周期性結(jié)構(gòu)。
[0037]優(yōu)選地，所述步驟S3可以包括:形成不同于所述第一和第二周期性結(jié)構(gòu)的所述第三周期性結(jié)構(gòu)，其中所述第三周期性結(jié)構(gòu)具有長方形或菱形格柵。
[0038]優(yōu)選地，所述步驟S3可以包括:在所述第二基板上布置所述莫爾紋抑制層，以及相對于所述第一和第二周期性結(jié)構(gòu)偏移布置所述第三周期性結(jié)構(gòu)。
[0039]優(yōu)選地，所述步驟S3可以包括:在所述第二基板上布置所述莫爾紋抑制層，以及相對于所述第一和第二周期性結(jié)構(gòu)偏轉(zhuǎn)布置所述第三周期性結(jié)構(gòu)。
[0040]優(yōu)選地，所述第三周期性結(jié)構(gòu)相對于所述第一周期性結(jié)構(gòu)可以偏轉(zhuǎn)-5°至5°。
[0041]優(yōu)選地，所述步驟S3可以包括:準(zhǔn)備承載層；以及在所述承載層上形成所述第三周期性結(jié)構(gòu)。
[0042]優(yōu)選地，所述步驟S3可以包括:利用聚對苯二甲酸乙二醇酯形成所述承載層；以及利用納米銀、石墨烯或銅的導(dǎo)電網(wǎng)格形成所述第三周期性結(jié)構(gòu)。
[0043]優(yōu)選地，所述步驟S3可以包括:利用電介質(zhì)材料形成